2-benzenesulfonyl-2,2-dibromo-1-phenyl-ethanone | 23128-58-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: 2-benzenesulfonyl-2,2-dibromo-1-phenyl-ethanone
• 英文别名: ω.ω-Dibrom-ω-phenylsulfon-acetophenon；2-Benzolsulfonyl-2,2-dibrom-1-phenyl-aethanon；2,2-Dibromo-1-phenyl-2-(phenylsulfonyl)ethanone；2-(benzenesulfonyl)-2,2-dibromo-1-phenylethanone
• CAS: 23128-58-7
• 化学式: C₁₄H₁₀Br₂O₃S
• 分子量: 418.106
• InChiKey: WPQLYDPMRWGBOL-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.1
• 重原子数：
  20
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.07
• 拓扑面积：
  59.6
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-benzenesulfonyl-2,2-dibromo-1-phenyl-ethanone 在 sodium hydroxide 作用下， 反应 0.5h， 以99%的产率得到二溴甲基磺酰苯
  参考文献：
  名称：

  Chemoselective mono halogenation of β-keto-sulfones using potassium halide and hydrogen peroxide; synthesis of halomethyl sulfones and dihalomethyl sulfones

  摘要：

  The synthesis of alpha-halo beta-keto-sulfones using potassium halide and hydrogen peroxide as a chemoselective mono halogenation reagent and the synthesis of alpha, alpha-symmetrical and asymmetrical dihalo beta-keto-sulfones and alpha-halo, alpha-alkyl and beta-keto-sulfones is described. Base induced cleavage of alpha-halo beta-keto-sulfones, alpha,alpha-dihalo beta-keto-sulfones, and alpha-halo, alpha-alkyl beta-keto-sulfones afforded the corresponding halomethyl sulfones, dihalomethyl sulfones and haloalkyl sulfones. (c) 2006 Elsevier Ltd. All rights reserved.

  DOI：

  10.1016/j.tetlet.2006.11.129
• 作为产物：
  描述：

  ω-bromo-ω-phenylsulfonylacetophenone 在 溴 、 三乙胺 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 反应 6.0h， 以99%的产率得到2-benzenesulfonyl-2,2-dibromo-1-phenyl-ethanone
  参考文献：
  名称：

  Chemoselective mono halogenation of β-keto-sulfones using potassium halide and hydrogen peroxide; synthesis of halomethyl sulfones and dihalomethyl sulfones

  摘要：

  The synthesis of alpha-halo beta-keto-sulfones using potassium halide and hydrogen peroxide as a chemoselective mono halogenation reagent and the synthesis of alpha, alpha-symmetrical and asymmetrical dihalo beta-keto-sulfones and alpha-halo, alpha-alkyl and beta-keto-sulfones is described. Base induced cleavage of alpha-halo beta-keto-sulfones, alpha,alpha-dihalo beta-keto-sulfones, and alpha-halo, alpha-alkyl beta-keto-sulfones afforded the corresponding halomethyl sulfones, dihalomethyl sulfones and haloalkyl sulfones. (c) 2006 Elsevier Ltd. All rights reserved.

  DOI：

  10.1016/j.tetlet.2006.11.129

文献信息

• Photosensitive compositions containing carbonylic halides as activators
  申请人：Dynachem Corporation

  公开号：EP0005379A2

  公开（公告）日：1979-11-14

  Compositions containing a polymerizable, curable or crosslinkable component. a photoinitiator, a colorformer capable of changing color upon contact with a suitable activator and a latent activator containing an organic halide will become insoluble and change color under the influence of actinic radiation. The organic halide is a carbonylic compound such as an aliphatic or cycloaliphatic ketone or an ester or amide of a dicarboxylic acid. The compositions are useful to make resists used in the electronics industry to manufacture printed circuits.

  含有可聚合、可固化或可交联成分、光引发剂、与适当活化剂接触后能变色的着色剂和含有有机卤化物的潜在活化剂的组合物，在光辐射的影响下会变得不溶解并变色。 有机卤化物是一种羰基化合物，如脂肪族或环脂族酮或二羧酸的酯或酰胺。 这些组合物可用于制造电子工业中用于制造印刷电路的抗蚀剂。
• Phototropic photosensitive compositions containing a fluoran colorformer
  申请人：Dynachem Corporation

  公开号：EP0005380A2

  公开（公告）日：1979-11-14

  Compositions containing a polymerizable, curable or crosslinkable component, a photoinitiator, a fluoran colorformer and a latent activator that releases or promotes the release of a Lewis acid, will become insoluble and change color under the influence of actinic radiation. These compositions are particularly useful to make dry film photoresists, which are widely used in the electronics industry to manufacture printed circuits.

