4-甲基苯基二苯基溴化ul | 4189-82-6

• 物质功能分类: 有机原料 - 有机硫化合物
• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 中文名称: 4-甲基苯基二苯基溴化ul
• 英文名称: (4-methylphenyl)-diphenylsulfonium bromide
• 英文别名: diphenyl(p-tolyl)sulfonium bromide；(4-Methylphenyl)(diphenyl)sulfanium bromide；(4-methylphenyl)-diphenylsulfanium;bromide
• CAS: 4189-82-6
• 化学式: Br*C₁₉H₁₇S
• 分子量: 357.314
• InChiKey: LXQKIBHHRQYGMT-UHFFFAOYSA-M

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.09
• 重原子数：
  21
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.05
• 拓扑面积：
  1
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

安全信息

• 海关编码：
  2930909090

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-[2-(Adamantane-1-carbonyloxy)ethoxy]-1,1-difluoro-2-oxoethanesulfonate;triethylazanium 、 4-甲基苯基二苯基溴化ul 以 二氯甲烷 、 水 为溶剂， 反应 1.0h， 以81.5%的产率得到diphenyl(p-tolyl)sulfonium 2-(2-((adamantane-1-carbonyl)oxy)ethoxy)-1,1-difluoro-2-oxoethane-1-sulfonate
  参考文献：
  名称：

  Positive resist composition and method of forming a resist pattern using the same

  摘要：

  公开号：

  EP2093213B1
• 作为产物：
  描述：

  4-甲基二苯硫醚 以 水 为溶剂， 生成 4-甲基苯基二苯基溴化ul
  参考文献：
  名称：

  Manya,P. et al., Bulletin de la Societe Chimique de France, 1971, p. 286 - 294

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Facile Method for the Preparation of Triarylsulfonium Bromides Using Grignard Reagents and Chlorotrimethylsilane as an Activator
  作者：Shigeaki Imazeki、Motoshige Sumino、Kazuhito Fukasawa、Masami Ishihara、Takahiko Akiyama

  DOI：10.1055/s-2004-829113

  日期：——

  Triarylsulfonium bromides were synthesized by the reaction of diaryl sulfoxides with aryl Grignard reagents in the presence of TMSCI followed by treatment with HBr aqueous solution. Triarylsulfonium bromides bearing threeidentical substituents on sulfur atom were synthesized by the treatment of dimethyl sulfite or thionyl chloride with 5 equivalents of Grignard reagent in the presence of TMSCI.

  三芳基溴化锍通过二芳基亚砜与芳基格氏试剂在 TMSCI 存在下反应合成，然后用 HBr 水溶液处理。在TMSCI存在下，用5当量格氏试剂处理亚硫酸二甲酯或亚硫酰氯，合成了硫原子上具有三个相同取代基的溴化三芳基锍。
• RESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, NOVEL COMPOUND, AND ACID GENERATOR
  申请人：Seshimo Takehiro

  公开号：US20100121077A1

  公开（公告）日：2010-05-13

  A compound represented by general formula (I); and a compound represented by general formula (b1-1). wherein Q 1 represents a divalent linkage group or a single bond; Y 1 represents an alkylene group which may have a substituent or a fluorinated alkylene group which may have a substituent; X represents a cyclic group of 3 to 30 carbon atoms which may have a substituent, and has an —SO 2 — bond in the structure thereof; M − represents an alkali metal ion; and A + represents an organic cation.

  一个由通式(I)表示的化合物；和一个由通式(b1-1)表示的化合物。其中，Q1代表一个二价连接基团或一个单键；Y1代表一个可能带有取代基的烷基基团或一个可能带有取代基的氟代烷基基团；X代表一个含有取代基的3到30个碳原子的环状基团，并且在其结构中具有一个—SO2—键；M−代表一种碱金属离子；A+代表一个有机阳离子。
• CARBOXYLATE, CARBOXYLIC ACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US20210263416A1

  公开（公告）日：2021-08-26

  Disclosed are a carboxylate represented by formula (I), and a carboxylic acid generator and a resist composition, including the same: wherein R 1 represents a fluorine atom or a fluorinated alkyl group having 1 to 4 carbon atoms; R 2 , R 3 and R 4 each independently represent a halogen atom, a fluorinated alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, and —CH 2 — included in the hydrocarbon group may be replaced by —O— or —CO—; m2 and m3 represent an integer of 0 to 4, and m4 represents an integer of 0 to 5; and X 0 represents a hydrocarbon group having 1 to 72 carbon atoms which may have a substituent, and —CH 2 — included in the hydrocarbon group may be replaced by —O—, —S—, —CO— or —SO 2 —.

  本发明涉及一种由式(I)表示的羧酸盐、羧酸发生剂和抗蚀组合物，其中：其中，R1表示氟原子或具有1至4个碳原子的氟化烷基；R2、R3和R4各自独立地表示卤素原子、具有1至4个碳原子的氟化烷基或具有1至12个碳原子的碳氢基团，且所述碳氢基团中包含的—CH2—可以被—O—或—CO—所替代；m2和m3表示0至4的整数，m4表示0至5的整数；X0表示具有1至72个碳原子的碳氢基团，该碳氢基团可能具有取代基，且所述碳氢基团中包含的— —可以被—O—、—S—、—CO—或—SO2—所替代。
• SALT, ACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US20210255545A1

  公开（公告）日：2021-08-19

  Disclosed are a salt represented by formula (1), and an acid generator and a resist composition which include the same: wherein R1 represents a fluorine atom or a fluorinated alkyl group; R2, R3 and R4 each represent a halogen atom, a fluorinated alkyl group or a hydrocarbon group; m2 and m3 represent an integer of 0 to 4; m4 represents an integer of 0 to 5; Q1 and Q2 each represent a fluorine atom or a perfluoroalkyl group; L1 represents a saturated hydrocarbon group, —CH2- included in the group may be replaced by —O— or —CO—, and a hydrogen atom included in the group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group; Y1 represents a methyl group which may have a substituent or an alicyclic hydrocarbon group which may have a substituent.

  本发明涉及一种由式（1）表示的盐，以及包括该盐的酸发生剂和抗蚀组合物： 其中，R1代表氟原子或氟化烷基；R2、R3和R4各代表卤素原子、氟化烷基或烃基；m2和m3代表0到4的整数；m4代表0到5的整数；Q1和Q2各代表氟原子或全氟烷基；L1代表饱和烃基，其中包括在该基团中的-CH2-可被替换为-O-或-CO-，该基团中包括的氢原子可被氟原子或羟基取代；Y1代表可带有取代基的甲基基团或可带有取代基的脂环烃基团。
• 化合物
  申请人：東京応化工業株式会社

  公开号：JP2018076323A

  公开（公告）日：2018-05-17

  【課題】化合物の提供。【解決手段】下記式で表される化合物。［式中、ｍは１以上の整数であって、Ｘｍ＋はｍ価の有機カチオンまたは金属カチオンである。］［化１］【選択図】なし

  【问题】化合物的提供。 【解决方法】提供下列式子表示的化合物。[式中，m是大于等于1的整数，Xm+是m价的有机阳离子或金属阳离子。][化1]【选择图】无。