2-(prop-2-yn-1-yloxy)propan-1-ol | 19082-35-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: 2-(prop-2-yn-1-yloxy)propan-1-ol
• 英文别名: 2-(prop-2-ynyloxy)propanol；Propargyl alcohol propoxylate；2-prop-2-ynoxypropan-1-ol
• CAS: 19082-35-0
• 化学式: C₆H₁₀O₂
• mdl: MFCD09751410
• 分子量: 114.144
• InChiKey: JVSJDKRMKRFRBT-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -0.1
• 重原子数：
  8
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.666
• 拓扑面积：
  29.5
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-(prop-2-yn-1-yloxy)propan-1-ol 、 氯化亚砜 以24%的产率得到
  参考文献：
  名称：

  MATIESHKA, A. I.;CHEJKA, A. A.;MOZOLIS, V. V., TR. AN LITSSR, 1982, N 4/131, 51-61

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  1,2-丙二醇 、 3-溴丙炔 在 sodium hydride 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 生成 磷酸酯酶,酸性的,从麦芽所得 、 2-(prop-2-yn-1-yloxy)propan-1-ol
  参考文献：
  名称：

  通过类胡萝卜素链过程的ω-碘-和1，ω-二碘-1-炔烃的碳环化反应而不会损失碘原子

  摘要：

  描述了ω-碘-1-炔和1，ω-二碘-1-炔的原子经济碳环化反应，得到的产品中掺入了碘原子。通过催化量的LDA引发2-（2-丙炔氧基）乙基碘的环异构化，从而以高收率得到3-（碘亚甲基）四氢呋喃。用催化量的1-己炔基锂处理后，1，ω-二碘-1-炔烃有效地进行环异构化，得到（二碘亚甲基）环烷烃。二碘亚甲基产物也可以通过使用1-碘-1-己炔作为外部碘原子源，通过ω-碘-1-炔烃的碘原子转移型环化获得。分别通过使用1-溴-1-辛炔和1-辛炔来进行溴原子转移和质子转移环化。建议这些反应通过类胡萝卜素链过程进行，该过程涉及外的乙炔锂中间体-cyclization给力，我亚烷基卡宾。结果表明，该外型-cyclization立体专一性进行通过立体化学的反转在亲电子碳。

  DOI：

  10.1021/jo7021179

文献信息

• A chemical mechanical polishing (cmp) composition comprising two types of corrosion inhibitors
  申请人：BASF SE

  公开号：EP2502969A1

  公开（公告）日：2012-09-26

  A chemical-mechanical polishing ("CMP") composition (P) comprising (A) inorganic particles, organic particles, or a mixture or composite thereof, (B) at least one type of N-heterocyclic compound as corrosion inhibitor, (C) at least one type of a further corrosion inhibitor selected from the group consisting of: (C1) an acetylene alcohol, and (C2) a salt or an adduct of (C2a) an amine, and (C2b) a carboxylic acid comprising an amide moiety, (D) at least one type of an oxidizing agent, (E) at least one type of a complexing agent, and (F) an aqueous medium.

  一种化学机械抛光（"CMP"）组合物（P），包括 (A) 无机颗粒、有机颗粒或它们的混合物或复合材料、 (B) 作为缓蚀剂的至少一种 N-杂环化合物、 (C) 至少一种选自以下组别的进一步缓蚀剂 (C1) 乙炔醇，和 (C2) 以下物质的盐或加合物 (C2a) 一种胺，和 (C2b) 包含酰胺分子的羧酸的盐或加合物、 (D) 至少一种氧化剂、 (E) 至少一种络合剂，以及 (F) 水介质。
• A chemical mechanical polishing (cmp) composition comprising a polymeric polyamine
  申请人：BASF SE

