[2-[(5,5-Dioxo-4-oxa-5lambda6-thiatricyclo[4.2.1.03,7]nonan-2-yl)oxy]-2-oxoethyl] 2-methylprop-2-enoate | 1135824-87-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 脂质和类脂质分子 - 异戊烯醇脂质
• 英文名称: [2-[(5,5-Dioxo-4-oxa-5lambda6-thiatricyclo[4.2.1.03,7]nonan-2-yl)oxy]-2-oxoethyl] 2-methylprop-2-enoate
• 英文别名: [2-[(5,5-dioxo-4-oxa-5λ6-thiatricyclo[4.2.1.03,7]nonan-2-yl)oxy]-2-oxoethyl] 2-methylprop-2-enoate
• CAS: 1135824-87-1
• 化学式: C₁₃H₁₆O₇S
• 分子量: 316.332
• InChiKey: IQISSLLFMFRKRH-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.2
• 重原子数：
  21
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.69
• 拓扑面积：
  104
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  7

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  3,5-亚甲基环戊二烯并[d]-1,2-氧杂硫醇-6-醇,六氢-,2,2-二氧化(9CI) 、 carboxymethyl methacrylate 在 4-二甲氨基吡啶 、 ethyldiisopropylaminocarbodiimide hydrochloride 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 生成 [2-[(5,5-Dioxo-4-oxa-5lambda6-thiatricyclo[4.2.1.03,7]nonan-2-yl)oxy]-2-oxoethyl] 2-methylprop-2-enoate
  参考文献：
  名称：

  ACRYLATE DERIVATIVES, ALCOHOL DERIVATIVES, AND METHOD FOR PRODUCING THEM

  摘要：

  提供一种丙烯酸酯衍生物，作为聚合物化合物的原材料，用于制备抗蚀组分，能够产生卓越的光刻性能和良好形状的抗蚀图案，其中包括其中间体（醇衍生物）和其生产工艺。具体来说，它是一种由下式表示的丙烯酸酯衍生物：（其中R1代表氢原子、甲基或三氟甲基；R2、R3、R5、R7、R8、R9和R10各自独立地代表氢原子、具有1至6个碳原子的烷基、具有3至6个碳原子的环烷基或具有1至6个碳原子的烷氧基；R4和R6各自独立地代表氢原子、具有1至6个碳原子的烷基、具有3至6个碳原子的环烷基或具有1至6个碳原子的烷氧基，或R4和R6中的两个都组合起来表示具有1至3个碳原子的烷基、-O-或-S-；R11代表氢原子、具有1至6个碳原子的烷基或具有3至10个碳原子的环烃基）。

  公开号：

  US20120071667A1

文献信息

• SALT, RESIN, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US20160052877A1

  公开（公告）日：2016-02-25

  A salt represented by the formula (I); wherein Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom or a C 1 to C 6 perfluoroalkyl group, L b1 represents a single bond or a divalent C 1 to C 24 saturated hydrocarbon groupwhere a methylene group may be replaced by an oxygen atom or a carbonyl group and where a hydrogen atom may be replaced by a hydroxyl group or a fluorine atom, and Y represents a hydrogen atom, a fluorine atom, or an optionally substituted C 3 to C 18 alicyclic hydrocarbon groupwhere a methylene group may be replaced by an oxygen atom, a carbonyl group or a sulfonyl group; and Ar represents a divalent C 6 to C 20 aromatic hydrocarbon group, and Z + represents an organic sulfonium cation or an organic iodonium cation.

  根据您的要求，以下是化合物的中文翻译： 由公式(I)表示的盐； 其中Q1和Q2各自独立代表一个氟原子或一个C1至C6的过氟代烷基团，Lb1代表一个单键或一个二价的C1至C24的饱和烃基团，其中甲基烯基团可以被一个氧原子或一个羰基团所取代，并且其中氢原子可以被一个羟基或一个氟原子所取代，并且Y代表一个氢原子，一个氟原子，或一个可选地被取代的C3至C18的芳环烃基团，其中甲基烯基团可以被一个氧原子，一个羰基团或一个磺酰基团所取代；并且Ar代表一个二价的C6至C20的芳香烃基团，以及Z+代表一个有机硫正离子或一个有机碘正离子。
• RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST PATTERN-FORMING METHOD, COMPOUND AND METHOD OF GENERATING ACID
  申请人：JSR CORPORATION

