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4,4’-二(甲氧基甲基)二苯醚 | 2509-26-4

中文名称
4,4’-二(甲氧基甲基)二苯醚
中文别名
1-(甲氧基甲基)-4-[4-(甲氧基甲基)苯氧基]苯;4,4'-二(甲氧基甲基)二苯醚;4,4"-二(甲氧基甲基)二苯醚
英文名称
4,4'-Bis-methoxymethyl diphenyl ether
英文别名
4,4'-dimethoxymethyldiphenyl ether;bis(α-methoxy-p-tolyl) ether;4,4'-bis(methoxymethyl)diphenyl ether;Bis-<4-methoxymethyl-phenyl>-aether;4,4'-Bis-methoxymethyl-diphenylether;Bis(alpha-methoxy-p-tolyl) ether;1-(methoxymethyl)-4-[4-(methoxymethyl)phenoxy]benzene
4,4’-二(甲氧基甲基)二苯醚化学式
CAS
2509-26-4
化学式
C16H18O3
mdl
MFCD00082840
分子量
258.317
InChiKey
BMWBYLGWPWDACF-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

物化性质

  • 沸点:
    158-161℃/2Torr
  • 密度:
    1.1015 g/cm3

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    2.8
  • 重原子数:
    19
  • 可旋转键数:
    6
  • 环数:
    2.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.25
  • 拓扑面积:
    27.7
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    3

安全信息

  • 海关编码:
    2909309090

SDS

SDS:e391adb562857a90d0fc3fb7a7e427bf
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上下游信息

  • 上游原料
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    2-甲氧基-4-(苯基氨基)偶氮苯4,4’-二(甲氧基甲基)二苯醚2,4,6-trimethylbenzenesulfonate乙二醇甲醚 为溶剂, 以4.9 g of a polyvinylformal resin commercially available from Monsanto as "Formvar 12/85", 4.9 g of a polymeric condensation product of 4-(phenylamino)-2-methoxybenzene diazonium salt and bis-(4-methoxymethylphenyl) ether, isolated in the form of a mesitylene-sulfonate的产率得到聚乙烯醇缩甲醛
    参考文献:
    名称:
    Preparation of diazo printing plates using laser exposure
    摘要:
    本发明涉及一种用于制备印刷版的光化学过程的改进,其中包括在支撑物上涂覆光敏组分的印刷版,暴露于激光光的模式下,该光的强度根据输入信息的源进行调制,随后通过去除未暴露于激光光模式下的光敏涂层组分来开发该印刷版。该改进包括利用由激光产生的激光光模式,并利用作为光敏组分的混合物,其基本上由以下成分组成:(1)对氨基苯偶氮化合物的负作用缩合物,以足够的有效量存在于该光敏组分中,使其对激光光敏感,(2)一种色料,能够吸收在大约450-550纳米的波长范围内的光,该色料能够在大于约450纳米的波长下选择性地使缩合物对该激光光敏感,所述色料从偶氮,三芳基甲烷,三苯甲烷,黄原和甲烯化合物的组中选择。
    公开号:
    US04248959A1
  • 作为产物:
    描述:
    sodium methylate对二甲苯基醚偶氮二异丁腈 作用下, 以 甲醇 为溶剂, 反应 5.0h, 以92.8%的产率得到4,4’-二(甲氧基甲基)二苯醚
    参考文献:
    名称:
    4,4′-二烷氧基甲基二苯醚的制备方法
    摘要:
    本发明提供了一种4,4′‑二烷氧基甲基二苯醚的制备方法,包括以下步骤:将溴素、4,4′‑二甲基二苯醚和引发剂在有机溶剂中进行溴代反应,得到溴代产物;将所述溴代产物冷却后与醇钠混合,得到醚化反应体系;将所述醚化反应体系升温,进行醚化反应,得到4,4′‑二烷氧基甲基二苯醚。与现有技术相比,本发明提供的制备方法在保证产率的前提下能够大大提高产物的纯度。本发明实施例的结果表明,本申请提供的方法制备4,4′‑二烷氧基甲基二苯醚的产率均大于50%,产物纯度均高于99.5%。
    公开号:
    CN106008174A
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文献信息

