1-(3-Butenoxy)-norbornan | 61192-18-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 脂质和类脂质分子 - 异戊烯醇脂质
• 英文名称: 1-(3-Butenoxy)-norbornan
• 英文别名: 1-[(But-3-en-1-yl)oxy]bicyclo[2.2.1]heptane；1-but-3-enoxybicyclo[2.2.1]heptane
• CAS: 61192-18-5
• 化学式: C₁₁H₁₈O
• 分子量: 166.263
• InChiKey: CAFNNEFGZHAJKN-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.7
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.82
• 拓扑面积：
  9.2
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  四氢呋喃 、 1-碘-二环(2.2.1)庚烷 反应 8.0h， 生成 1-(3-Butenoxy)-norbornan
  参考文献：
  名称：

  卤代烷的光化学。4. 1-降冰片基、1-降冰片基甲基、1-和2-金刚烷基以及1-辛基溴化物和碘化物

  摘要：

  已经观察到许多卤代烷具有竞争性的离子和自由基光行为。报告了每种卤化物的亲核取代和还原产物的比例。研究了乙二醇、三乙胺和甲醇的溶剂效应以及氮气、氧气和空气的大气效应。报告了用甲醇-Od 辐照卤化物的效果。根据碳 - 卤素键的初始均裂以提供自由基对来讨论结果，该自由基对经历竞争性扩散和夺氢以产生还原产物和电子转移以提供离子对。离子对反过来产生取代和消除产物。(DDA)

  DOI：

  10.1021/ja00441a043

文献信息

• Acrylic or methacrylic acid derivatives and polymers obtained therefrom
  申请人：WAKO PURE CHEMICAL INDUSTRIES, LTD

  公开号：EP0875496A1

  公开（公告）日：1998-11-04

  A monomer of the formula: wherein R5, R6 and R7 are independently hydrogen, alkyl, cyano, alkyloxycarbonyl or carbamoyl; Z is a spacer or a direct link; and R is hydroxyalkyl having a protected terminal hydroxy, can produce a polymer useful for producting a resist composition.

  式中的单体： 其中 R5、R6 和 R7 分别独立地为氢、烷基、氰基、烷氧羰基或氨基甲酰基；Z 为间隔物或直接连接；R 为具有保护端羟基的羟烷基。
• Resist composition and its use for forming pattern
  申请人：WAKO PURE CHEMICAL INDUSTRIES, LTD

  公开号：EP0875789A1

  公开（公告）日：1998-11-04

  A resist composition comprising (a) a polymer having repeating units of the formula: wherein R5, R6 and R7 are independently hydrogen, alkyl, cyano, alkyloxycarbonyl or carbamoyl; Z is a spacer or a direct link; and R is hydroxyalkyl having a protected terminal hydroxy, (b) a photoacid generator, and (c) a solvent, is effective for forming patterns using ArF excimer laser beams.

  一种抗蚀剂组合物，包括(a)具有式中重复单元的聚合物： 其中 R5、R6 和 R7 独立地是氢、烷基、氰基、烷氧羰基或氨基甲酰基；Z 是间隔物或直接连接；R 是具有保护端羟基的羟烷基；(b) 光酸发生器；(c) 溶剂，可有效地使用 ArF 准分子激光束形成图案。
• A novel monomer and a polymer obtained therefrom
  申请人：Wako Pure Chemical Industies, Ltd.

  公开号：EP0918048A1

  公开（公告）日：1999-05-26

  This invention relates to a monomer shown by the general formula [1] (wherein X' is a cyclic hydrocarbon residue containing polymerizable double bond(s), which may have a substituent, Z is a spacer or a direct bond and R is a substituted alkyl or alkenyl group having one or two protected hydroxyl groups as substituent) and a polymer containing a segment derived from the above monomer. The said polymer is useful for a resist composition, etc. utilized in the production of semiconductor elements, etc. and the said monomer is useful as a starting material for the polymer, and a resist composition using the said polymer can remarkably advantageously be used as a resist material for ArF excimer laser beams which has been considered to be a valuable technology for exposure belonging to the coming generation.

  本发明涉及通式[1]所示的单体 (其中，X'是含有可聚合双键的环状烃残基，该双键可能具有取代基；Z是间隔键或直接键；R是具有一个或两个受保护羟基作为取代基的取代烷基或烯基）和含有从上述单体衍生的段的聚合物。 上述聚合物可用于半导体元件等生产中使用的抗蚀剂组合物等，上述单体可用作聚合物的起始材料，使用上述聚合物的抗蚀剂组合物可非常有利地用作 ArF 准分子激光束的抗蚀剂材料，而 ArF 准分子激光束被认为是下一代有价值的曝光技术。
• US6160068A
  申请人：——

  公开号：US6160068A

  公开（公告）日：2000-12-12
• US6331602B1
  申请人：——

  公开号：US6331602B1

  公开（公告）日：2001-12-18