Hexafluoroalcohol-based Monomers and Processes of Preparation Thereof
申请人:Motallebi Shahrokh
公开号:US20090143611A1
公开(公告)日:2009-06-04
The present invention relates to compounds of formula (I): wherein R
1
is H, or a C
1
-C
10
linear, branched or cyclic alkyl group which is unsubstituted or substituted with fluorine; R
2
is an alicyclic group having 5 to 20 carbon atoms which is unsubstituted or substituted with fluorine; and R
3
represents a C
1
-C
10
linear or branched alkylene which is unsubstituted or substituted with fluorine. Processes for preparing such compounds are also disclosed. The compounds of the present invention can be used as monomers in the fields of photolithography and semiconductor fabrication.
[EN] NEW HEXAFLUOROALCOHOL-BASED MONOMERS AND PROCESSES OF PREPARATION THEREOF<br/>[FR] NOUVEAUX MONOMÈRES DE TYPE HEXAFLUOROALCOOL ET PROCÉDÉS DE SYNTHÈSE DESDITS MONOMÈRES
申请人:ST JEAN PHOTOCHIMIE INC
公开号:WO2006050609A1
公开(公告)日:2006-05-18
[EN] The present invention relates to compounds of formula (I): wherein R1 is H, or a C1-C10 linear, branched or cyclic alkyl group which is unsubstituted or substituted with fluorine; R2 is an alicyclic group having 5 to 20 carbon atoms which is unsubstituted or substituted with fluorine; and R3 represents a C1-C10 linear or branched alkylène which is unsubstituted or substituted with fluorine. Processes for preparing such compounds are also disclosed. The compounds of the present invention can be used as monomers in the fields of photolithography and semiconductor fabrication. [FR] La présente invention a pour objet des composés de formule (I) : où R1 représente H ou un groupement alkyle linéaire, ramifié ou cyclique en C1-C10, non substitué ou substitué par du fluor ; R2 représente un groupement alicyclique en C5-C20, non substitué ou substitué par du fluor ; et R3 représente un groupement alkylène linéaire ou ramifié en C1-C10, non substitué ou substitué par du fluor. La présente invention décrit également des procédés de synthèse de tels composés. Les composés décrits dans la présente invention peuvent être employés en tant que monomères dans les domaines de la photolithographie et de la fabrication de semi-conducteurs.