5-ethyl-1H-imidazole-2-carboxylic acid | 1171124-84-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 唑类
• 英文名称: 5-ethyl-1H-imidazole-2-carboxylic acid
• CAS: 1171124-84-7
• 化学式: C₆H₈N₂O₂
• mdl: MFCD19231916
• 分子量: 140.142
• InChiKey: UQFCFPLMDJGELA-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  379.9±35.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.318±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.8
• 重原子数：
  10
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.333
• 拓扑面积：
  66
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  5-ethyl-1H-imidazole-2-carboxylic acid 、 4-amino-3-isopropoxybenzamide 在 草酰氯 、 吡啶 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 以12 %的产率得到N-(4-carbamoyl-2-isopropoxyphenyl)-5-ethyl-1H-imidazole-2-carboxamide
  参考文献：
  名称：

  ATP-competitive inhibitors of human DNA topoisomerase IIα with improved antiproliferative activity based on N-phenylpyrrolamide scaffold

  摘要：

  DOI：

  10.1016/j.ejmech.2023.115116
• 作为产物：
  描述：

  4-乙基-1H-咪唑 在 10 wt% Pd(OH)2 on carbon 、 水 、 氢气 、 sodium hydride 、 sodium hydroxide 作用下， 以 甲醇 、 乙醇 、 N,N-二甲基甲酰胺 为溶剂， 50.0 ℃ 、405.33 kPa 条件下， 反应 3.0h， 生成 5-ethyl-1H-imidazole-2-carboxylic acid
  参考文献：
  名称：

  4-烷基咪唑-2-羧酸的合成方法

  摘要：

  本发明提供了一种4-烷基咪唑-2-羧酸I的合成方法，包括：步骤1)、以2-烷基咪唑II为原料，在碱存在下，与BnX反应生成一对位置异构体混合物IIIa和IIIb；步骤2)、该混合物无需分离，在碱存在下与卤代甲酸酯(即XCOOR2)反应生成一对相应的异构体IVa和IVb；步骤3)、在氢化催化剂条件下加氢脱去苄基得到化合物V；步骤4)、在碱存在下，水解生成目标产物4-烷基咪唑-2-羧酸I；反应路线为：其中R1选自氢原子、甲基、乙基等低级烷基，R2选自C1-C6的烷基、C1-C6的取代烷基、苯基或苄基。本发明的构思非常巧妙，且在本发明方法中，各个步骤均采用了廉价的试剂，且每一步的收率都较高，因此可以高效、便捷、低成本地获得最终的目标产物-4-烷基咪唑-2-羧酸I。

  公开号：

  CN104016925B

文献信息

• [EN] BENZENE-FUSED 6-MEMBERED OXYGEN-CONTAINING HETEROCYCLIC DERIVATIVES OF BICYCLIC HETEROARYLS<br/>[FR] DÉRIVÉS HÉTÉROCYCLIQUES D'HÉTÉROARYLES BICYCLIQUES À 6 CYCLES BENZÉNIQUES ACCOLÉS DE BENZÈNE CONTENANT DE L'OXYGÈNE
  申请人：NOVARTIS AG

  公开号：WO2011064211A1

  公开（公告）日：2011-06-03

  The invention relates to new derivatives of formula I, wherein the substituents are as defined in the specification; to processes for the preparation of such derivatives; pharmaceutical compositions comprising such derivatives; such derivatives as a medicament; such derivatives for the treatment of a proliferative disease.

  这项发明涉及公式I的新衍生物，其中取代基如规范中所定义；制备这种衍生物的方法；包括这种衍生物的药物组合物；这种衍生物作为药物；这种衍生物用于治疗增殖性疾病。
• [EN] BENZOFURANS AS IRAK4 MODULATORS<br/>[FR] BENZOFURANES UTILISÉS EN TANT QUE MODULATEURS D'IRAK4
  申请人：HOFFMANN LA ROCHE

  公开号：WO2018234343A1

  公开（公告）日：2018-12-27

  Compounds of Formula (0), and stereoisomers and pharmaceutically acceptable salts thereof, as well as methods of use as Interleukin-1 Receptor Associated Kinase (IRAK4) inhibitors are described herein.

