6-amino-6-deoxy-D-glycero-D-galacto-heptonic acid | 77026-82-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: 6-amino-6-deoxy-D-glycero-D-galacto-heptonic acid
• CAS: 77026-82-5
• 化学式: C₇H₁₅NO₇
• 分子量: 225.199
• InChiKey: VPLLYEXGSJYTJP-RWOPYEJCSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -4.17
• 重原子数：
  15.0
• 可旋转键数：
  6.0
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.86
• 拓扑面积：
  164.47
• 氢给体数：
  7.0
• 氢受体数：
  7.0

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  [(R)-2-Hydroxy-1-((2R,3R,4S,5R)-3,4,5-trihydroxy-6-oxo-tetrahydro-pyran-2-yl)-ethyl]-carbamic acid benzyl ester 在 palladium on activated charcoal ammonium hydroxide 、 氢气 作用下， 生成 6-amino-6-deoxy-D-glycero-D-galacto-heptonic acid
  参考文献：
  名称：

  脱位和表位去氢酸及其C-6差向异构体的合成

  摘要：

  四个6-氨基-6-脱氧庚酸的立体异构体，分别具有l-甘油-d-半乳糖（1），d-甘油-d-半乳糖（2），l-甘油-d-葡萄糖（3）和d-分别由d-半乳糖（8）和d-葡萄糖-二醛糖（23）衍生物合成甘油-d-葡萄糖（4）构型。8和23的氰基甲磺酰化分别产生了两个C-6差向异构体，它们分别通过相应的6,7-表观氨基衍生物，通过用氢化锂铝N- （苄氧羰基）化，并用乙酸乙酰化。每个半缩醛脱保护后，将立体异构体用溴氧化，然后完全脱保护，得到1-4。在这些产品中，有1和3被证明与从抗生素去霉素获得的天然存在的脱氢酸和表皮脱氢酸相同。

  DOI：

  10.1016/s0008-6215(00)82223-5