hexahydro-cyclopenta[b]furan-2-one | 5745-61-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 内酯类
• 英文名称: hexahydro-cyclopenta[b]furan-2-one
• 英文别名: 2-Hydroxycyclopentaneacetic acid lactone；hexahydro-2H-cyclopenta[b]furan-2-one；2-oxabicyclo[3.3.0]octan-3-one；hexahydro-cyclopenta[b]furan-2-one；Hexahydro-cyclopenta[b]furan-2-on；l-oxabicyclo[3,3,0]octan-3-one；3,3a,4,5,6,6a-hexahydrocyclopenta[b]furan-2-one
• CAS: 5745-61-9
• 化学式: C₇H₁₀O₂
• 分子量: 126.155
• InChiKey: DICZUTMNXOMHQD-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1
• 重原子数：
  9
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.86
• 拓扑面积：
  26.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

安全信息

• 海关编码：
  2932209090

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  hexahydro-cyclopenta[b]furan-2-one 在 高氯酸 、 水 作用下， 生成 cis-2-hydroxycyclopentaneacetic acid
  参考文献：
  名称：

  Lajunen, Martti; Lahti, Marjo; Heimo, Satu, Acta Chemica Scandinavica, 1989, vol. 43, # 8, p. 771 - 776

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  2-环戊烯基-1-乙酸 在 proton-exchanged montmorillonite 作用下， 以 正庚烷 为溶剂， 反应 13.0h， 以91%的产率得到hexahydro-cyclopenta[b]furan-2-one
  参考文献：
  名称：

  布朗斯台德酸介导的1,3-二羰基化合物与烯烃和醇的异质加成反应。

  摘要：

  DOI：

  10.1002/anie.200504609

文献信息

• Ruthenium pincer-catalyzed synthesis of substituted γ-butyrolactones using hydrogen autotransfer methodology
  作者：Miguel Peña-López、Helfried Neumann、Matthias Beller

  DOI：10.1039/c5cc01708d

  日期：——

  The ruthenium pincer-catalyzed synthesis of γ-butyrolactones from 1,2-diols and malonates using borrowing-hydrogen methodology is reported.

  本文报道了使用借氢方法，通过钌夹钳催化从1,2-二醇和丙二酸酯合成γ-丁内酯的过程。

• Cobalt carbonyl catalyzed reactions of esters and lactones with hydrosilane and carbon monoxide. A novel synthetic method for the introduction of the siloxymethylidene group
  作者：Naoto. Chatani、Satoru. Fujii、Yasuhiro. Yamasaki、Shinji. Murai、Noboru. Sonoda

  DOI：10.1021/ja00283a035

  日期：1986.11

  monoxide took place except for bridgehead alkyl acetates. The mechanism of the catalytic reaction has been proposed, and the importance of the silycobalt carbonyl, R/sub 3/SiCO(CO)/sub 4/, as the key catalyst species has been suggested. The high affinity of the silicon in R/sub 3/SiCo(CO)/sub 4/ toward the oxygen atom in the ester is suggested to be the driving force for the formation of alkylcobalt carbonyls

  酯和内酯与氢硅烷和一氧化碳在 Co/sub 2/(CO)/sub 8/ 存在下的催化反应已被详细研究，重点是它们在有机合成中的效用。乙酸仲烷基酯的催化反应经过一氧化碳的完全结合，得到（甲硅烷氧基亚甲基）烷烃（烯醇甲硅烷基醚）。仲烷基酯类型的内酯类似地反应。甲硅烷氧基甲基化产物转化为醛。乙酸伯烷基酯以非选择性方式产生多种产物。在叔烷基酯的情况下，除了桥头烷基乙酸酯外，没有发生一氧化碳的掺入。已经提出了催化反应的机理，以及羰基硅钴的重要性，R/sub 3/SiCO(CO)/sub 4/，作为已提出的关键催化剂种类。R/sub 3/SiCo(CO)/sub 4/ 中的硅对酯中氧原子的高亲和力被认为是形成作为中间体的烷基羰基钴的驱动力。这一步说明了一种形成碳-过渡金属键的新方法。
• 6-Cyclylmethyl- and 6-alkylmethyl-substituted pyrazolepyrimidines
  申请人：Hendrix Martin

  公开号：US20070105876A1

  公开（公告）日：2007-05-10

  The invention relates to novel 6-cyclylmethyl- and 6-alkylmethyl-substituted pyrazolopyrimidines, process for their preparation and their use for producing medicaments for improving perception, concentration, learning and/or memory.