  化合物的结构式（0），以及其立体异构体和药学上可接受的盐，以及作为白细胞介素-1受体相关激酶（IRAK4）抑制剂的使用方法在此处描述。
• ANTIVIRAL COMPOUNDS
  申请人：Aktoudianakis Evangelos

  公开号：US20100022508A1

  公开（公告）日：2010-01-28

  The invention is related to anti-viral compounds, compositions containing such compounds, and therapeutic methods that include the administration of such compounds, as well as to processes and intermediates useful for preparing such compounds.

  这项发明涉及抗病毒化合物，含有这种化合物的组合物，以及包括给予这种化合物的治疗方法，还涉及用于制备这种化合物的过程和中间体。
• RESIST UNDERLAYER FILM FORMING COMPOSITION CONTAINING SILICON HAVING ANION GROUP
  申请人：Shibayama Wataru

  公开号：US20110287369A1

  公开（公告）日：2011-11-24

  There is provided a resist underlayer film forming composition for lithography for forming a resist underlayer film capable of being used as a hardmask. A resist underlayer film forming composition for lithography comprising a silane compound containing an anion group, wherein the silane compound containing an anion group is a hydrolyzable organosilane in which an organic group containing an anion group is bonded to a silicon atom and the anion group forms a salt structure, a hydrolysis product thereof, or a hydrolysis-condensation product thereof. The anion group may be a carboxylic acid anion, a phenolate anion, a sulfonic acid anion, or a phosphonic acid anion. The hydrolyzable organosilane may be a compound of Formula (1): R 1 a R 2 b Si(R 3 ) 4−(a+b) (1). A composition comprising a mixture of a hydrolyzable organosilane of Formula (1), and at least one organic silicon compound selected from the group consisting of a compound of Formula (2): R 4 a Si(R 5 ) 4−a (2) and a compound of Formula (3): [R 6 c Si(R 7 ) 3−c ] 2 Y b (3); a hydrolysis product of the mixture; or a hydrolysis-condensation product of the mixture.

  提供了一种用于光刻的抗蚀底层膜形成组合物，用于形成可用作硬膜的抗蚀底层膜。该抗蚀底层膜形成组合物包括含有阴离子基团的硅烷化合物，其中含有阴离子基团的硅烷化合物是一种可水解的有机硅烷，其中含有阴离子基团的有机基团与硅原子键合，阴离子基团形成盐结构，其水解产物或水解缩合产物。阴离子基团可以是羧酸阴离子、酚酸盐阴离子、磺酸盐阴离子或磷酸盐阴离子。可水解的有机硅烷可以是式（1）的化合物：R1aR2bSi（R3）4−（a+b）（1）。组合物包括式（1）的可水解有机硅烷的混合物，以及选择自化合物组中的至少一种有机硅化合物的混合物，该组具有式（2）的化合物：R4aSi（R5）4−a（2）和式（3）的化合物：[R6cSi（R7）3−c] 2Yb（3）；该混合物的水解产物；或该混合物的水解缩合产物。
• Benzene-fused 6-membered oxygen-containing heterocyclic derivatives of bicyclic heteroaryls
  申请人：Chen Bei

  公开号：US20120289501A1

  公开（公告）日：2012-11-15

  The invention relates to new derivatives of formula I, wherein the substituents are as defined in the specification; to processes for the preparation of such derivatives; pharmaceutical compositions comprising such derivatives; such derivatives as a medicament; such derivatives for the treatment of a proliferative disease.

  本发明涉及I式的新衍生物，其中取代基如规范中定义；制备这种衍生物的方法；包含这种衍生物的药物组合物；这种衍生物作为药物；这种衍生物用于治疗增生性疾病。