2-羧基-4-降冰片内酯-5-乙酰氧基甲基丙烯酸酯 | 347886-81-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 脂质和类脂质分子 - 异戊烯醇脂质
• 中文名称: 2-羧基-4-降冰片内酯-5-乙酰氧基甲基丙烯酸酯
• 英文名称: 2-carboxy-4-norbornolide-5-acetoxymethacrylate
• 英文别名: 2-Propenoic acid, 2-methyl-, 2-[(hexahydro-2-oxo-3,5-methano-2H-cyclopenta[b]furan-6-yl)oxy]-2-oxoethyl ester；[2-oxo-2-[(5-oxo-4-oxatricyclo[4.2.1.03,7]nonan-2-yl)oxy]ethyl] 2-methylprop-2-enoate
• CAS: 347886-81-1
• 化学式: C₁₄H₁₆O₆
• 分子量: 280.277
• InChiKey: RZDMCGPZDGKURQ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.5
• 重原子数：
  20
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.64
• 拓扑面积：
  78.9
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  6

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  2-羟基-4-氧杂三环[4,2,1,0 37]-5-壬酮 、 methacryloyloxyacetic acid chloride 在 三乙胺 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 反应 17.0h， 以92%的产率得到2-羧基-4-降冰片内酯-5-乙酰氧基甲基丙烯酸酯
  参考文献：
  名称：

  一种2-羧基-4-降冰片内酯-5-乙酰氧基甲基丙烯酸酯的制备方法

  摘要：

  本发明提供一种2‑羧基‑4‑降冰片内酯‑5‑乙酰氧基甲基丙烯酸酯的制备方法，包括以下步骤：(1)在阻聚剂存在条件下，将羟基乙酸与甲基丙烯酰氯反应，得到化合物III；(2)在阻聚剂存在条件下，将化合物III与酰氯化试剂反应，得到酰氯化合物IV；(3)将2‑羟基‑4‑氧杂三环[4,2,1,037]‑5‑壬酮与酰氯化合物IV反应，得到所述2‑羧基‑4‑降冰片内酯‑5‑乙酰氧基甲基丙烯酸酯。本发明的制备方法具有原料方便易得、路线简短、反应条件相对温和、操作安全性较高、总产率显著提高等优点。

  公开号：

  CN114933574A

文献信息

• MONOMERS, POLYMERS AND PHOTORESIST COMPOSITIONS
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials Korea Ltd.

  公开号：US20180059545A1

  公开（公告）日：2018-03-01

  In one preferred embodiment, polymers are provided that comprise a structure of the following Formula (I): Photoresists that comprises such polymers also are provided.

  在一个首选实施例中，提供了包含以下化学式（I）结构的聚合物： 还提供了包含这种聚合物的光刻胶。
• SALT AND PHOTORESIST COMPOSITION CONTAINING THE SAME
  申请人：ICHIKAWA Koji

  公开号：US20100304293A1

  公开（公告）日：2010-12-02

  A salt represented by the formula (a): wherein Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom etc., X 1 represents a single bond etc., X 2 represents a single bond etc., Y 1 represents a C3-C6 alicyclic hydrocarbon group etc., with the proviso that —X 2 —Y 1 group has one or more fluorine atoms, and Z + represents an organic counter cation, and a photoresist composition comprising the salt represented by the formula (a) and a resin comprising a structural unit having an acid-labile group and being insoluble or poorly soluble in an aqueous alkali solution but becoming soluble in an aqueous alkali solution by the action of an acid.

