N'-hydroxy-1-oxo-1,3-dihydroisobenzofuran-5-carboximidamide | 1146973-38-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 异香豆素
• 英文名称: N'-hydroxy-1-oxo-1,3-dihydroisobenzofuran-5-carboximidamide
• 英文别名: N'-hydroxy-1-oxo-3H-2-benzofuran-5-carboximidamide
• CAS: 1146973-38-7
• 化学式: C₉H₈N₂O₃
• 分子量: 192.174
• InChiKey: KCAYKNUVWGWIBJ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.5
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.11
• 拓扑面积：
  84.9
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  N'-hydroxy-1-oxo-1,3-dihydroisobenzofuran-5-carboximidamide 在 carbonyl(pentamethylcyclopentadienyl)cobalt diiodide 、 1-金刚烷甲酸 、 potassium acetate 、 1,8-二氮杂双环[5.4.0]十一碳-7-烯 作用下， 以 1,4-二氧六环 、 2,2,2-三氟乙醇 为溶剂， 反应 23.0h， 生成 5-amino-7,8-diphenylfuro[3,4-g]isoquinolin-3(1H)-one
  参考文献：
  名称：

  恶二唑酮使能的氮杂芳族伯胺的合成

  摘要：

  尽管它们具有巨大的合成和制药用途，但基于普遍适用的C–H官能化策略，氮杂芳族伯胺仍然难以获得。恶二唑酮使能的方法据报道可方便地通过炔烃通过Co（III）催化的氧化还原中性，阶跃，原子和纯化经济的CHH功能化进入N-未取代的1-氨基异喹啉。甲15 Ñ标记实验揭示了两个恶二唑酮N原子作为引导位点的有效性。可以将已安装的伯胺用作合成有用的手柄，用于附接发散的附件。

  DOI：

  10.1021/acs.orglett.6b02814
• 作为产物：
  描述：

  5-氰基苯酞 在 盐酸羟胺 、 碳酸氢钠 作用下， 以 甲醇 为溶剂， 生成 N'-hydroxy-1-oxo-1,3-dihydroisobenzofuran-5-carboximidamide
  参考文献：
  名称：

  新型吲唑衍生物通过多靶向机制作为有效的凋亡抗增殖剂：合成和生物学评价

  摘要：

  吲唑是一类重要的杂环化合物，具有广泛的生物活性。我们在此展示了一系列新型吲唑衍生物6a-v的合成和生物学评价，这些衍生物在吲唑部分的 6 位被不同地取代。使用 MTT 测定法和多柔比星作为参考药物，测试了化合物6a-v对四种人类癌细胞系的抗增殖活性。化合物6f、6i、6j、6 s 和 6n是最有效的合成衍生物，与对照多柔比星相比，对 4 种细胞系的 GI 50值分别为 0.77、0.86、1.05、1.05 和 1.07 µM (GI 50  = 1.10 µM)。化合物6f、6i、6j和6 s是最有效的抗增殖剂衍生物，对 EGFR、CDK2 和 c-Met 表现出最大的抑制活性。化合物6f、6n 和 6 s通过细胞色素C过表达和激活所研究化合物产生的内在凋亡途径来诱导细胞凋亡。

  DOI：

  10.1016/j.bioorg.2022.105922

文献信息

• STABILIZATION OF HYDROXYLAMINE CONTAINING SOLUTIONS AND METHOD FOR THEIR PREPARATION
  申请人：Lee Wai Mun

  公开号：US20090112024A1

  公开（公告）日：2009-04-30

  The invention relates to the use of amidoximes for prevention of or stabilization of hydroxylamine compounds against undesired decomposition.

  本发明涉及将酰胺肟用于预防或稳定羟基胺化合物，防止其不受控分解。
• NOVEL NITRILE AND AMIDOXIME COMPOUNDS AND METHODS OF PREPARATION
  申请人：Lee Wai Mun

  公开号：US20090111965A1

  公开（公告）日：2009-04-30

  The present application relates to semiconductor processing compositions comprising at least one compound containing at least one amidoxime functional group and to methods of using these compositions in semiconductor processing. The present application also describes the preparation of amidoximes for a semiconductor processing composition by (a) mixing a cyanoethylation catalyst, a nucleophile and an alpha-unsaturated nitrile to produce a cyanoethylation product; and (b) converting a cyano group in the cyanoethylation product into an amidoxime functional group.

