α-[hydroxy(5-norbornen-2-yl)methyl]-γ-butyrolactone | 398488-19-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 内酯类
• 英文名称: α-[hydroxy(5-norbornen-2-yl)methyl]-γ-butyrolactone
• 英文别名: 3-[(Bicyclo[2.2.1]hept-5-en-2-yl)(hydroxy)methyl]oxolan-2-one；3-[2-bicyclo[2.2.1]hept-5-enyl(hydroxy)methyl]oxolan-2-one
• CAS: 398488-19-2
• 化学式: C₁₂H₁₆O₃
• 分子量: 208.257
• InChiKey: JEXQCIKRGPMVQW-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.8
• 重原子数：
  15
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.75
• 拓扑面积：
  46.5
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  α-[hydroxy(5-norbornen-2-yl)methyl]-γ-butyrolactone 在 吡啶 、 4-二甲氨基吡啶 、 乙酸酐 作用下， 以 正己烷 、 水 为溶剂， 以98%的产率得到α-[acetoxy(5-norbornen-2-yl)methyl]-γ-butyrolactone
  参考文献：
  名称：

  Novel lactone compounds having alicyclic structure and their manufacturing method

  摘要：

  公式（1）的内酯化合物作为单体对于形成基树脂很有用，以用于化学增感光刻胶组合物，适用于微细图案制作。1R1为H或C1-6烷基，R2为H或含有1-15个碳原子的酰基或烷氧羰基基团，可能被卤素原子取代，Z为双价的C1-15有机基团，与羰氧基团形成内酯环，k为0或1，m为0到5之间的整数。

  公开号：

  US20020019545A1
• 作为产物：
  描述：

  5-降冰片烯-2-甲醛 、 lithium enolate 在 氯化铵 作用下， 以 四氢呋喃 、 水 为溶剂， 反应 1.0h， 以95%的产率得到α-[hydroxy(5-norbornen-2-yl)methyl]-γ-butyrolactone
  参考文献：
  名称：

  Polymer, resist composition and patterning process

  摘要：

  该发明提供了一种聚合物，其包含具有桥接脂环的重复单元，具有羟基，酰氧基或烷氧羰氧基基团，以及通过间隔连接的内酯结构，该聚合物的重量平均分子量为1,000-500,000。以该聚合物为基础树脂的抗蚀组合物对高能辐射敏感，具有优异的敏感性，分辨率和蚀刻抗性，并适用于使用电子束或深紫外线进行微细图案化。

  公开号：

  US06660448B2

文献信息

• Lactone compounds having alicyclic structure and their manufacturing method
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US06500961B2

  公开（公告）日：2002-12-31

  Lactone compounds of formula (1) are useful as monomers to form base resins for use in chemically amplified resist compositions adapted for micropatterning lithography. R1 is H or C1-6 alkyl, R2 is H or an acyl or alkoxycarbonyl group of 1-15 carbon atoms which may be substituted with halogen atoms, Z is a divalent C1-15 organic group which forms a lactone ring with the carbonyloxy group, k is 0 or 1, and m is an integer from 0 to 5.

  公式（1）的内酯化合物可用作单体，形成基础树脂，用于化学增强的抗蚀剂组合物，适用于微图案制造光刻。其中，R1为氢或C1-6烷基，R2为氢或1-15碳原子的酰基或烷氧羰基基团，可以用卤素原子取代，Z为双价的C1-15有机基团，与羰氧基团形成内酯环，k为0或1，m为0至5的整数。
• US6500961B2
  申请人：——

  公开号：US6500961B2

  公开（公告）日：2002-12-31
• US6660448B2
  申请人：——

  公开号：US6660448B2

  公开（公告）日：2003-12-09
• US7341818B2
  申请人：——

  公开号：US7341818B2

  公开（公告）日：2008-03-11
• Novel lactone compounds having alicyclic structure and their manufacturing method
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US20020019545A1

  公开（公告）日：2002-02-14

  Lactone compounds of formula (1) are useful as monomers to form base resins for use in chemically amplified resist compositions adapted for micropatterning lithography. 1 R 1 is H or C 1-6 alkyl, R 2 is H or an acyl or alkoxycarbonyl group of 1-15 carbon atoms which may be substituted with halogen atoms, Z is a divalent C 1-15 organic group which forms a lactone ring with the carbonyloxy group, k is 0 or 1, and m is an integer from 0 to 5.

  公式（1）的内酯化合物作为单体对于形成基树脂很有用，以用于化学增感光刻胶组合物，适用于微细图案制作。1R1为H或C1-6烷基，R2为H或含有1-15个碳原子的酰基或烷氧羰基基团，可能被卤素原子取代，Z为双价的C1-15有机基团，与羰氧基团形成内酯环，k为0或1，m为0到5之间的整数。