噁丙环甲醇,3-甲基-,苯酸酯 | 136423-82-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 中文名称: 噁丙环甲醇,3-甲基-,苯酸酯
• 英文名称: 2,3-epoxybutyl benzoate
• 英文别名: (3-methyloxiran-2-yl)methyl benzoate
• CAS: 136423-82-0
• 化学式: C₁₁H₁₂O₃
• 分子量: 192.214
• InChiKey: AUCLGNAHHGNWKG-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  279.5±13.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.146±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.9
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.36
• 拓扑面积：
  38.8
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  噁丙环甲醇,3-甲基-,苯酸酯 在 bis(3-methylpenta-2,4-dionato)nickel(II) 反-2-辛烯醛 、 4 A molecular sieve 、 氧气 作用下， 以 1,2-二氯乙烷 为溶剂， 100.0 ℃ 、810.6 kPa 条件下， 反应 8.0h， 生成 Benzoic acid 2-hydroxy-1-hydroxymethyl-propyl ester 、 Benzoic acid 2,3-dihydroxy-butyl ester
  参考文献：
  名称：

  Ni(II)配合物催化分子氧缩水甘油酯制备甘油单酯的新方法

  摘要：

  在催化量的双（3-甲基-2,4-戊二酮基）镍（II）（Ni（mac）2）存在下，各种缩水甘油酯被转化为相应的甘油单酯衍生物，分子氧从良好到高产量。

  DOI：

  10.1246/cl.1992.231
• 作为产物：
  描述：

  trans-2-butenyl benzoate 在 Ni(dmp)2 、 氧气 、 异戊醛 作用下， 以 1,2-二氯乙烷 为溶剂， 反应 24.0h， 以62%的产率得到噁丙环甲醇,3-甲基-,苯酸酯
  参考文献：
  名称：

  镍(II)配合物催化烯烃与分子氧和醛的直接环氧化反应

  摘要：

  在双(1,3-二酮基)镍(II)配合物存在下，各种烯烃在氧气或空气和醛的常压处理下直接单氧化成相应的环氧化物。特别值得注意的是，双[1,3-双(对甲氧基苯基)-1,3-丙二酮基]镍(II)在本环氧化反应中是一种极好的催化剂。

  DOI：

  10.1246/bcsj.64.2109

文献信息

• Seminormal-BrCH₂CH₂OH-mediated electrochemical epoxidation of unactivated olefins
  作者：Hong He、Yanxia Lv、Jing Hu、Zhong-Wei Hou、Lei Wang

  DOI：10.1039/d3gc04061e

  日期：——

  An electrochemical epoxidation of unactivated olefins using water as the source of oxygen atoms has been developed. The epoxidation reaction employs seminormal-BrCH2CH2OH as the mediator, which shows good functional group compatibility, and can easily be performed on the gram scale. A wide range of unactivated olefins could be tolerated to give the functionalized epoxides with satisfactory results

  已经开发出一种使用水作为氧原子源的未活化烯烃的电化学环氧化方法。该环氧化反应采用半正构BrCH 2 CH 2 OH作为介体，具有良好的官能团相容性，并且易于在克级规模上进行。可以耐受多种未活化的烯烃，以在室温下得到具有令人满意结果的官能化环氧化物。
• PHOTORESIST COMPOSITION
  申请人：ICHIKAWA Koji

  公开号：US20120251945A1

  公开（公告）日：2012-10-04

  The present invention provides a photoresist composition containing: a resin which contains a structural unit derived from a compound having an acid-labile group and which is insoluble or poorly soluble in an alkali aqueous solution but becomes soluble in an alkali aqueous solution by the action of an acid; an acid generator and a compound represented by the formula (I): wherein R 1 , X 1 , R 2 , u1, s1, t1 are each defined in the specification, with the proviso that sum of s1 and t1 is 1 or 2.
• US8753795B2
  申请人：——

  公开号：US8753795B2

  公开（公告）日：2014-06-17