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1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2,2-bis-[4-methyl-3-(2,2,2-trifluoro-1-hydroxy-1-trifluoromethyl-ethyl)-phenyl]-propane | 127002-42-0

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2,2-bis-[4-methyl-3-(2,2,2-trifluoro-1-hydroxy-1-trifluoromethyl-ethyl)-phenyl]-propane
英文别名
1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-[5-[1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-[3-(1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-hydroxypropan-2-yl)-4-methylphenyl]propan-2-yl]-2-methylphenyl]propan-2-ol
1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2,2-bis-[4-methyl-3-(2,2,2-trifluoro-1-hydroxy-1-trifluoromethyl-ethyl)-phenyl]-propane化学式
CAS
127002-42-0
化学式
C23H14F18O2
mdl
——
分子量
664.334
InChiKey
FECDJDWSAXDSKL-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
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计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    9
  • 重原子数:
    43
  • 可旋转键数:
    4
  • 环数:
    2.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.48
  • 拓扑面积:
    40.5
  • 氢给体数:
    2
  • 氢受体数:
    20

上下游信息

  • 上游原料
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量
  • 下游产品
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

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文献信息

  • Sulfonic acid esters, radiation-sensitive mixtures prepared therewith
    申请人:Hoechst Aktiengesellschaft
    公开号:US05716756A1
    公开(公告)日:1998-02-10
    Sulfonic acid esters are used as (a) compounds for forming a strong acid on irradiation in radiation-sensitive, positive or negative working mixtures also comprising (b) either a compound with at least one acid-decomposable C--O--C or C--O--Si bond (for positive working mixtures) or a compound with at least acid-cross-linkable groups (for negative working mixtures) and c) a binder which is insoluble in water but soluble or at least swellable in aqueous alkaline solutions, wherein said sulfonic acid esters are formula \x9bR.sup.1 --CR.sup.2 (CF.sub.3)--O--SO.sub.2 --!.sub.n R.sup.3(I) or R.sup.1 \x9b--CR.sup.2 (CF.sub.3)--O--SO.sub.2 --R.sup.3 !m (II) wherein R.sup.1, R.sup.2, R.sup.3, n and n are defined with the body of the disclosure. These mixtures are particularly suitable for exposure to deep UV radiation in the formation of recording materials suitable for the production of photoresists, electronic components, and printing plates.
    磺酸酯被用作(a)化合物,在辐射敏感的正或负工作混合物中辐照时形成强酸,还包括(b)至少具有一个酸分解C-O-C或C-O-Si键的化合物(用于正工作混合物)或至少具有酸交联基团的化合物(用于负工作混合物),以及(c)一种在水中不溶但在碱性水溶液中可溶或至少可膨胀的粘合剂,其中所述的磺酸酯为公式\x9bR.sup.1 --CR.sup.2 (CF.sub.3)--O--SO.sub.2 --!.sub.n R.sup.3(I)或R.sup.1\x9b--CR.sup.2 (CF.sub.3)--O--SO.sub.2 --R.sup.3 !m(II),其中R.sup.1,R.sup.2,R.sup.3,n和n在本文中有定义。这些混合物特别适用于深紫外辐射曝光,用于制备适用于光刻胶、电子元件和印刷版的记录材料。
  • REYNOLDS, DAN W.;CASSIDY, PATRICK E.;JOHNSON, C. GREG;CAMERON, MITCH L., J. ORG. CHEM., 55,(1990) N4, C. 4448-4454
    作者:REYNOLDS, DAN W.、CASSIDY, PATRICK E.、JOHNSON, C. GREG、CAMERON, MITCH L.
    DOI:——
    日期:——
  • SULFONSÄUREESTER, DAMIT HERGESTELLTE STRAHLUNGSEMPFINDLICHE GEMISCHE UND DEREN VERWENDUNG
    申请人:Clariant GmbH
    公开号:EP0681713B1
    公开(公告)日:1998-11-18
  • GAS SEPARATION MEMBRANE
    申请人:CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED
    公开号:EP2716351B1
    公开(公告)日:2016-06-29
  • Gas Separation Membrane
    申请人:Yamanaka Kazuhiro
    公开号:US20140174293A1
    公开(公告)日:2014-06-26
    [Problem] Diamine and carboxylic dianhydride for polymerizing a hexafluoroisopropylidene group-containing polyimide are limited in chemical structure when developed into a polyimide membrane, so that it is difficult to design a chemical structure with consideration paid to the strength and separation performance of a gas separation membrane. A gas separation membrane easily soluble in an organic solvent, excellent in formability so as to be readily usable for a gas separation membrane, and excellent in gas separation performance is obtained. [Solution] A gas separation membrane, including: a polyimide that contains a repeating unit represented by general formula (1). [In the formula (1), R 1 is a divalent organic group and R 2 is a tetravalent organic group, R 1 containing a 2-hydroxy-1,1,1,3,3,3-hexafluoroisopropyl group (—C(CF 3 ) 2 OH).]
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