  • Dialo printing plate made from laser
    申请人:American Hoechst Corporation
    公开号:US04486529A1
    公开(公告)日:1984-12-04
    This invention relates to an improvement in a photochemical process for the preparation of printing plates wherein a printing plate comprising a photosensitive composition coated on a support is exposed to a pattern of laser light, the intensity of which is modulated in accordance with an input source of information and said printing plate is subsequently developed by removal from said support of that portion of the photosensitive coating composition which is not exposed to said pattern of laser light, the improvement comprising utilizing a pattern of laser light generated by a laser at a wavelength greater than about 450 nm, and utilizing as a photosensitive composition a negative-working condensate of a para-aminobenzene diazonium compound, said compound being present in a quality of at least 25% of the total coating weight.
    本发明涉及一种用于制备印刷版的光化学过程的改进方法,其中包括在支撑物上涂覆一种光敏组合物的印刷版,将该印刷版暴露于激光光图案中,其强度根据信息源进行调制,随后通过从所述支撑物中去除未暴露于所述激光光图案的光敏涂层组成部分来开发该印刷版,所述改进方法包括利用由波长大于约450nm的激光产生的激光光图案,并利用作为光敏组合物的负作用的对基苯二重氮化合物的凝聚物,其中该化合物的质量至少占总涂层重量的25%。
  • Lichtempfindliches Gemisch und daraus hergestelltes Kopiermaterial
    申请人:HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT
    公开号:EP0131780A1
    公开(公告)日:1985-01-23
    Es wird ein lichtempfindliches Gemisch beschrieben, das als Bindemittel ein Polykondensationsprodukt aus einem Phenol der allgemeinen Formel worin R1 ein Wasserstoffatom, eine Alkyl- oder HydroxygruPPe, R2 ein Wasserstoffatom, eine Alkyl-, Hydroxy- oder Acetylgruppe und R3 ein Wasserstoff- oder Halogenatom, eine Alkyl-, Alkoxy- Carboxyl- oder Carbonsäureestergruppe ist, und einer Verbindung der allgemeinen Formel enthält, worin R ein Wasserstoffatom, ein Methyl-, Ethyl- oder Acetylrest und X eine Phenylengruppe oder eine zweikernige aromatische Gruppe ist. Das Gemisch ergibt Druckplatten mit hoher Entwicklerresistenz und geringem Verschmutzungsgrad beim Einbrennen.
    描述了一种光敏混合物,它包括通式如下的苯酚的缩聚产物作为粘合剂 其中 R1 是氢原子、烷基或羟基、 R2 是氢原子、烷基、羟基或乙酰基,以及 R3 是氢原子或卤素原子、烷基、烷氧基羧基或羧酸酯基团,以及通式如下的化合物 其中 R 是氢原子、甲基、乙基或乙酰基,以及 X 是亚苯基或双核芳香基。 这种混合物生产出的印版耐显影剂性强,烘烤时结垢程度低。
  • Acetal polymers useful in photosensitive compositions
    申请人:MINNESOTA MINING AND MANUFACTURING COMPANY
    公开号:EP0752622A1
    公开(公告)日:1997-01-08
    This invention is an acetal polymer having the following repeating units: where R is an alkyl group of 1 to 10 carbon atoms; Ar1 is an aromatic group substituted with an aliphatic group containing 3 to 20 carbon atoms or an alkoxy group having 3 to 20 carbon atoms; Ar2 is a non-substituted aromatic group; A1 is an acid group; n1, n2, n3, n4, n5 represent the molar percents of the respective repeating units and n1 is 0-20 mole %, preferably 2-10 mole %; n2 is 2-20 mole %, preferably 5 to 15 mole %; n3 is 15-85 mole %, preferably 20 to 65 mole %; n4 is 0 to 40 mole %, preferably 0 to 20 mole %; and n5 is 5-40 mole %, preferably 20 to 35 mole %. These polymers may be used in photosensitive compositions and lithographic printing plates.
    本发明是一种具有以下重复单元的缩醛聚合物: 其中 R 是含 1 至 10 个碳原子的烷基; Ar1 是被含 3 至 20 个碳原子的脂肪族基团或含 3 至 20 个碳原子的烷氧基取代的芳香族基团; Ar2 是非取代的芳香族基团; A1 是一个酸基; n1、n2、n3、n4、n5 表示各自重复单元的摩尔百分数,n1 为 0-20摩尔%,最好为 2-10摩尔%;n2 为 2-20摩尔%,最好为 5-15摩尔%;n3 为 15-85摩尔%,最好为 20-65摩尔%;n4 为 0-40摩尔%,最好为 0-20摩尔%;n5 为 5-40摩尔%,最好为 20-35摩尔%。这些聚合物可用于感光组合物和平版印刷板。
  • Heat sensitive composition, lithographic printing plate using the same, and process for preparing a lithographic printing plate
    申请人:DAINIPPON INK AND CHEMICALS, INC.
    公开号:EP0945281A2
    公开(公告)日:1999-09-29
    A heat-sensitive composition is disclosed which includes a substance which absorbs light and generates heat, an anionic self water-dispersible resin particle having an acid value of 10 to 300 and an average particle diameter of 0.005 to 15 µm, and a fluorine base surfactant. An original plate for a lithographic printing plate is disclosed which includes an ordinary negative- or positive-type PS plate having coated thereon the heat-sensitive composition. The original plate is image-wise exposed with high energy density light based on digital image information from a computer, subjected to first development with an aqueous alkali solution, flood exposure with active light, a second development with a developer for a negative or a positive, and post-treatment to obtain a printing plate.
    本发明公开了一种热敏组合物,其中包括一种能吸收光并产生热量的物质、一种酸值为 10 至 300、平均颗粒直径为 0.005 至 15 微米的阴离子自分散性树脂颗粒和一种基表面活性剂。本发明公开了一种用于平版印刷板的原版,它包括一个普通的负型或正型 PS 版,其上涂有热敏组合物。根据计算机提供的数字图像信息,用高能量密度光对原版进行图像曝光,然后用碱溶液进行第一次显影,用有效光进行泛光曝光,用显影剂对底片或正片进行第二次显影,最后进行后处理,得到印版。
  • Method of producing layer structure, layer structure, and method of forming patterns
    申请人:SAMSUNG SDI CO., LTD.
    公开号:US10312074B2
    公开(公告)日:2019-06-04
    A method of producing a layer structure includes forming a first organic layer by applying a first composition including an organic compound on a substrate having a plurality of patterns, applying a solvent on the first organic layer to remove a part of the first organic layer, and applying a second composition including an organic compound on a remaining part of the first organic layer and forming a second organic layer through a curing process.
    一种生产层状结构的方法包括:通过在具有多个图案的基底上涂抹包括有机化合物的第一种组合物来形成第一有机层;在第一有机层上涂抹溶剂以去除第一有机层的一部分;以及在第一有机层的剩余部分上涂抹包括有机化合物的第二种组合物,并通过固化过程形成第二有机层。
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