  这项发明涉及新颖的6-环己甲基和6-烷基甲基取代的吡唑吡咯嘧啶化合物，其制备方法以及它们用于生产用于改善感知、集中力、学习和/或记忆的药物。
• PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD USING THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND COMPOUND FOR USE IN THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION
  申请人：Wada Kenji

  公开号：US20100233617A1

  公开（公告）日：2010-09-16

  A photosensitive composition includes: (A) a resin containing a repeating unit corresponding to a compound represented by the following formula (I); the resin being capable of producing an acid group upon irradiation with an actinic ray or radiation: Z-A-X—B—R   (I) wherein Z represents a group capable of becoming an acid group resulting from leaving of a cation upon irradiation with an actinic ray or radiation; A represents an alkylene group; X represents a single bond or a heteroatom-containing divalent linking group; B represents a single bond, an oxygen atom or —N(Rx)-; Rx represents a hydrogen atom or a monovalent organic group; R represents a monovalent organic group substituted by Y; when B represents —N(Rx)-, R and Rx may combine with each other to form a ring; and Y represents a polymerizable group.

  一种感光组合物包括：（A）含有与下式（I）所表示的化合物对应的重复单元的树脂；该树脂能够在受到光敏射线或辐射照射后产生酸基团：Z-A-X—B—R   （I）其中Z代表一个能够在受到光敏射线或辐射照射后由阳离子离去而形成酸基团的基团；A代表一个烷基基团；X代表一个单键或含杂原子的二价连接基团；B代表一个单键、一个氧原子或—N（Rx）-；Rx代表一个氢原子或一个一价有机基团；R代表一个通过Y取代的一价有机基团；当B代表—N（Rx）-时，R和Rx可以结合在一起形成一个环；Y代表一个可聚合的基团。
• SALT AND PHOTORESIST COMPOSITION CONTAINING THE SAME
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US20170247323A1

  公开（公告）日：2017-08-31

  A salt having a group represented by the formula (aa): wherein X a and X b independently each represent an oxygen atom or a sulfur atom, the ring W represents a C3-C36 heterocyclic ring which has an ester bond or a thioester bond, said heterocyclic ring optionally further having an oxygen atom, a sulfur atom, a carbonyl group or a sulfonyl group each by which a methylene group has been replaced, and said heterocycilic ring optionally having a hydroxyl group, a cyano group, a carboxyl group, a C1-C12 alkyl group, a C1-C12 alkoxy group, a C2-C13 alkoxycarbonyl group, a C2-C13 acyl group, a C2-C13 acyloxy group, a C3-C12 alicyclic hydrocarbon group, a C6-C10 aromatic hydrocarbon group or any combination of these groups each by which a hydrogen atom has been replaced, and * represents a binding position.

  一种盐，其具有由公式（aa）表示的基团：其中Xa和Xb独立地代表一个氧原子或一个硫原子，环W代表一个具有酯键或硫酯键的C3-C36杂环环，该杂环环还可以进一步具有一个氧原子、一个硫原子、一个羰基或一个磺酰基，其中每个都已被一个亚甲基取代，该杂环环还可以具有一个羟基、一个氰基、一个羧基、一个C1-C12烷基、一个C1-C12烷氧基、一个C2-C13烷氧羰基、一个C2-C13酰基、一个C2-C13酰氧基、一个C3-C12脂环烃基、一个C6-C10芳香烃基或任何组合，其中每个都已被氢原子取代，*表示一个结合位置。