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bicyclo[2.2.1]heptane-2-acetic acid 2,2-difluoro-2-sulfoethyl ester sodium salt | 1187544-48-4

中文名称
——
中文别名
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英文名称
bicyclo[2.2.1]heptane-2-acetic acid 2,2-difluoro-2-sulfoethyl ester sodium salt
英文别名
Sodium;2-[2-(2-bicyclo[2.2.1]heptanyl)acetyl]oxy-1,1-difluoroethanesulfonate
bicyclo[2.2.1]heptane-2-acetic acid 2,2-difluoro-2-sulfoethyl ester sodium salt化学式
CAS
1187544-48-4
化学式
C11H15F2O5S*Na
mdl
——
分子量
320.29
InChiKey
JXBUYGMVVWINRS-UHFFFAOYSA-M
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    -1.5
  • 重原子数:
    20
  • 可旋转键数:
    6
  • 环数:
    2.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.91
  • 拓扑面积:
    91.9
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    7

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    bicyclo[2.2.1]heptane-2-acetic acid 2,2-difluoro-2-sulfoethyl ester sodium salt(4-甲基苯基)二苯基锍三氟甲烷基磺酸二氯甲烷 为溶剂, 反应 3.0h, 以81.7%的产率得到bicyclo[2.2.1]heptane-2-acetic acid 2,2-difluoro-2-sulfoethyl ester diphenyl(4-methylphenyl)sulfonium salt
    参考文献:
    名称:
    Acid generating agent for chemically amplified resist compositions
    摘要:
    提供用于化学增强抗蚀配方的酸发生剂,该剂由以下式(1)表示:其中X代表具有3至30个碳原子的单环或多环碳氢基团,并且环上至少有一个氢原子被烷基或烷氧基取代,该基团可以未取代或者取代为从醚基团、酯基团、羰基团、缩醛基团、环氧基团、腈基团和醛基团中选择的基团,或者被全氟烷基团、羟基烷基团或氰基团取代;R6是烷基团、烷氧基团或从N、S和F组成的杂原子中选择的杂原子;m是从0到2的整数;A+是有机对离子。
    公开号:
    US20090234155A1
  • 作为产物:
    描述:
    1,1-difluoro-2-hydroxyethanesulfonic acid sodium salt2-norbornaneacetyl chloride三乙胺 作用下, 以 二氯甲烷 为溶剂, 以91.7%的产率得到bicyclo[2.2.1]heptane-2-acetic acid 2,2-difluoro-2-sulfoethyl ester sodium salt
    参考文献:
    名称:
    Acid generating agent for chemically amplified resist compositions
    摘要:
    提供用于化学增强抗蚀配方的酸发生剂,该剂由以下式(1)表示:其中X代表具有3至30个碳原子的单环或多环碳氢基团,并且环上至少有一个氢原子被烷基或烷氧基取代,该基团可以未取代或者取代为从醚基团、酯基团、羰基团、缩醛基团、环氧基团、腈基团和醛基团中选择的基团,或者被全氟烷基团、羟基烷基团或氰基团取代;R6是烷基团、烷氧基团或从N、S和F组成的杂原子中选择的杂原子;m是从0到2的整数;A+是有机对离子。
    公开号:
    US20090234155A1
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文献信息

  • Acid generating agent for chemically amplified resist compositions
    申请人:Oh Jung-Hoon
    公开号:US20090234155A1
    公开(公告)日:2009-09-17
    An acid generating agent used for chemically amplified resist compositions is provided, which agent is represented by the following formula (1): wherein X represents a monocyclic or polycyclic hydrocarbon group having 3 to 30 carbon atoms, and having at least one hydrogen atom on the ring substituted by an alkyl or alkoxy group which and may be unsubstituted or substituted with a group selected from an ether group, an ester group, a carbonyl group, an acetal group, an epoxy group, a nitrile group and an aldehyde group, or by a perfluoroalkyl group, a hydroxyalkyl group, or a cyano group; R 6 is an alkyl group, an alkoxy group, or a heteroatom selected from the group consisting of N, S and F; m is an integer from 0 to 2; and A+ is an organic counterion.
    提供用于化学增强抗蚀配方的酸发生剂,该剂由以下式(1)表示:其中X代表具有3至30个碳原子的单环或多环碳氢基团,并且环上至少有一个氢原子被烷基或烷氧基取代,该基团可以未取代或者取代为从醚基团、酯基团、羰基团、缩醛基团、环氧基团、腈基团和醛基团中选择的基团,或者被全氟烷基团、羟基烷基团或氰基团取代;R6是烷基团、烷氧基团或从N、S和F组成的杂原子中选择的杂原子;m是从0到2的整数;A+是有机对离子。
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