3,5-亚甲基环戊二烯并[d]-1,2-氧杂硫醇-6-醇,六氢-,2,2-二氧化(9CI) | 15486-54-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 脂质和类脂质分子 - 异戊烯醇脂质
• 中文名称: 3,5-亚甲基环戊二烯并[d]-1,2-氧杂硫醇-6-醇,六氢-,2,2-二氧化(9CI)
• 中文别名: 4-氧杂-5-硫杂三环[4.2.1.03,7]壬烷-2-醇5,5-二氧化物
• 英文名称: 2-hydroxy-4-oxa-5-thiatricyclo[4.2.1.0³,⁷]nonane-5,5-dioxide
• 英文别名: 3-Hydroxy-bicyclo<2.2.1>heptan-2,6-sulfon；3,5-Methanocyclopent[d]-1,2-oxathiol-6-ol,hexahydro-,2,2-dioxide(9CI)；5,5-dioxo-4-oxa-5λ6-thiatricyclo[4.2.1.03,7]nonan-2-ol
• CAS: 15486-54-1
• 化学式: C₇H₁₀O₄S
• 分子量: 190.22
• InChiKey: FINFXYAYRYNUNQ-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  137.5-138 °C
• 沸点：
  439.7±28.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.635±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -0.3
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  72
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  3,5-亚甲基环戊二烯并[d]-1,2-氧杂硫醇-6-醇,六氢-,2,2-二氧化(9CI) 在 对甲苯磺酸 作用下， 以 正己烷 、 水 、 甲苯 、 乙腈 为溶剂， 反应 25.0h， 生成
  参考文献：
  名称：

  암모늄염 화합물의 제조 방법, 화합물의 제조 방법, 그리고, 화합물, 고분자 화합물, 산 발생제, 레지스트 조성물 및 레지스트 패턴 형성 방법

  摘要：

  这是一种制备第二铵盐化合物的方法，其中使用具有孤对电子的氮化合物与第一铵盐化合物反应，制备出第二铵盐化合物。第一铵盐化合物可以是一级、二级或三级第一铵阳离子，该氮化合物的共价酸比第一铵阳离子的酸解离常数（pKa）大。该方法制备的铵盐化合物，以及具有比该氮化合物的共价酸更高的疏水性的铊阳离子或碘阳离子进行离子交换的化合物的制备方法。

  公开号：

  KR101582002B1
• 作为产物：
  描述：

  5-norbornene-2-sulfonic acid sodium salt 在 甲酸 、 双氧水 作用下， 以 水 为溶剂， 反应 20.0h， 生成 3,5-亚甲基环戊二烯并[d]-1,2-氧杂硫醇-6-醇,六氢-,2,2-二氧化(9CI)
  参考文献：
  名称：

  PRODUCTION METHOD FOR SULTONE DERIVATIVES

  摘要：

  提供了一种可以在工业上以高纯度生产2-羟基-4-氧杂-5-硫杂三环[4.2.1.0 3,7 ]壬烷5,5-二氧化物衍生物的方法，该方法是从高纯度且工业上可获得的原料中以高产率获得的。 本发明中硫酸酯衍生物的生产方法包括以下步骤（A）：通过水解以下化学式1所示的磺酰卤化物衍生物或其对应体，获得磺酸衍生物： 以及步骤（B）：通过用氧化剂处理磺酸衍生物，获得相应的硫酸酯衍生物，如下化学式2所示或其对应体。

  公开号：

  US20110160465A1

文献信息

• PRODUCTION METHOD FOR SULTONE DERIVATIVES
  申请人：Nakayama Osamu

  公开号：US20110160465A1

  公开（公告）日：2011-06-30

  There is provided a means to produce industrially a highly pure 2-hydroxy-4-oxa-5-thiatricyclo[4.2.1.0 3,7 ]nonane 5,5-dioxide derivative in high yield from highly pure and industrially available raw materials. The production method for a sultone derivative of the present invention comprises a step (A) to obtain a sulfonic acid derivative by hydrolyzing a sulfonyl halide derivative represented by the following chemical formula 1: or an enantiomer thereof and a step (B) to obtain a corresponding sultone derivative represented by the following chemical formula 2: or an enantiomer thereof by treating the sulfonic acid derivative with a oxidizing agent.

  提供了一种可以在工业上以高纯度生产2-羟基-4-氧杂-5-硫杂三环[4.2.1.0 3,7 ]壬烷5,5-二氧化物衍生物的方法，该方法是从高纯度且工业上可获得的原料中以高产率获得的。 本发明中硫酸酯衍生物的生产方法包括以下步骤（A）：通过水解以下化学式1所示的磺酰卤化物衍生物或其对应体，获得磺酸衍生物： 以及步骤（B）：通过用氧化剂处理磺酸衍生物，获得相应的硫酸酯衍生物，如下化学式2所示或其对应体。
• RESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, NOVEL COMPOUND, AND ACID GENERATOR
  申请人：HADA Hideo

