1-t-butoxycarbonylmethyl,-O,O,O,O-tetramethylpropylene-1,3-diphosphonate | 1428320-26-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 脂质和类脂质分子 - 脂肪酰基
• 英文名称: 1-t-butoxycarbonylmethyl,-O,O,O,O-tetramethylpropylene-1,3-diphosphonate
• 英文别名: 1-tert-butoxycarbonylmethyl-O,O,O,O-tetramethylpropylene-1,3-diphosphonate；Tert-butyl 3,5-bis(dimethoxyphosphoryl)pentanoate；tert-butyl 3,5-bis(dimethoxyphosphoryl)pentanoate
• CAS: 1428320-26-6
• 化学式: C₁₃H₂₈O₈P₂
• 分子量: 374.308
• InChiKey: KEDPAUKWKHOUEH-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0
• 重原子数：
  23
• 可旋转键数：
  12
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.92
• 拓扑面积：
  97.4
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  8

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1-t-butoxycarbonylmethyl,-O,O,O,O-tetramethylpropylene-1,3-diphosphonate 在 三氟乙酸 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 以132 mg的产率得到1-carboxymethyl,-O,O,O,O-tetramethylpropylene-1,3-diphosphonate
  参考文献：
  名称：

  [EN] NOVEL MANGANESE COMPRISING NANOSTRUCTURES
  [FR] NOUVELLES NANOSTRUCTURES COMPORTANT DU MANGANÈSE

  摘要：

  本文披露了包含至少五个伽那双膦酸酯基团的聚合物框架的纳米结构，其中这些伽那双膦酸酯基团独立地被结合为-R3R4C(P=O(OR1)(OR2))2，其中R1和R2分别从阴离子、H、烷基和芳基组成的组中独立选择，且其中R3和R4中至少有一个是连接到聚合物框架的基团，但有一个限制条件，即当R3和R4中仅有一个是这样的连接基团时，另一个R3和R4要么是能够连接到聚合物框架的基团，要么是这种基团的残基，或者从H、OH、OR5和R5组成的组中选择，其中R5是较低的烷基。聚合物框架可能包括锰离子。还披露了制备含锰的纳米结构的方法，包含这种含锰纳米结构的组合物以及使用这种含锰纳米结构，例如作为MRI对比剂。

  公开号：

  WO2013041623A1
• 作为产物：
  描述：

  溴乙酸叔丁酯 、 tetramethylpropylene-1,3-diphosphonate 在 叔丁基锂 作用下， 以 四氢呋喃 、 正庚烷 为溶剂， 反应 1.17h， 以134 mg的产率得到1-t-butoxycarbonylmethyl,-O,O,O,O-tetramethylpropylene-1,3-diphosphonate
  参考文献：
  名称：

  [EN] NOVEL MANGANESE COMPRISING NANOSTRUCTURES
  [FR] NOUVELLES NANOSTRUCTURES COMPORTANT DU MANGANÈSE

  摘要：

  本文披露了包含至少五个伽那双膦酸酯基团的聚合物框架的纳米结构，其中这些伽那双膦酸酯基团独立地被结合为-R3R4C(P=O(OR1)(OR2))2，其中R1和R2分别从阴离子、H、烷基和芳基组成的组中独立选择，且其中R3和R4中至少有一个是连接到聚合物框架的基团，但有一个限制条件，即当R3和R4中仅有一个是这样的连接基团时，另一个R3和R4要么是能够连接到聚合物框架的基团，要么是这种基团的残基，或者从H、OH、OR5和R5组成的组中选择，其中R5是较低的烷基。聚合物框架可能包括锰离子。还披露了制备含锰的纳米结构的方法，包含这种含锰纳米结构的组合物以及使用这种含锰纳米结构，例如作为MRI对比剂。

  公开号：

  WO2013041623A1

文献信息

• Nanostructures comprising manganese
  申请人：Spago Imaging AB

  公开号：EP2572736A1

  公开（公告）日：2013-03-27

  Disclosed herein are nanostructures comprising manganese ions incorporated in a polymeric framework comprising at least five geminal bisphosphonate groups, wherein the geminal bisphosphonate groups independently of each other are incorporated as -R3R4C(P=O(OR2)(OR2))2, wherein R1 and R2 are independently selected from the group consisting of a negative charge, H, alkyl and aryl, and wherein at least one of R3 and R4 is a group connected to the polymeric framework with the proviso that when only one of R3 and R4 is such a connected group, the other of R3 and R4 is either a group being able to connect to the polymeric framework, or the residue of such a group, or selected from the group consisting of H, OH, OR5 and R5, wherein R5 is a lower alkyl. Disclosed are also methods for producing such nanostructures, compositions comprising such nanostructures and use of such nanostructures, i.a. as MRI contrasting agents.