  公开号：US20200341376A1

  公开（公告）日：2020-10-29

  A radiation-sensitive resin composition contains: a polymer that includes a structural unit including an acid-labile group; and a radiation-sensitive acid generating agent. The radiation-sensitive acid generating agent includes a sulfonate anion and a radiation-sensitive cation. The sulfonate anion includes two or more rings, and an iodine atom and a monovalent group having 0 to 10 carbon atoms which includes at least one of an oxygen atom and a nitrogen atom bond to at least one of the two or more rings. The ring is preferably an aromatic ring. The radiation-sensitive acid generating agent is preferably a compound represented by formula (1). In the formula (1), A 1 represents a group obtained from a compound which includes a ring having 3 to 20 ring atoms by removing (p+q+r+1) hydrogen atoms on the ring.

  一种辐射敏感树脂组合物包含：包括含有酸敏感基团的结构单元的聚合物；和辐射敏感酸发生剂。辐射敏感酸发生剂包括磺酸根离子和辐射敏感阳离子。磺酸根离子包括两个或两个以上的环，以及一个碘原子和一个含有0至10个碳原子的一价基团，其中该基团至少包括一个氧原子和一个氮原子，与两个或两个以上的环中的至少一个结合。环最好是芳香环。辐射敏感酸发生剂最好是由式（1）表示的化合物。在式（1）中，A1表示通过去除环上（p+q+r+1）个氢原子而获得的由含有3至20个环原子的环的化合物得到的基团。
• MONOMER, POLYMER, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US20140045123A1

  公开（公告）日：2014-02-13

  A polymer comprising recurring units derived from a (meth)acrylate monomer of tertiary ester type having branched alkyl on alicycle is used to form a resist composition. When subjected to exposure, PEB and organic solvent development, the resist composition is improved in dissolution contrast.

  一种聚合物，包括由具有支链烷基的萜酸酯单体衍生的重复单元，用于形成抗蚀组合物。在经过曝光、PEB和有机溶剂显影处理后，抗蚀组合物在溶解对比度方面得到改善。
• RESIST COMPOSITION, PATTERNING PROCESS, AND BARIUM, CESIUM AND CERIUM SALTS
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US20170115566A1

  公开（公告）日：2017-04-27

  A resist composition comprising a base resin comprising acid labile group-containing recurring units and preferably acid generator-containing recurring units, and a sodium, magnesium, potassium, calcium, rubidium, strontium, yttrium, cesium, barium or cerium salt of α-fluorinated sulfonic acid bonded to an alkyl, alkenyl, alkynyl or aryl group exhibits a high resolution and sensitivity and forms a pattern of satisfactory profile with minimal LWR after exposure and development.

  一种抗蚀组合物包括基树脂，其中包含含酸敏感基团的重复单元，最好包含含酸发生剂的重复单元，以及与烷基、烯基、炔基或芳基结合的α-氟磺酸的钠、镁、钾、钙、铷、锶、钇、铯、钡或铈盐，表现出高分辨率和灵敏度，并在曝光和显影后形成具有最小LWR的满意轮廓图案。
• Resist composition, method of forming resist pattern, novel compound, and acid generator
  申请人：Kawaue Akiya

  公开号：US20100136478A1

  公开（公告）日：2010-06-03

  A resist composition including a base component (A) which exhibits changed solubility in an alkali developing solution under action of acid and an acid-generator component (B) which generates acid upon exposure, the acid-generator component (B) including an acid generator (B1) containing a compound having a cation moiety represented by general formula (I) (in the formula, R 5 represents an organic group having a carbonyl group, an ester bond or a sulfonyl group; and Q represents a divalent linking group).

  一种抗蚀组合物，包括在酸发生剂的作用下在碱性显影溶液中表现出改变溶解度的基础组分（A）和在暴露后产生酸的酸发生剂组分（B），酸发生剂组分（B）包括含有由通式（I）表示的阳离子基团的化合物的酸发生剂（B1）（在该式中，R5代表具有羰基、酯键或磺酰基的有机基团；Q代表二价连接基团）。