chloroethanoic acid 3-hydroxyadamantyl ester | 914918-51-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: chloroethanoic acid 3-hydroxyadamantyl ester
• 英文别名: chloroacetic acid 3-hydroxyadamantyl ester；3-hydroxyadamantyl chloroacetate；(3-Hydroxy-1-adamantyl) 2-chloroacetate
• CAS: 914918-51-7
• 化学式: C₁₂H₁₇ClO₃
• 分子量: 244.718
• InChiKey: UAAHJCZAWZAVQE-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2
• 重原子数：
  16
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.92
• 拓扑面积：
  46.5
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  chloroethanoic acid 3-hydroxyadamantyl ester 在 硫酸 、 potassium carbonate 、 potassium iodide 作用下， 以 N,N-二甲基甲酰胺 、 氯苯 为溶剂， 反应 10.0h， 生成
  参考文献：
  名称：

  Salt and photoresist composition containing the same

  摘要：

  一种由化学式（X）表示的盐：其中Q1和Q2分别独立表示氟原子等，L1和L2分别独立表示C1-C17二价饱和碳氢化合物基团，环W1表示C3-C36饱和碳氢化合物环，R2在每次出现时独立表示一个羟基等，s表示0到2的整数，Z+表示有机对离子，W10表示由化学式（X-1）表示的基团：其中环W2表示一个C4-C36饱和碳氢化合物环，其中一个或多个-CH2-可以被-O-或-CO-替代，但至少一个C4-C36饱和碳氢化合物环中的-CH2-被-CO-替代，R3在每次出现时独立表示C1-C6烷基基团等，t表示0到2的整数，或由化学式（X-2）表示的基团：其中环W3表示一个C3-C36饱和碳氢化合物环，R4在每次出现时独立表示一个羟基等，R5在每次出现时独立表示一个C1-C6烷基基团等，v表示1到3的整数，w表示0到2的整数。

  公开号：

  US09346750B2
• 作为产物：
  描述：

  1,3-金刚烷二醇 、 氯乙酰氯 在 吡啶 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 反应 8.0h， 生成 chloroethanoic acid 3-hydroxyadamantyl ester
  参考文献：
  名称：

  Salt and photoresist composition containing the same

  摘要：

  一种由化学式（X）表示的盐：其中Q1和Q2分别独立表示氟原子等，L1和L2分别独立表示C1-C17二价饱和碳氢化合物基团，环W1表示C3-C36饱和碳氢化合物环，R2在每次出现时独立表示一个羟基等，s表示0到2的整数，Z+表示有机对离子，W10表示由化学式（X-1）表示的基团：其中环W2表示一个C4-C36饱和碳氢化合物环，其中一个或多个-CH2-可以被-O-或-CO-替代，但至少一个C4-C36饱和碳氢化合物环中的-CH2-被-CO-替代，R3在每次出现时独立表示C1-C6烷基基团等，t表示0到2的整数，或由化学式（X-2）表示的基团：其中环W3表示一个C3-C36饱和碳氢化合物环，R4在每次出现时独立表示一个羟基等，R5在每次出现时独立表示一个C1-C6烷基基团等，v表示1到3的整数，w表示0到2的整数。

  公开号：

  US09346750B2

文献信息

• Discriminating non-ylidic carbon-sulfur bond cleavages of sulfonium ylides for alkylation and arylation reactions
  作者：Jing Fang、Ting Li、Xiang Ma、Jiuchang Sun、Lei Cai、Qi Chen、Zhiwen Liao、Lingkui Meng、Jing Zeng、Qian Wan

  DOI：10.1016/j.cclet.2021.06.069

  日期：2022.1

  The disparate reaction pattern allowed the separate activation of non-ylidic S-alkyl and S-aryl bond. Under acidic conditions, sulfonium ylides serve as alkyl cation precursors which facilitate the alkylations. While under alkaline conditions, cleavage of non-ylidic S-aryl bond produces O-arylated compounds efficiently. The robustness of the protocols were established by the excellent compatibility of

  描述了一种在无过渡金属条件下参与烷基化和芳基化的锍叶立德。不同的反应模式允许单独激活非叶立基S-烷基和S-芳基键。在酸性条件下，锍叶立德用作促进烷基化的烷基阳离子前体。而在碱性条件下，非叶立基 S-芳基键的断裂可有效地产生O-芳基化化合物。协议的稳健性是由包括碳水化合物在内的各种底物的出色兼容性建立的。
• SALT AND PHOTORESIST COMPOSITION CONTAINING THE SAME
  申请人：ICHIKAWA Koji

  公开号：US20100304292A1

  公开（公告）日：2010-12-02

  A salt represented by the formula (I-BB): wherein Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom etc., X 1 represents a single bond etc., Y 1 represents a C1-C36 aliphatic hydrocarbon group etc., A 1 and A 2 independently each represents a C1-C20 aliphatic hydrocarbon group etc., Ar 1 represents a (m 4 +1)-valent C6-C20 aromatic hydrocarbon group which can have one or more substituents, B 1 represents a single bond etc., B 2 represents a C4-C36 alicyclic hydrocarbon group which has one or more —OX a groups and which is not capable of being eliminated by the action of an acid etc., and X a represents a hydrogen atom or a group capable of being eliminated by the action of an acid, m 1 and m 2 independently each represents an integer of 0 to 2, m 3 represents an integer of 1 to 3, with the proviso that m 1 plus m 2 plus m 3 equals 3, and m 4 represents an integer of 1 to 3.