  本文披露了一种包含锰离子的纳米结构，所述纳米结构包括至少五个伽那双膦酸酯基团的聚合物框架，其中这些伽那双膦酸酯基团独立地被结合为-R3R4C(P=O(OR2)(OR2))2，其中R1和R2分别选自负电荷、H、烷基和芳基组成的组，且R3和R4中至少一个是连接到聚合物框架的基团，但有一个例外，即当R3和R4中仅有一个是这样的连接基团时，另一个则是能够连接到聚合物框架的基团，或者是这样一个基团的残基，或者选自H、OH、OR5和R5组成的组，其中R5是较低的烷基。还披露了制备这种纳米结构的方法、包含这种纳米结构的组合物以及这种纳米结构的用途，例如作为磁共振成像对比剂。
• NOVEL MANGANESE COMPRISING NANOSTRUCTURES
  申请人：SPAGO IMAGING AB

  公开号：US20140350193A1

  公开（公告）日：2014-11-27

  Disclosed herein are nanostructures comprising a polymeric framework comprising at least five geminal bisphosphonate groups, wherein the geminal bisphosphonate groups independently of each other are incorporated as —R 3 R 4 C(P═O(OR 1 )(OR 2 )) 2 , wherein R 1 and R 2 are independently selected from the group consisting of a negative charge, H, alkyl and aryl, and wherein at least one of R 3 and R 4 is a group connected to the polymeric framework with the proviso that when only one of R 3 and R 4 is such a connected group, the other of R 3 and R 4 is either a group being able to connect to the polymeric framework, or the residue of such a group, or selected from the group consisting of H, OH, OR 5 and R 5 , wherein R 5 is a lower alkyl. The polymeric framework may comprise manganese ions. Disclosed are also methods for producing such manganese containing nanostructures, compositions comprising such manganese containing nanostructures and use of such manganese containing nanostructures, i.a. as MRI contrasting agents.

  本文披露了一种纳米结构，包括至少五个双磷酸酯基团的聚合物框架，其中双磷酸酯基团独立地作为-R3R4C（P═O（OR1）（OR2））2并入，其中R1和R2分别选择自阴离子、H、烷基和芳基的群组，而且R3和R4中至少有一个是连接到聚合物框架的群组，但是当R3和R4中仅有一个是这样的连接群组时，另一个则为能够连接到聚合物框架的群组，或是这样的群组的残基，或选择自H、OH、OR5和R5的群组，其中R5是较低的烷基。聚合物框架可以包括锰离子。此外，本文还披露了制备这种含锰纳米结构的方法，包含这种含锰纳米结构的组合物以及使用这种含锰纳米结构的方法，例如作为MRI对比剂。
• MANGANESE COMPRISING NANOSTRUCTURES
  申请人：Spago Nanomedical AB (publ)

  公开号：EP2750716B1

  公开（公告）日：2019-12-25
• US9040637B2
  申请人：——

  公开号：US9040637B2

  公开（公告）日：2015-05-26
• [EN] NOVEL MANGANESE COMPRISING NANOSTRUCTURES<br/>[FR] NOUVELLES NANOSTRUCTURES COMPORTANT DU MANGANÈSE
  申请人：SPAGO IMAGING AB

  公开号：WO2013041623A1

  公开（公告）日：2013-03-28

  Disclosed herein are nanostructures comprising a polymeric framework comprising at least five geminal bisphosphonate groups, wherein the geminal bisphosphonate groups independently of each other are incorporated as - R3R4C(P=O(OR1)(OR2))2, wherein R1 and R2 are independently selected from the group consisting of a negative charge, H, alkyl and aryl, and wherein at least one of R3 and R4 is a group connected to the polymeric framework with the proviso that when only one of R3 and R4 is such a connected group, the other of R3 and R4 is either a group being able to connect to the polymeric framework, or the residue of such a group, or selected from the group consisting of H, OH, OR5 and R5, wherein R5 is a lower alkyl. The polymeric framework may comprise manganese ions. Disclosed are also methods for producing such manganese containing nanostructures, compositions comprising such manganese containing nanostructures and use of such manganese con¬ taining nanostructures, i.a. as MRI contrasting agents.

  本文披露了包含至少五个伽那双膦酸酯基团的聚合物框架的纳米结构，其中这些伽那双膦酸酯基团独立地被结合为-R3R4C(P=O(OR1)(OR2))2，其中R1和R2分别从阴离子、H、烷基和芳基组成的组中独立选择，且其中R3和R4中至少有一个是连接到聚合物框架的基团，但有一个限制条件，即当R3和R4中仅有一个是这样的连接基团时，另一个R3和R4要么是能够连接到聚合物框架的基团，要么是这种基团的残基，或者从H、OH、OR5和R5组成的组中选择，其中R5是较低的烷基。聚合物框架可能包括锰离子。还披露了制备含锰的纳米结构的方法，包含这种含锰纳米结构的组合物以及使用这种含锰纳米结构，例如作为MRI对比剂。