  公开号：EP2502970A1

  公开（公告）日：2012-09-26

  A chemical-mechanical polishing (CMP) composition comprising (A) inorganic particles, organic particles, or a composite or mixture thereof, (B) a polymeric polyamine or a salt thereof comprising at least one type of pendant group (Y) which comprises at least one moiety (Z), wherein (Z) is a carboxylate (-COOR1), sulfonate (-SO3R2), sulfate (-O-SO3R3), phosphonate (-P(=O)(OR4)(OR5) ), phosphate (-O-P(=O)(OR6)(OR7) ), carboxylic acid (-COOH), sulfonic acid (-SO3H), sulfuric acid (-O-SO3-), phosphonic acid (-P(=O)(OH)2), phosphoric acid (-O-P(=O)(OH)2) moiety, or their deprotonated forms, R1 is alkyl, aryl, alkylaryl, or arylalkyl R2 is alkyl, aryl, alkylaryl, or arylalkyl, R3 is alkyl, aryl, alkylaryl, or arylalkyl, R4 is alkyl, aryl, alkylaryl, or arylalkyl, R5 is H, alkyl, aryl, alkylaryl, or arylalkyl, R6 is alkyl, aryl, alkylaryl, or arylalkyl, R7 is H, alkyl, aryl, alkylaryl, or arylalkyl, and (C) an aqueous medium.

  一种化学机械抛光（CMP）组合物，包括 (A) 无机颗粒、有机颗粒或它们的复合体或混合物、 (B) 聚合多胺或其盐，包含至少一种悬垂基团 (Y)，其中至少包含一个分子 (Z)、 其中(Z)是羧酸盐(-COOR1)、磺酸盐(-SO3R2)、硫酸盐(-O-SO3R3)、膦 酸盐(-P(=O)(OR4)(OR5) )、磷酸盐(-O-P(=O)(OR6)(OR7) )、羧酸(-COOH)、磺酸 (-SO3H)、硫酸 (-O-SO3-)、膦酸 (-P(=O)(OH)2)、磷酸 (-O-P(=O)(OH)2) 分子，或它们的去质子化形式、 R1 是烷基、芳基、烷芳基或芳烷基 R2 是烷基、芳基、烷芳基或芳基烷基 R3 是烷基、芳基、烷芳基或芳基烷基、 R4 是烷基、芳基、烷芳基或芳基烷基、 R5 是 H、烷基、芳基、烷芳基或芳基烷基、 R6 是烷基、芳基、烷芳基或芳基烷基、 R7 是 H、烷基、芳基、烷芳基或芳基烷基、 和 (C) 水介质。
• MATIESHKA, A. I.;CHEJKA, A. A.;MOZOLIS, V. V.;PLEVOKAS, S. P., TR. AN LITSSR, 1982, N 2/129, 27-37
  作者：MATIESHKA, A. I.、CHEJKA, A. A.、MOZOLIS, V. V.、PLEVOKAS, S. P.

  DOI：——

  日期：——
• A CHEMICAL MECHANICAL POLISHING (CMP) COMPOSITION COMPRISING TWO TYPES OF CORROSION INHIBITORS
  申请人：BASF SE

  公开号：EP2688966A1

  公开（公告）日：2014-01-29
• CHEMICAL MECHANICAL POLISHING (CMP) COMPOSITION COMPRISING TWO TYPES OF CORROSION INHIBITORS
  申请人：Gao Ning

  公开号：US20150118845A1

  公开（公告）日：2015-04-30

  A chemical-mechanical polishing (“CMP”) composition (P) comprising (A) inorganic particles, organic particles, or a mixture or composite thereof, (B) at least one type of A/-heterocyclic compound as corrosion inhibitor, (C) at least one type of a further corrosion inhibitor selected from the group consisting of: (C1) an acetylene alcohol, and (C2) a salt or an adduct of (C2a) an amine, and (C2b) a carboxylic acid comprising an amide moiety, (D) at least one type of an oxidizing agent, (E) at least one type of a complexing agent, and (F) an aqueous medium.