  由公式(I-BB)表示的盐，其中Q1和Q2各自独立代表一个氟原子等，X1代表一个单键等，Y1代表一个C1-C36脂肪烃基等，A1和A2各自独立代表一个C1-C20脂肪烃基等，Ar1代表一个(m4+1)价的C6-C20芳香烃基，该芳香烃基可以有一个或多个取代基，B1代表一个单键等，B2代表一个C4-C36的脂环烃基，该脂环烃基具有一个或多个—OXa基团，并且不能通过酸的作用被消除，Xa代表一个氢原子或一个可以通过酸的作用被消除的基团，m1和m2各自独立代表一个0到2的整数，m3代表一个1到3的整数，前提是m1加m2加m3等于3，且m4代表一个1到3的整数。
• 塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
  申请人：住友化学株式会社

  公开号：JP2021175726A

  公开（公告）日：2021-11-04

  【課題】良好な解像度を有するレジストパターンを製造することができる塩、該塩を含む酸発生剤及び該剤を含むレジスト組成物を提供する。【解決手段】例えば、下式の様に合成した（Ｉ−５）で表される塩。【選択図】なし

  提供含有良好分辨率的感光胶图案的制造盐、包含该盐的酸发生剂以及包含该剂的感光胶组成物。例如，由下式（I-5）合成的盐。【选择图】无
• SALT, PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING PHOTORESIST PATTERN
  申请人：YOSHIDA Isao

  公开号：US20130052588A1

  公开（公告）日：2013-02-28

  A photoresist composition containing a resin that is hardly soluble or insoluble, but which is soluble in an aqueous alkali solution by action of an acid, and a salt represented by formula (I): wherein Q 1 , Q 2 , L 1 , W 1 , W 2 , R 1 , R 2 , t1 and t2 are defined in the specification, and Z + represents an organic cation.

  一种光刻胶组合物，包含一种树脂，该树脂几乎不溶解或不溶解，但在酸的作用下可溶解于水性碱溶液中，并且包含由式(I)表示的盐：其中Q1、Q2、L1、W1、W2、R1、R2、t1和t2在规范中定义，Z+代表有机阳离子。
• カルボン酸塩、カルボン酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
  申请人：住友化学株式会社

  公开号：JP2021183598A

  公开（公告）日：2021-12-02

  【課題】良好なマスクエラーファクタを有するレジストパターンを製造することができるカルボン酸塩、カルボン酸発生剤及びレジスト組成物を提供することを目的とする。【解決手段】式（Ｉ）で表されるカルボン酸塩、カルボン酸発生剤及びレジスト組成物。［式中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ−Ｏ−Ｌ１−ＣＯ−Ｏ−Ｒ１０等、Ｌ１はアルカンジイル基を表す。Ｒ４、Ｒ５、Ｒ７及びＲ８は、それぞれハロゲン原子、炭化水素基等を表し、該基は置換基を有してもよく、該基に含まれる−ＣＨ2−は−Ｏ−又は−ＣＯ等−で置き換わっていてもよい。Ｒ１０は１以上の−ＯＲ１１基を少なくとも有する脂環式炭化水素基、Ｒ１１は水素原子又は酸不安定基を表す。Ｘ１及びＸ２はそれぞれＯ又はＳを表す。ｍ１は１〜５、ｍ２及びｍ８は０〜５、ｍ４、ｍ５及びｍ７は０〜４の整数を表す。但し１≦ｍ１＋ｍ７≦５、０≦ｍ２＋ｍ８≦５である。Ｘ０は置換基を有してもよい炭化水素基を表す。］【選択図】なし

  这是一段关于制造具有良好掩模误差因子的光刻胶图案的碳酸盐、碳酸生成剂和光刻胶组成物的描述。【解决方案】所述碳酸盐、碳酸生成剂和光刻胶组成物由式（I）表示。【式中，R1和R2分别表示-O-L1-CO-O-R10等，L1表示脂肪二烯基。R4、R5、R7和R8分别表示卤素原子、碳氢基等，该基可以带有取代基，基中的-CH2-可以被-O-或-CO等取代。R10表示至少具有一个-O-R11基的脂环式碳氢基，R11表示氢原子或不稳定酸基。X1和X2分别表示O或S。m1表示1~5，m2和m8表示0~5，m4、m5和m7表示0~4的整数。但是满足1≤m1+m7≤5，0≤m2+m8≤5。X0表示可以带有取代基的碳氢基。】【选择图】无