  本申请涉及包含至少一个含有至少一个酰胺肟功能团的化合物的半导体加工组合物，以及使用这些组合物进行半导体加工的方法。本申请还描述了通过(a)混合氰乙基化催化剂、亲核试剂和不饱和α腈以产生氰乙基化产品；(b)将氰乙基化产品中的氰基团转化为酰胺肟功能团来制备用于半导体加工组合物的酰胺肟的方法。
• New 1,2,4‐oxadiazole/pyrrolidine hybrids as topoisomerase IV and DNA gyrase inhibitors with promising antibacterial activity
  作者：Firas O. A. Frejat、Yaquan Cao、Lihong Wang、Hongjin Zhai、Ahmed H. Abdelazeem、Hesham A. M. Gomaa、Bahaa G. M. Youssif、Chunli Wu

  DOI：10.1002/ardp.202100516

  日期：2022.7

  effective molecules against the enzymes DNA gyrase and topoisomerase IV (Topo IV). Compounds 8–20 were developed based on a previously disclosed series of compounds from our lab, but with small structural modifications in the hopes of increasing the compounds' biological activity. In comparison to novobiocin, with IC50 = 170 nM, the findings of the DNA gyrase inhibitory assay revealed that compounds 16

  合成了一系列具有 1,2,4-恶二唑部分的杂化吡咯烷化合物，以开发针对 DNA 促旋酶和拓扑异构酶 IV (Topo IV) 的有效分子。化合物8-20是基于我们实验室先前公开的一系列化合物开发的，但为了提高化合物的生物活性而进行了小的结构修改。与新生霉素相比，IC 50  = 170 nM，DNA 促旋酶抑制试验的结果显示化合物16和17是所有合成衍生物中最有效的，IC 50值分别为 180 和 210 nM。化合物17对所有合成化合物的大肠杆菌Topo IV，IC 50值为13 µM，与新生霉素相当（IC 50  = 11 µM）。因此，杂种16和17似乎是潜在的双靶点抑制剂。在最小抑制浓度 (MIC) 测定中，化合物17对大肠杆菌的表现优于环丙沙星，MIC 为 55 ng/ml，而环丙沙星为 60 ng/ml。最后，对接研究以及体外实验支持了我们有希望的方法来有效开发有效的先导物，以进一步优化作为双
• CHEMICAL MECHANICAL POLISHING AND WAFER CLEANING COMPOSITION COMPRISING AMIDOXIME COMPOUNDS AND ASSOCIATED METHOD FOR USE
  申请人：Lee Wai Mun

  公开号：US20090130849A1

  公开（公告）日：2009-05-21

  A composition and associated method for chemical mechanical planarization (or other polishing) is described. The composition contains an amidoxime compound and water. The composition may also contain an abrasive and a compound with oxidation and reduction potential. The composition is useful for attaining improved removal rates for metal, including copper, barrier material, and dielectric layer materials in metal CMP. The composition is particularly useful in conjunction with the associated method for metal CMP applications.

  本文描述了一种化学机械平整化（或其他抛光）的组合物及其相关方法。该组合物含有一种酰胺肟化合物和水。该组合物还可以含有磨料和具有氧化还原潜力的化合物。该组合物可用于在金属CMP中获得改进的金属去除速率，包括铜、屏障材料和金属CMP中的介电层材料。该组合物在金属CMP应用的相关方法中特别有用。
• METHODS OF CLEANING SEMICONDUCTOR DEVICES AT THE BACK END OF LINE USING AMIDOXIME COMOSITIONS
  申请人：Lee Wai Mun

  公开号：US20100043823A1

  公开（公告）日：2010-02-25

  The present invention relates to aqueous compositions comprising amidoxime compounds and methods for cleaning plasma etch residue from semiconductor substrates including such dilute aqueous solutions. The compositions of the invention may optionally contain one or more other acid compounds, one or more basic compounds, and a fluoride-containing compound and additional components such as organic solvents, chelating agents, amines, and surfactants. The invention also relates to a method of removing residue from a substrate during integrated circuit fabrication.

  本发明涉及含有酰胺肟化合物的水性组合物及其清洗半导体衬底上等离子体刻蚀残留物的方法，包括这种稀释的水性溶液。本发明的组合物可以选择性地含有一种或多种其他酸性化合物、一种或多种碱性化合物、含氟化合物和其他成分，如有机溶剂、螯合剂、胺和表面活性剂。本发明还涉及一种在集成电路制造过程中从衬底上去除残留物的方法。