acetate triphenylsulfonium | 19600-49-8

• 物质功能分类: 有机原料
• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: acetate triphenylsulfonium
• 英文别名: triphenylsulfonium acetate；Triphenylsulfanium acetate；triphenylsulfanium;acetate
• CAS: 19600-49-8
• 化学式: C₂H₃O₂*C₁₈H₁₅S
• 分子量: 322.428
• InChiKey: XZZGCKRBJSPNEF-UHFFFAOYSA-M

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.54
• 重原子数：
  23
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.05
• 拓扑面积：
  41.1
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  acetate triphenylsulfonium 、 1,1,2,2,3,3-Hexafluoro-3-(piperidin-1-ylsulfonyl)propane-1-sulfonic acid 反应 2.0h， 生成 triphenylsulfonium 1,1,2,2,3,3-hexafluoro-3-(piperidine-1-sulfonyl)propane-1-sulfonate
  参考文献：
  名称：

  Photosensitive composition, compound for use in the photosensitive composition, and method of pattern formation with the photosensitive composition

  摘要：

  一种在受到光照射或辐射时生成具有一个或多个—SO3H基团和一个或多个—SO2—键的磺酸化合物；包含该化合物的光敏组合物；以及使用该光敏组合物进行图案形成的方法。

  公开号：

  US07449573B2
• 作为产物：
  描述：

  三苯基溴化锍 在 sodium hydroxide 作用下， 以 四氢呋喃 、 水 为溶剂， 反应 2.5h， 生成 acetate triphenylsulfonium
  参考文献：
  名称：

  METHOD FOR PRODUCING SALT

  摘要：

  根据本发明，提供了一种制备盐的方法，包括将M+X−与YH反应生成XH和M+Y−，然后去除生成的XH以获得M+Y−。在制备盐的方法中，M+X−是由M+阳离子和X−阴离子组成的盐，M+Y−是由M+阳离子和Y−阴离子组成的盐，XH是X−的共轭酸，YH是Y−的共轭酸，M+Y−是一种在活性射线或放射性射线照射下生成酸的化合物，XH的pKa值大于YH的pKa值，XH的ClogP值大于2。

  公开号：

  US20210355082A1

文献信息

• RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, POLYPHENOLIC COMPOUND FOR USE IN THE COMPOSITION, AND ALCOHOLIC COMPOUND THAT CAN BE DERIVED THEREFROM
  申请人：Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.

  公开号：US20160145231A1

  公开（公告）日：2016-05-26

  A resist composition containing a compound represented by the general formula (1) or (2), a method for forming a resist pattern using the composition, a polyphenolic compound for use in the composition, and an alcoholic compound that can be derived therefrom are described.

  描述了一种包含由通式（1）或（2）表示的化合物的光刻胶组合物，使用该组合物形成光刻胶图案的方法，用于该组合物的多酚化合物，以及可以由其衍生的醇化合物。
• CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR ArF IMMERSION LITHOGRAPHY AND PATTERN FORMING PROCESS
  申请人：Ohsawa Youichi

  公开号：US20130034813A1

  公开（公告）日：2013-02-07

  A chemically amplified positive resist composition comprising (A) a sulfonium salt of 3,3,3-trifluoro-2-hydroxy-2-trifluoromethylpropionic acid, (B) an acid generator, (C) a base resin, and (D) an organic solvent is suited for ArF immersion lithography. The carboxylic acid sulfonium salt is highly hydrophobic and little leached out in immersion water. By virtue of controlled acid diffusion, a pattern profile with high resolution can be constructed.

  一种化学增感正型光刻胶组合物，包括（A）三氟甲基-3,3,3-三氟-2-羟基-2-丙酸磺酸盐，（B）酸发生剂，（C）碱性树脂和（D）有机溶剂，适用于ArF浸没光刻。羧酸磺酸盐具有高度疏水性，在浸没水中几乎不溶出。通过控制酸扩散，可以构建具有高分辨率的图案轮廓。
• PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD USING THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND COMPOUND FOR USE IN THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION
  申请人：Wada Kenji

  公开号：US20100233617A1

  公开（公告）日：2010-09-16

  A photosensitive composition includes: (A) a resin containing a repeating unit corresponding to a compound represented by the following formula (I); the resin being capable of producing an acid group upon irradiation with an actinic ray or radiation: Z-A-X—B—R   (I) wherein Z represents a group capable of becoming an acid group resulting from leaving of a cation upon irradiation with an actinic ray or radiation; A represents an alkylene group; X represents a single bond or a heteroatom-containing divalent linking group; B represents a single bond, an oxygen atom or —N(Rx)-; Rx represents a hydrogen atom or a monovalent organic group; R represents a monovalent organic group substituted by Y; when B represents —N(Rx)-, R and Rx may combine with each other to form a ring; and Y represents a polymerizable group.

  一种感光组合物包括：（A）含有与下式（I）所表示的化合物对应的重复单元的树脂；该树脂能够在受到光敏射线或辐射照射后产生酸基团：Z-A-X—B—R   （I）其中Z代表一个能够在受到光敏射线或辐射照射后由阳离子离去而形成酸基团的基团；A代表一个烷基基团；X代表一个单键或含杂原子的二价连接基团；B代表一个单键、一个氧原子或—N（Rx）-；Rx代表一个氢原子或一个一价有机基团；R代表一个通过Y取代的一价有机基团；当B代表—N（Rx）-时，R和Rx可以结合在一起形成一个环；Y代表一个可聚合的基团。
• OPTICAL COMPONENT FORMING COMPOSITION AND CURED PRODUCT THEREOF
  申请人：Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.

  公开号：US20200262787A1

  公开（公告）日：2020-08-20

  The present invention provides an optical component forming composition comprising a tellurium-containing compound or a tellurium-containing resin.

  本发明提供了一种包括含碲化合物或含碲树脂的光学元件成型组合物。
• Photosensitive composition, compound for use in the photosensitive composition, and pattern forming method using the photosensitive composition
  申请人：Wada Kenji

  公开号：US20050123859A1

  公开（公告）日：2005-06-09

  A photosensitive composition comprising a compound capable of generating a specific sulfonic acid upon irradiation with actinic rays or a radiation; a compound capable of generating a specific sulfonic acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation; and a pattern forming method using a photosensitive composition comprising a compound capable of generating a specific sulfonic acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation.

  一种包含能够在受到光敏辐射或辐射照射后生成特定磺酸的化合物的光敏组合物；一种包含能够在受到光敏辐射或辐射照射后生成特定磺酸的化合物的光敏组合物；以及一种使用包含能够在受到光敏辐射或辐射照射后生成特定磺酸的化合物的光敏组合物的图案形成方法。