N,N-pentamethylene methyl-2 (methoxy-4 phenyl)-3 propene-2 amide | 125506-87-8

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯丙烷和聚酮 - 肉桂酸及其衍生物
• 英文名称: N,N-pentamethylene methyl-2 (methoxy-4 phenyl)-3 propene-2 amide
• 英文别名: (E)-3-(4-methoxyphenyl)-2-methyl-1-piperidin-1-ylprop-2-en-1-one
• CAS: 125506-87-8
• 化学式: C₁₆H₂₁NO₂
• 分子量: 259.348
• InChiKey: CRHJFOVZOSTEPL-OUKQBFOZSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3
• 重原子数：
  19
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.44
• 拓扑面积：
  29.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  1-哌啶羧酸乙酯 、 乙基磷酸二乙酯 、 4-甲氧基苯甲醛 生成 N,N-pentamethylene methyl-2 (methoxy-4 phenyl)-3 propene-2 amide
  参考文献：
  名称：

  转移混合物中的膦酸酯类α-卵石剂。制备脱膦酸酯α-酰胺和d'酰胺α，β-性质，α-取代基

  摘要：

  仲或叔α-氨基膦酸酯的锂化阴离子（）或（）可通过α-膦酰基碳负离子与异氰酸酯或氨基甲酸酯之间的反应制备（第一种策略），或通过酰胺烯酸酯与二乙基氯磷酸酯的缩合制备（第二种策略）。（）或（）的酸水解产生α-氨基膦酸酯（）在α位上烷基化或未烷基化。（）和（）与芳族或脂族醛反应生成α，β-不饱和仲或叔酰胺（）。

  DOI：

  10.1016/s0040-4020(01)89078-5

文献信息

• NEGATIVE-TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD, CURED FILM, INSULATING FILM, COLOR FILTER, AND DISPLAY DEVICE
  申请人：Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.

  公开号：EP2725423A1

  公开（公告）日：2014-04-30

  Provided are: a negative-type photosensitive resin composition capable of forming a pattern having favorable adhesiveness at a low light exposure; a pattern forming method using the negative-type photosensitive resin composition; a cured film, an insulating film, and a color filter formed using the negative-type photosensitive resin composition; and a display device provided with the cured film, insulating film, or color filter. The negative-type photosensitive resin composition according to the present invention contains a compound represented by the following formula (1). In the formula, R1 and R2 each independently indicate a hydrogen atom or an organic group, but at least one indicates an organic group. R1 and R2 may be bonded to form a ring structure and may contain a hetero atom bond. R3 indicates a single bond or an organic group. R4 to R9 each independently indicate a hydrogen atom, an organic group, etc., but R6 and R7 are never hydroxyl groups. R10 indicates a hydrogen atom or an organic group.

  本发明提供了：一种负型感光树脂组合物，该组合物能够在低光曝光下形成具有良好粘合性的图案；一种使用该负型感光树脂组合物的图案形成方法；一种使用该负型感光树脂组合物形成的固化薄膜、绝缘薄膜和彩色滤光片；以及一种装有该固化薄膜、绝缘薄膜或彩色滤光片的显示装置。根据本发明的负型感光树脂组合物含有下式（1）表示的化合物。式中，R1 和 R2 各自独立地表示氢原子或有机基团，但至少有一个表示有机基团。R1 和 R2 可以键合形成环状结构，也可以含有杂原子键。R3 表示单键或有机基团。R4 至 R9 各自独立地表示氢原子、有机基团等，但 R6 和 R7 绝不是羟基。R10 表示氢原子或有机基团。
• NOVEL COMPOUND
  申请人：Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.

  公开号：EP2725011A1

  公开（公告）日：2014-04-30

  Provided is a novel compound suitable for obtaining a negative-type photosensitive resin composition capable of forming a pattern having favorable adhesiveness at a low light exposure. The compound according to the present invention is represented by the following formula (1). In the formula, R1 and R2 each independently indicate a hydrogen atom or an organic group, but at least one indicates an organic group. R1 and R2 may be bonded to form a ring structure and may contain a hetero atom bond. R3 indicates a single bond or an organic group. R4 to R9 each independently indicate a hydrogen atom, an organic group, etc., but R6 and R7 are never hydroxyl groups. R10 indicates a hydrogen atom or an organic group.

  本发明提供了一种新型化合物，该化合物适用于获得底片型感光树脂组合物，该组合物能够在低光照条件下形成具有良好粘合性的图案。根据本发明的化合物由下式（1）表示。式中，R1 和 R2 各自独立地表示氢原子或有机基团，但至少有一个表示有机基团。R1 和 R2 可以键合形成环状结构，也可以含有杂原子键。R3 表示单键或有机基团。R4 至 R9 各自独立地表示氢原子、有机基团等，但 R6 和 R7 绝不是羟基。R10 表示氢原子或有机基团。
• NOVEL BASE GENERATOR AND ADHESION ENHANCER
  申请人：Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.

  公开号：EP2725011B1

  公开（公告）日：2021-10-27
• TAY, M. K.;ABOUT-JAUDET, E.;COLLIGNON, N.;SAVIGNAC, P., TETRAHEDRON, 45,(1989) N4, C. 4415-4430
  作者：TAY, M. K.、ABOUT-JAUDET, E.、COLLIGNON, N.、SAVIGNAC, P.

  DOI：——

  日期：——
• US9244346B2
  申请人：——

  公开号：US9244346B2

  公开（公告）日：2016-01-26