Ethyl 6-(3-methoxy-3-oxopropyl)-6-nitro-4,5,6,7-tetrahydro-1H-indazole-3-carboxylate

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 唑类
• 英文名称: Ethyl 6-(3-methoxy-3-oxopropyl)-6-nitro-4,5,6,7-tetrahydro-1H-indazole-3-carboxylate
• 英文别名: ethyl 6-(3-methoxy-3-oxopropyl)-6-nitro-1,4,5,7-tetrahydroindazole-3-carboxylate
• 化学式: C14H19N3O6
• 分子量: 325.32
• InChiKey: DJCUNCLAIVGVIB-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.3
• 重原子数：
  23
• 可旋转键数：
  7
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.64
• 拓扑面积：
  127
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  7

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  Ethyl 6-(3-methoxy-3-oxopropyl)-6-nitro-4,5,6,7-tetrahydro-1H-indazole-3-carboxylate 、 四氢呋喃 、 sodium;hydride 、 、 2-(三甲基硅烷基)乙氧甲基氯 在 乙酸乙酯 、 magnesium sulfate 、 正庚烷 作用下， 以 水 为溶剂， 反应 1.0h， 以provided 0.2244 g (71%) of ethyl 6-(3-methoxy-3-oxopropyl)-6-nitro-1-((2-(trimethylsilyl)ethoxy)methyl)-4,5,6,7-tetrahydro-1H-indazole-3-carboxylate的产率得到ethyl 6-(3-methoxy-3-oxopropyl)-6-nitro-1-((2-(trimethylsilyl)ethoxy)methyl)-4,5,6,7-tetrahydro-1H-indazole-3-carboxylate
  参考文献：
  名称：

  PYRAZOLE CARBOXAMIDE COMPOUNDS, COMPOSITIONS AND METHODS OF USE

  摘要：

  本文提供了式（AA）的化合物：其立体异构体或其药学上可接受的盐，其中A、Ra、p、R5和R6在此定义，包括该化合物的组合物以及制造和使用该化合物治疗疾病的方法。

  公开号：

  US20150158851A1

文献信息

• [EN] PYRAZOLE CARBOXAMIDE COMPOUNDS, COMPOSITIONS AND METHODS OF USE<br/>[FR] COMPOSÉS PYRAZOLE CARBOXAMIDES, COMPOSITIONS ET PROCÉDÉS D'UTILISATION
  申请人：HOFFMANN LA ROCHE

  公开号：WO2014023258A1

  公开（公告）日：2014-02-13

  Provided herein are compounds of formula (AA): N N H HN O N N R R 6 A (R a ) p, (AA) stereoisomers or a pharmaceutically acceptable salt thereof, wherein A, R a, p, R and R 6 are defined herein, compositions including the compounds and methods of manufacturing and using the compounds for the treatment of diseases.

  本文提供了以下式（AA）的化合物：N N H HN O N N R R 6 A（R a）p，（AA）立体异构体或其药学上可接受的盐，其中A、R a、p、R和R 6在此处有定义，包括这些化合物的组合物以及用于治疗疾病的制备和使用这些化合物的方法。
• AROMATIC FLUORINE-FREE PHOTOACID GENERATORS AND PHOTORESIST COMPOSITIONS CONTAINING THE SAME
  申请人：Li Wenjie

  公开号：US20090181319A1

  公开（公告）日：2009-07-16

  Fluorine-free photoacid generators and photoresist compositions containing fluorine-free photoacid generators are enabled as alternatives to PFOS/PFAS photoacid generator-containing photoresists. The photoacid generators are characterized by the presence of a fluorine-free aromatic sulfonate anionic component having one or more electron withdrawing groups. The photoacid generators preferably contain a fluorine-free onium cationic component, more preferably a sulfonium cationic component. The photoresist compositions preferably contain an acid sensitive imaging polymer having a lactone functionality. The compositions are especially useful for forming material patterns using 193 nm (ArF) imaging radiation.

  无氟光酸发生剂和含有无氟光酸发生剂的光阻组合物作为PFOS / PFAS光酸发生剂光阻的替代品。这些光酸发生剂的特点在于具有一个或多个电子提取基团的无氟芳香磺酸盐阴离子成分。这些光酸发生剂最好包含无氟的离子阳离子成分，更好的是磺酸盐阳离子成分。这些光阻组合物最好含有具有内酯官能团的酸敏感成像聚合物。这些组合物在使用193 nm（ArF）成像辐射时特别有用于形成材料图案。