2-氧代-D-古洛糖酸甲酯 | 67776-07-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 中文名称: 2-氧代-D-古洛糖酸甲酯
• 中文别名: 维他命C杂质
• 英文名称: D-xylo-[2]hexulosonic acid methyl ester
• 英文别名: D-xylo-[2]Hexulosonsaeure-methylester；xylo-2-Hexulosonic acid, methyl ester；methyl (3R,4S,5R)-3,4,5,6-tetrahydroxy-2-oxohexanoate
• CAS: 67776-07-2
• 化学式: C₇H₁₂O₇
• 分子量: 208.168
• InChiKey: KPHIBLNUVRGOGU-MROZADKFSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -2.5
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.71
• 拓扑面积：
  124
• 氢给体数：
  4
• 氢受体数：
  7

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-氧代-D-古洛糖酸甲酯 在 甲醇 、 sodium methylate 作用下， 生成 D-抗坏血酸
  参考文献：
  名称：

  d- Ascorbinsäureaus d-山梨糖

  摘要：

  DOI：

  10.1002/hlca.19380210166
• 作为产物：
  描述：

  重氮甲烷 、 D-xylo-2-hexulosonic acid 在 甲醇 、 乙醚 作用下， 生成 2-氧代-D-古洛糖酸甲酯
  参考文献：
  名称：

  d- Ascorbinsäureaus d-山梨糖

  摘要：

  DOI：

  10.1002/hlca.19380210166

文献信息

• High Oxide VS Nitride Selectivity, Low And Uniform Oxide Trench Dishing In Shallow Trench Isolation(STI) Chemical Mechanical Planarization Polishing(CMP)
  申请人：Versum Materials US, LLC

  公开号：US20200095502A1

  公开（公告）日：2020-03-26

  Present invention provides Chemical Mechanical Planarization Polishing (CMP) compositions for Shallow Trench Isolation (STI) applications. The CMP compositions contain ceria coated inorganic oxide particles as abrasives, such as ceria-coated silica particles or any other ceria-coated inorganic oxide particles as core particles; suitable chemical additives comprising at least one organic carboxylic acid group, at least one carboxylate salt group or at least one carboxylic ester group and two or more hydroxyl functional groups in the same molecule; and a water soluble solvent; and optionally biocide and pH adjuster; wherein the composition has a pH of 2 to 12, preferably 3 to 10, and more preferably 4 to 9.
• <i>d</i>-Ascorbinsäure aus<i>d</i>-Sorbose
  作者：K. Gätzl、T. Reichstein

  DOI：10.1002/hlca.19380210166

  日期：——