  含有可聚合、可固化或可交联成分、光引发剂、荧光显色剂和可释放或促进释放路易斯酸的潜在活化剂的组合物，在光辐射的影响下会变得不溶解并改变颜色。这些成分特别适用于制造干膜光阻，干膜光阻在电子工业中广泛用于制造印刷电路。
• Photopolymerisierbares Gemisch und dieses enthaltendes photopolymerisierbares Aufzeichnungsmaterial
  申请人：HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT

  公开号：EP0243784A2

  公开（公告）日：1987-11-04

  Es wird ein photopolymerisierbares Gemisch beschrieben, das ein polymeres Bindemittel, eine polymerisierbare Verbindung und eine Photoinitiatorkombination aus einer N-heterocyclischen Verbindung und einer Halogenverbin­dung einer der allgemeinen Formeln I und II enthält, worin X¹  Chlor oder Brom bedeutet, X² und X³  gleich oder verschieden sind und X¹, Wasserstoff oder Alkylgruppen bedeuten, Y und Z  gleich oder verschieden sind und X¹, Wasserstoff, CN oder (A)n-(B)n-D bedeuten, A  eine Phenylengruppe, n  O oder 1, B  CO oder SO₂, D  R, OR, NHR, NH₂, NR₂ oder CX¹X²X³, R  ein Alkyl-, Cycloalkyl-, Aryl- oder Heteroylrest, W  ein 5- oder 6-gliedriger hetero­cyclischer Ring mit 1 bis 3 Heteroatomen, der ggf. Substi­tuenten und ggf. einen anellierten aromatischen Ring trägt, und m  1 oder 2 ist. Das Gemisch zeichnet sich durch eine erhöhte Lichtemp­findlichkeit aus.

  所述的可光聚合混合物包括聚合物粘合剂、可聚合化合物和由通式 I 和 II 之一的 N-杂环化合物和卤素化合物组合而成的光引发剂 其中 X¹ 是氯或溴、 X²和X³相同或不同，X¹表示氢或烷基、 Y 和 Z 相同或不同，表示 X¹、氢、CN 或 (A)n-(B)n-D、 A 是亚苯基、 n 是 O 或 1、 B CO 或 SO₂、 D 是 R、OR、NHR、NH₂、NR₂ 或 CX¹X²X³、 R 是烷基、环烷基、芳基或杂酰基、 W 是具有 1 至 3 个杂原子的 5 或 6 元杂环，可选择带有取代基，也可选择是融合的芳香环，以及 m 为 1 或 2。 混合物的特点是光敏性增加。
• Photopolymerisierbares Gemisch
  申请人：MORTON INTERNATIONAL, INC.

  公开号：EP0311926A2

  公开（公告）日：1989-04-19

  Es wird ein photopolymerisierbares Gemisch beschrie­ben, das als wesentliche Bestandteile ein polymeres Bindemittel, eine radikalisch polymerisierbare Ver­bindung, einen Photoinitiator, einen Leukofarbstoff und eine Verbindung mit mindestens einer Epoxygruppe enthält. Das Gemisch hat eine bessere Dunkellagerfähigkeit als bekannte Gemische und wird vorzugsweise zur Herstel­lung von Trockenphotoresist verwendet.

  本文描述了一种可光聚合的混合物，其主要成分包括聚合物粘合剂、可自由基聚合的化合物、光引发剂、白兰地染料和至少含有一个环氧基团的化合物。 与已知的混合物相比，这种混合物具有更好的暗贮稳定性，最好用于生产干光刻胶。
• Strahlungshärtbares Gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial für hochenergetische Strahlung
  申请人：HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT

  公开号：EP0388677A2

  公开（公告）日：1990-09-26

  Es wird ein strahlungshärtbares Gemisch vorgeschlagen, welches eine Verbindung, die unter Einwirkung von hoch­energetischer Strahlung eine Säure bildet, sowie eine Verbindung enthält, die durch Säure spaltbar ist, und das dadurch gekennzeichnet ist, daß die Verbindung, die eine Säure bildet, aliphatisch gebundenes Halogen (Chlor oder Brom) enthält und einen pKa-Wert von kleiner als 12 auf­weist oder ein durch Säurekatalyse in die freie Verbin­dung überführbares Derivat einer Verbindung mit einem derartigen pKa-Wert ist. Das beanspruchte Gemisch, insbesondere das daraus herge­stellte Aufzeichnungsmaterial weist eine höhere Empfind­lichkeit und eine verbesserte Auflösung auf und zeigt zu­dem keine Bildschleier nach dem Entwickeln.

  本发明提出了一种辐射固化混合物，其中含有一种在高能辐射作用下形成酸的化合物和一种可被酸裂解的化合物，其特点是形成酸的化合物含有脂肪族结合卤素（氯或溴），pKa 值小于 12，或者是具有这种 pKa 值的化合物的衍生物，可在酸催化作用下转化为游离化合物。 这种混合物，特别是用它制成的记录材料，具有更高的灵敏度和更高的分辨率，而且在显影后不会出现任何图像雾化现象。