本文报道了包括(E)-1-(2,5-二
甲氧基苯基)-3-(4羟基苯基)prop-2-en-1-one在内的外围四取代
酞菁的合成,电
化学和光谱电
化学性质。首先合成用于形成
酞菁的前体
酞腈化合物(3),然后合成相关的
酞菁化合物Co II(PC -4),Cu II(PC -5),Zn II(PC -6),Mn III Cl(PC- 7)和无
金属(PC -8)合成。所有化合物的光谱特性都通过使用流行的光谱技术来实现。用循环伏安法(CV)和方波伏安法(SWV)研究了
金属
酞菁(MPCs)的电
化学,以确定络合物的氧化还原机理。还进行了原位光谱电
化学表征,以支持氧化还原机制并确定电产生的MPC物质的光电响应。