methacryloyloxyacetic acid chloride | 496800-63-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: methacryloyloxyacetic acid chloride
• 英文别名: Methacryloyloxyacetyl chloride；(2-chloro-2-oxoethyl) 2-methylprop-2-enoate
• CAS: 496800-63-6
• 化学式: C₆H₇ClO₃
• 分子量: 162.573
• InChiKey: TVJGWRGVLRXVFL-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  190.8±23.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.209±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.7
• 重原子数：
  10
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.33
• 拓扑面积：
  43.4
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  methacryloyloxyacetic acid chloride 以79%的产率得到(1-tert-butoxycarbonylpiperidin-4-yloxy-carbonyl)methyl methacrylate
  参考文献：
  名称：

  NITROGEN-CONTAINING MONOMER, POLYMER, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS

  摘要：

  一种化学增感正向光阻组合物可以使用具有淬灭剂的聚合物制备，具体来说，该聚合物包含具有碳酸酯结构的重复单元，该碳酸酯结构在酸的作用下分解生成氨基团，并且可以包含具有酸敏感基团的重复单元，该酸敏感基团在酸的作用下能够生成羧基和/或羟基团。该聚合物对于抑制酸的扩散非常有效，并且本身扩散很少，组合物形成高分辨率的矩形剖面图案。

  公开号：

  US20120183904A1
• 作为产物：
  描述：

  carboxymethyl methacrylate 在 草酰氯 、 2,6-二叔丁基-4-甲基苯酚 、 N,N-二甲基甲酰胺 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 反应 9.0h， 以87%的产率得到methacryloyloxyacetic acid chloride
  参考文献：
  名称：

  一种2-羧基-4-降冰片内酯-5-乙酰氧基甲基丙烯酸酯的制备方法

  摘要：

  本发明提供一种2‑羧基‑4‑降冰片内酯‑5‑乙酰氧基甲基丙烯酸酯的制备方法，包括以下步骤：(1)在阻聚剂存在条件下，将羟基乙酸与甲基丙烯酰氯反应，得到化合物III；(2)在阻聚剂存在条件下，将化合物III与酰氯化试剂反应，得到酰氯化合物IV；(3)将2‑羟基‑4‑氧杂三环[4,2,1,037]‑5‑壬酮与酰氯化合物IV反应，得到所述2‑羧基‑4‑降冰片内酯‑5‑乙酰氧基甲基丙烯酸酯。本发明的制备方法具有原料方便易得、路线简短、反应条件相对温和、操作安全性较高、总产率显著提高等优点。

  公开号：

  CN114933574A

文献信息

• MONOMER, POLYMER, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US20150322027A1

  公开（公告）日：2015-11-12

  A monomer (1) is prepared by reacting a compound (9) with a base or metal to form a metal enolate reagent, and reacting the metal enolate reagent with an acyloxyketone compound (8). A polymer derived from the monomer is used as base resin to formulate a resist composition, which is shelf stable and displays a high dissolution contrast, controlled acid diffusion and low roughness in forming positive pattern via alkaline development and in forming negative pattern via organic solvent development.

  一种单体（1）是通过将一种化合物（9）与碱或金属反应形成金属烯醇盐试剂，然后将金属烯醇盐试剂与一种酰氧基酮化合物（8）反应而制备的。由该单体派生出的聚合物用作基础树脂，以配制一种光刻胶组合物，该组合物在常温下稳定，显示出高溶解对比度、控制的酸性扩散和在碱性显影形成正图案以及有机溶剂显影形成负图案时低粗糙度。
• CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR ArF IMMERSION LITHOGRAPHY AND PATTERN FORMING PROCESS
  申请人：Ohsawa Youichi

  公开号：US20130034813A1

  公开（公告）日：2013-02-07

  A chemically amplified positive resist composition comprising (A) a sulfonium salt of 3,3,3-trifluoro-2-hydroxy-2-trifluoromethylpropionic acid, (B) an acid generator, (C) a base resin, and (D) an organic solvent is suited for ArF immersion lithography. The carboxylic acid sulfonium salt is highly hydrophobic and little leached out in immersion water. By virtue of controlled acid diffusion, a pattern profile with high resolution can be constructed.

