N-(trifluoromethanesulfonyloxy)succinimide | 34684-40-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 有机磺酸及其衍生物
• 英文名称: N-(trifluoromethanesulfonyloxy)succinimide
• 英文别名: N-(trifluoromethylsulfonyloxy)succinimide；N-hydroxysuccinimide trifluoromethanesulfonate；N-Hydroxysuccinimid-triflat；2,5-Pyrrolidinedione, 1-[[(trifluoromethyl)sulfonyl]oxy]-；(2,5-dioxopyrrolidin-1-yl) trifluoromethanesulfonate
• CAS: 34684-40-7
• 化学式: C₅H₄F₃NO₅S
• 分子量: 247.152
• InChiKey: OKRLWHAZMUFONP-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  252.6±50.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.81±0.1 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0
• 重原子数：
  15
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.6
• 拓扑面积：
  89.1
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  8

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  N-(trifluoromethanesulfonyloxy)succinimide 、 sodium thiophenolate 以 乙二醇二甲醚 为溶剂， 生成 3-Phenylsulfanylcarbonylamino-thiopropionic acid S-phenyl ester
  参考文献：
  名称：

  Nucleophilic reactions N-hydroxyimide-O-triflates

  摘要：

  DOI：

  10.1021/jo00962a018
• 作为产物：
  描述：

  三氟甲磺酸酐 、 N-Hydroxysuccinimid-thallium(I)-Salz 以80%的产率得到N-(trifluoromethanesulfonyloxy)succinimide
  参考文献：
  名称：

  Chapman, T. M.; Freedman, E. A., Synthesis

  摘要：

  DOI：
• 作为试剂：
  描述：

  N-羟基丁二酰亚胺 、 乙二醇二甲醚 、 三氟甲烷磺酰氯 、 三乙胺 在 N-(trifluoromethanesulfonyloxy)succinimide 、 氮 、 ice 、 水 、 white solid 、 dichloromethane hexane 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 以gave 3.22 g (71.6%) of N-trifluoromethanesulfonyloxysuccinimide的产率得到N-(trifluoromethanesulfonyloxy)succinimide
  参考文献：
  名称：

  Photopolymerizable compositions containing N-hydroxyamide and

  摘要：

  一种光聚合物组合物和光成像元件。该光聚合物组合物是一种阳离子聚合的有机组合物和一种光引发剂，该光引发剂是一种N-羟基酰胺或N-羟基亚酰胺磺酸盐。

  公开号：

  US04371605A1

文献信息

• Polymers and photoresists comprising same
  申请人：——

  公开号：US20040248032A1

  公开（公告）日：2004-12-09

  New polymers are provided that have non-carbon tetravalent species (Si, Ti, Ge, Zr, Sn) and photoimageable compositions that contain such polymers. Preferred polymers are organic, e.g. one or more polymer repeat units comprise carbon atom(s). Particularly preferred are polymers that comprise SiO 2 or TiO 2 repeat units and which can be highly useful as a resin component of resists imaged at short wavelengths such as sub-300 nm and sub-200 nm.

  提供了新的聚合物，其中包含非碳四价物种（Si，Ti，Ge，Zr，Sn），以及包含这些聚合物的可成像光敏组合物。首选聚合物是有机的，例如一个或多个聚合物重复单元包含碳原子。特别优选的是包含SiO2或TiO2重复单元的聚合物，可作为在短波长下成像的光阻树脂组分，例如亚300 nm和亚200 nm。
• Anti-Reflective Coating Forming Composition Containing Reaction Product of Isocyanuric Acid Compound with Benzoic Acid Compound
  申请人：Kishioka Takahiro

  公开号：US20090117493A1

  公开（公告）日：2009-05-07

  There is provided anti-reflective coating forming composition containing a reaction product of an isocyanuric acid compound having two or three 2,3-epoxypropyl groups with a benzoic acid compound. The anti-reflective coating obtained from the composition has a high preventive effect for reflected light, causes no intermixing with photoresists, can form a photoresist pattern having no footing at the lower part, and can use in lithography process by use of a light such as ArF excimer laser beam and F2 excimer laser beam, etc.

  提供了一种含有异氰酸酯化合物和苯甲酸化合物反应产物的防反射涂层形成组合物。从该组合物获得的防反射涂层具有高度的反射光预防效果，不会与光阻混合，可以形成下部没有脚的光阻图案，并且可以使用光刻工艺，如ArF准分子激光束和F2准分子激光束等。
• Gmelin Handbuch der Anorganischen Chemie, Gmelin Handbook: F: PerFHalOrg.2, 1.3.1, page 76 - 99
  作者：

  DOI：——

  日期：——