4-环己基-2,6-二甲苯酚 | 10570-68-0

• 物质功能分类: 有机原料 - 醇、酚、酚醇类化合物及衍生物 - 酚及其卤化、磺化、硝化或亚硝化衍生物
• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 中文名称: 4-环己基-2,6-二甲苯酚
• 英文名称: 4-cyclohexyl-2,6-dimethylphenol
• 英文别名: 2-Hydroxy-1.3-dimethyl-5-cyclohexyl-benzol；4-Cyclohexyl-2,6-dimethyl-phenol；4-cyclohexyl-2,6-xylenol；2,6-Dimethyl-4-cyclohexyl-phenol
• CAS: 10570-68-0
• 化学式: C₁₄H₂₀O
• 分子量: 204.312
• InChiKey: JEOOYEDQODNSOL-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  145-155 °C(Press: 5 Torr)
• 密度：
  1.013±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.8
• 重原子数：
  15
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.57
• 拓扑面积：
  20.2
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  1

安全信息

• 海关编码：
  2907199090

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  2,6-二甲基苯酚 、 氯代环己烷 在 三氯化铝 作用下， 生成 4-环己基-2,6-二甲苯酚
  参考文献：
  名称：

  Dialkyl-cyclohexyl-phenols

  摘要：

  公开号：

  US02248827A1

文献信息

• Acid catalyzed alkylation of phenols with cyclohexene: Comparison between homogeneous and heterogeneous catalysis, influence of cyclohexyl phenyl ether equilibrium and of the substituent on reaction rate and selectivity
  作者：L. Ronchin、A. Vavasori、L. Toniolo

  DOI：10.1016/j.molcata.2011.12.007

  日期：2012.3

  CH3SO3H ortho/para is variable from 3 to 5, suggesting an involvement of the cyclohexyl phenyl ether rearrangement. This is proved also by a direct relationship between the ortho/para ratio and the concentration of the cyclohexyl phenyl ether when CH3SO3H is used as a catalyst. The formation of cyclohexyl aryl ethers is reversible; on the contrary, ring alkylation appears irreversible. The reactivity of the

  研究了在均相和均相酸催化剂存在下，在358 K下几种酚对环己烯液相烷基化反应的反应性。作为非均相和均相体系的实例，Amberlyst 15和CH 3 SO 3 H的比较表明，前者具有较高的活性，并且两个系统之间的选择性行为不同，无论如何，在两个系统中都会发生O-烷基化和环烷基化。观察到异构和均相体系之间环烷基化选择性的显着差异：Amberlyst 15的邻位/对位比恒定，接近2，而在存在CH 3 SO 3 H邻位/对是3至5之间的变量，表明参与了环己基苯基醚的重排。当使用CH 3 SO 3 H作为催化剂时，邻/对比率与环己基苯基醚浓度之间的直接关系也证明了这一点。环己基芳基醚的形成是可逆的；相反，环烷基化是不可逆的。二甲基苯酚的反应性显示出取代基的空间位阻对环己基阳离子的亲电子进攻的强烈影响，而甲基丙烯酸的感应作用对此影响很小。
• Polycarbonate compositions resistant to gamma radiation
  申请人：Bayer Corporation

  公开号：EP0346706A2

  公开（公告）日：1989-12-20

  The invention relates to thermoplastic poly­carbonate molding compositions comprising a polycar­bonate resin and a stabilizing agent conforming to where R₁ and R₂ independently are R₃ is a hydrogen atom, a branched or linear C₁-C₂₀ alkyl or a C₁-C₂₀ cycloalkyl, and R₅ and R₆ independently are a hydrogen atom or a C₁-C₃ alkyl, x is an integer of about 1 to 70, y is an integer of about 0 to 70, R₄ is C₂-C₆ alkyl or cycloalkyl, C₆-C₁₀ aryl or C₇-C₂₀ alkylaryl or cycloalkylaryl. The agent is homogenically distributed throughout the resin and is present in an amount sufficient to improve the gamma radiation resistance of the composition.

  本发明涉及热塑性聚碳酸酯模塑组合物，该组合物由聚碳酸酯树脂和稳定剂组 成，符合以下条件 其中 R₁ 和 R₂ 分别是 R₃ 是氢原子、支链或直链 C₁-C₂₀ 烷基或 C₁-C₂₀ 环烷基，且 R₅ 和 R₆ 独立地是氢原子或 C₁-C₃ 烷基、 x 是约 1 到 70 的整数、 y 是约 0 至 70 的整数、 R₄ 是 C₂-C₆ 烷基或环烷基、C₆-C₁₀ 芳基或 C₇-C₂₀ 烷芳基或环烷基芳基。该剂均匀地分布在整个树脂中，其含量足以提高组合物的耐伽马辐射性。
• Plastic films for ID documents having improved properties for laser engraving and improved chemical resistance
  申请人：Covestro Deutschland AG

  公开号：US11198769B2

  公开（公告）日：2021-12-14

  The present invention relates to plastic films with improved laser engraving capability, chemical resistance and mechanical stress, special embodiments of such films in the form of co-extrusion films, layer structures comprising such films, use of such films, as well as security documents, preferably identification documents, containing such films.

  本发明涉及具有更好的激光雕刻能力、耐化学性和机械应力的塑料薄膜、共挤薄膜形式的此类薄膜的特殊实施例、包含此类薄膜的层结构、此类薄膜的用途以及包含此类薄膜的安全证件（最好是身份证件）。
• Wegler; Faber, Chemische Berichte, 1949, vol. 82, p. 327,332
  作者：Wegler、Faber

  DOI：——

  日期：——
• Hultzsch, Journal fur praktische Chemie (Leipzig 1954), 1941, vol. <2> 159, p. 155,157, 166
  作者：Hultzsch

  DOI：——

  日期：——