  一种化学增感正型光刻胶组合物，包括（A）三氟甲基-3,3,3-三氟-2-羟基-2-丙酸磺酸盐，（B）酸发生剂，（C）碱性树脂和（D）有机溶剂，适用于ArF浸没光刻。羧酸磺酸盐具有高度疏水性，在浸没水中几乎不溶出。通过控制酸扩散，可以构建具有高分辨率的图案轮廓。
• FLUOROALCOHOL, FLUORINATED MONOMER, POLYMER, RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS
  申请人：HASEGAWA Koji

  公开号：US20120077121A1

  公开（公告）日：2012-03-29

  Fluoroalcohol compounds of formula (1) are useful in producing polymers which are used as the base resin to formulate radiation-sensitive resist compositions having transparency to radiation having a wavelength of up to 500 nm and improved development characteristics. R 1 is hydrogen or a monovalent C 1 -C 20 hydrocarbon group in which any constituent —CH 2 — moiety may be replaced by —O— or —C(═O)—, Aa is a (k 1 +1)-valent C 1 -C 20 hydrocarbon or fluorinated hydrocarbon group, and k 1 is 1, 2 or 3.

  公式（1）的氟醇化合物在生产用作基础树脂的聚合物方面很有用，这些聚合物用于配制对波长高达500纳米的辐射具有透明性和改进的开发特性的辐射敏感型光刻胶组合物。R1是氢或一价的C1-C20碳氢基团，在其中任何成分的—CH2—基团可以被—O—或—C(═O)—替代，Aa是(k1+1)-价的C1-C20碳氢基团或氟化碳氢基团，k1为1、2或3。
• [EN] ADDITION-FRAGMENTATION OLIGOMERS<br/>[FR] OLIGOMÈRES D'ADDITION-FRAGMENTATION
  申请人：3M INNOVATIVE PROPERTIES CO

  公开号：WO2016133668A1

  公开（公告）日：2016-08-25

  Novel stress-reducing crosslinking oligomers that have application in dental restoratives, thin films, hardcoats, composites, adhesives, and other uses subject to stress reduction are described. The addition-fragmentation process of crosslinking results in a chain-transfer event that provides novel polymers that may be further functionalized. In addition, the addition-fragmentation oligomer comprises pendent functional groups that bond to a substrate by forming an ionic or covalent bond, or etch the substrate by chemically removing some material from the substrate.

  描述了一种在牙科修复、薄膜、硬涂层、复合材料、粘合剂等需要减压的用途中应用的新型减压交联寡聚体。交联的加成-断裂过程导致链转移事件，提供了可以进一步功能化的新型聚合物。此外，加成-断裂寡聚体包括侧链功能基团，通过形成离子键或共价键与基底结合，或通过化学去除基底上的部分材料来蚀刻基底。
• [EN] PROCESS FOR PREPARING GUANIDINO-FUNCTIONAL MONOMERS<br/>[FR] PROCÉDÉ POUR LA PRÉPARATION DE MONOMÈRES À FONCTION GUANIDINO
  申请人：3M INNOVATIVE PROPERTIES CO

  公开号：WO2014204763A1

  公开（公告）日：2014-12-24

  A process for preparing guanidino-functional, free radically polymerizable compounds comprises (a) combining (1) an amine compound comprising (i) at least one primary aliphatic amino group and (ii) at least one secondary aliphatic amino group, primary aromatic amino group, or secondary aromatic amino group, and (2) a guanylating agent; (b) allowing or inducing reaction of the amine compound and the guanylating agent to form a guanylated amine compound; (c) combining (1) the guanylated amine compound, and (2) a reactive monomer comprising (i) at least one ethylenically unsaturated group and (ii) at least one group that is reactive with an amino group; and (d) allowing or inducing reaction of the guanylated amine compound and the reactive monomer to form a guanidino-functional, free radically polymerizable compound.

  制备胍基功能自由基聚合化合物的过程包括(a)结合(1)包含(i)至少一个主链脂肪氨基团和(ii)至少一个次级链脂肪氨基团、主链芳香胺基团或次级芳香胺基团的胺基化合物和(2)胍基化试剂；(b)允许或诱导胺基化合物和胍基化试剂发生反应以形成胍基化胺基化合物；(c)结合(1)胍基化胺基化合物和(2)包含(i)至少一个乙烯不饱和基团和(ii)至少一个与氨基反应的基团的反应单体；(d)允许或诱导胍基化胺基化合物和反应单体发生反应以形成胍基功能自由基聚合化合物。