  由公式(a)表示的盐：其中Q1和Q2各自独立代表氟原子等，X1代表单键等，X2代表单键等，Y1代表C3-C6的脂环烃基等，但条件是—X2—Y1基团具有一个或多个氟原子，以及Z+代表有机反离子，以及包含由公式(a)表示的盐的光阻剂组合物和包含具有酸不稳定的基团并且在水性碱液中不溶或微溶于但在酸性作用下水性碱液中变得可溶的树脂的结构单元。
• SALT AND PROCESS FOR PRODUCING ACID GENERATOR
  申请人：YOSHIDA Isao

  公开号：US20110201823A1

  公开（公告）日：2011-08-18

  A salt represented by the formula (I0): wherein Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom or a C1-C6 perfluoroalkyl group, L 1 represents a divalent C1-C17 hydrocarbon group in which one or more —CH 2 — can be replaced by —O— or —CO—, m represents 1 or 2, and Z m+ represents m-valent organic or inorganic cation.

  根据您提供的化学公式(I0)，其翻译成中文为： 其中Q1和Q2各自独立代表一个氟原子或一个C1-C6全氟烷基团，L1代表一个二价的C1-C17碳氢化合物基团，在该基团中，一个或多个—CH2—可以被—O—或—CO—所替换，m代表1或2，而Zm+代表m价有机或无机阳离子。
• SALT, ACID GENERATOR, RESIN, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US20160334702A1

  公开（公告）日：2016-11-17

  A salt represented by formula (I): wherein Q 1 and Q 2 independently represent a fluorine atom or a C 1 to C 6 perfluoroalkyl group, R 1 and R 2 in each occurrence independently represent a hydrogen atom, a fluorine atom or a C 1 to C 6 perfluoroalkyl group, z represents an integer of 0 to 6, X 1 represents *—CO—O—, *—O—CO— or —O—, * represents a binding position to C(R 1 )(R 2 ) or C(Q 1 )(Q 2 ), A 1 represents a C 4 to C 24 hydrocarbon group having a C 4 to C 18 divalent alicyclic hydrocarbon moiety, A 2 represents a C 2 to C 12 divalent hydrocarbon group, R 3 and R 4 independently represent a hydrogen atom or a C 1 to C 6 monovalent saturated hydrocarbon group, R 5 represents a hydrogen atom, a fluorine atom, or a C 1 to C 6 alkyl group where a hydrogen atom may be replaced by a fluorine atom, and Z + represents an organic cation.

  公式(I)表示的盐，其中Q1和Q2独立地代表一个氟原子或一个C1至C6的过氟烷基团，R1和R2每次出现独立地代表一个氢原子、一个氟原子或一个C1至C6的过氟烷基团，z代表0到6的整数，X1代表*—CO—O—，*—O—CO—或—O—，*代表与C(R1)(R2)或C(Q1)(Q2)的连接位置，A1代表具有C4至C18二价脂环烃基团的C4至C24的烃基团，A2代表C2至C12的二价烃基团，R3和R4独立地代表一个氢原子或一个C1至C6的一价饱和烃基团，R5代表一个氢原子、一个氟原子或一个C1至C6的烷基团，其中氢原子可以被氟原子替换，而Z+代表一个有机阳离子。
• PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING PHOTORESIST PATTERN
  申请人：ICHIKAWA Koji

  公开号：US20120270153A1

  公开（公告）日：2012-10-25

  A photoresist composition comprising (A) a resin which has an acid-labile group-containing structural unit and a lactone ring-containing structural unit, and (B) a salt represented by formula (I): wherein Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom or a C1-C6 perfluoroalkyl group, n represents 0 or 1, L 1 represents a single bond or a C1-C10 alkanediyl group in which a methylene group may be replaced by an oxygen atom or a carbonyl group, provided that L 1 is not a single bond when n is 0, R 1 represents a hydroxy group or a hydroxy group protected by a protecting group, and Z + represents an organic cation.

  一种包括(A)具有含酸敏感基团结构单元和含内酯环结构单元的树脂，以及(B)由式(I)表示的盐的光刻胶组合物：其中Q1和Q2分别独立表示氟原子或C1-C6全氟烷基基团，n表示0或1，L1表示单键或C1-C10脂肪二基基团，其中亚甲基基团可被氧原子或羰基取代，但当n为0时，L1不是单键，R1表示羟基或被保护基团保护的羟基，Z+表示有机阳离子。