  公开号：US20120264061A1

  公开（公告）日：2012-10-18

  A resist composition including a base component (A) which exhibits changed solubility in an alkali developing solution under action of acid and an acid-generator component (B) including a compound represented by (b1-1), a compound represented by (b1-1′) and/or a compound represented by (b1-1″) (R 1 ″-R 3 ″ represents an aryl group or an alkyl group, provided that at least one of R 1 ″-R 3 ″ represents a substituted aryl group being substituted with a group represented by (b1-1-0), and two of R 1 ″-R 3 ″ may be mutually bonded to form a ring with the sulfur atom; X represents a C 3 -C 30 hydrocarbon group; Q 1 represents a carbonyl group-containing divalent linking group; X 10 represents a C 1 -C 30 hydrocarbon group; Q 3 represents a single bond or a divalent linking group; Y 10 represents —C(═O)— or —SO 2 —; Y 11 represents a C 1 -C 10 alkyl group or a fluorinated alkyl group: Q 2 represents a single bond or an alkylene group; and W represents a C 2 -C 10 alkylene group).

  一种抗蚀组合物，包括在酸和酸发生剂组分（B）的作用下，在碱性显影溶液中表现出改变溶解性的基础组分（A），所述酸发生剂组分（B）包括由（b1-1）表示的化合物，由（b1-1'）表示的化合物和/或由（b1-1''）表示的化合物（R1''-R3''表示芳基或烷基，但至少其中一个R1''-R3''表示被(b1-1-0)表示的基团取代的取代芳基，且其中两个R1''-R3''可以相互键合以形成与硫原子形成环的环；X表示C3-C30烃基；Q1表示含有羰基的二价连接基团；X10表示C1-C30烃基；Q3表示单键或二价连接基团；Y10表示—C(═O)—或—SO2—；Y11表示C1-C10烷基或氟代烷基；Q2表示单键或烷基基团；W表示C2-C10烷基基团。
• Resist composition, method of forming resist pattern, novel compound, and acid generator
  申请人：Kawaue Akiya

  公开号：US20100136478A1

  公开（公告）日：2010-06-03

  A resist composition including a base component (A) which exhibits changed solubility in an alkali developing solution under action of acid and an acid-generator component (B) which generates acid upon exposure, the acid-generator component (B) including an acid generator (B1) containing a compound having a cation moiety represented by general formula (I) (in the formula, R 5 represents an organic group having a carbonyl group, an ester bond or a sulfonyl group; and Q represents a divalent linking group).

  一种抗蚀组合物，包括在酸发生剂的作用下在碱性显影溶液中表现出改变溶解度的基础组分（A）和在暴露后产生酸的酸发生剂组分（B），酸发生剂组分（B）包括含有由通式（I）表示的阳离子基团的化合物的酸发生剂（B1）（在该式中，R5代表具有羰基、酯键或磺酰基的有机基团；Q代表二价连接基团）。
• Resist composition, method of forming resist pattern, novel compound and acid generator
  申请人：Kawaue Akiya

  公开号：US20100196820A1

  公开（公告）日：2010-08-05

  A resist composition including a base component (A) which exhibits changed solubility in an alkali developing solution under action of acid and an acid-generator component (B) which generates acid upon exposure, the acid-generator component (B) including an acid generator (B1) containing a compound having a cation moiety represented by general formula (I) (in the formula, R 5 represents a hydrogen atom or an organic group of 1 to 30 carbon atoms which may have a substituent; and Q 5 represents a single bond or a divalent linking group).

  一种抗蚀组合物，包括在酸处理下在碱性显影溶液中表现出溶解性变化的基础组分（A）和在暴露后生成酸的酸生成组分（B），酸生成组分（B）包括含有由通式（I）表示的阳离子基团的酸生成剂（B1）（在该式中，R5代表氢原子或具有1至30个碳原子的有可能具有取代基的有机基团；Q5代表单键或二价连接基团）。
• Compound, resin and photoresist composition
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US09233945B2

  公开（公告）日：2016-01-12

  A resin comprising a structural unit represented by formula (aa): wherein T1 represents a C3-C34 sultone ring group optionally having a substituent, X1 represents —O— or —N(Rc)—, Rc represents a hydrogen atom or a C1-C6 alkyl group, Z1 represents —X2— or —X3—X4—CO—X5—, where X2, X3 and X5 independently each represent a C1-C6 alkanediyl group, X4 represents —O— or —N(Rd)—, and Rd represents a hydrogen atom or a C1-C6 alkyl group, and R1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, or a C1-C6 alkyl group optionally having a halogen atom.

  一种树脂，包括由式（aa）表示的结构单元：其中T1代表可选地具有取代基的C3-C34砜环团，X1代表—O—或—N(Rc)—，Rc代表氢原子或C1-C6烷基团，Z1代表—X2—或—X3—X4—CO—X5—，其中X2、X3和X5分别独立地代表C1-C6烷二基团，X4代表—O—或—N(Rd)—，Rd代表氢原子或C1-C6烷基团，以及R1代表氢原子、卤原子或可选地具有卤原子的C1-C6烷基团。