bis(1-5-η-cyclo-heptadienyl)ruthenium | 54873-26-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 碳氢化合物 - 不饱和烃
• 英文名称: bis(1-5-η-cyclo-heptadienyl)ruthenium
• 英文别名: bis(η(5)-cycloheptadienyl)ruthenium；bis(cycloheptadienyl)ruthenium(II)；Cyclohepta-1,4-diene;ruthenium(2+)
• CAS: 54873-26-6
• 化学式: C₁₄H₁₈Ru
• 分子量: 287.367
• InChiKey: QEVGKQPJRRZCPG-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.19
• 重原子数：
  15
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.29
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  四氟硼酸-二乙醚络合物 、 bis(1-5-η-cyclo-heptadienyl)ruthenium 以 乙醚 为溶剂， 以99%的产率得到bis(η(5)-cycloheptadienyl)hydridoruthenium tetrafluoroborate
  参考文献：
  名称：

  钌的高效合成（II）η 5 -Dienyl化合物从二μ-chlorodichloro-双启动[（1-3η：6-8η）-2,7- dimethyloctadienediyl]二钌（IV）。对映选择性加氢催化剂的多功能前体

  摘要：

  二聚复合物的二μ-chlorodichloro双[（1-3η：6-8η）-2,7- dimethyloctadienediyl]二钌（IV）与环状和无环二烯碱反应成相应的二的存在（η 5 -二烯基）钌（II）化合物。对于二烯基＝环戊二烯基，五甲基戊二烯基，环庚二烯基，茚基，二甲基戊二烯基和三甲基戊二烯基，已经以高收率分离出结晶黄色化合物。环己-1,3-二烯的类似反应，得到钌（0）化合物（η 6 -苯）（η 4-环六-1,3-二烯）钌。可以通过质子化和随后的配体交换将“开放的”双（二烯基）钌配合物转化为半三明治配合物。这些化合物可用作有效的对映选择性氢化催化剂的前体。

  DOI：

  10.1021/om0007015
• 作为产物：
  描述：

  dichloro-bis-μ-chloro-bis[(1-3η:6-8η)-2,7-dimethyloctadienediyl]diruthenium(II) 、 1,3-环庚二烯 在 Li₂CO₃ 作用下， 以 乙醇 、 乙腈 为溶剂， 以80%的产率得到bis(1-5-η-cyclo-heptadienyl)ruthenium
  参考文献：
  名称：

  钌的高效合成（II）η 5 -Dienyl化合物从二μ-chlorodichloro-双启动[（1-3η：6-8η）-2,7- dimethyloctadienediyl]二钌（IV）。对映选择性加氢催化剂的多功能前体

  摘要：

  二聚复合物的二μ-chlorodichloro双[（1-3η：6-8η）-2,7- dimethyloctadienediyl]二钌（IV）与环状和无环二烯碱反应成相应的二的存在（η 5 -二烯基）钌（II）化合物。对于二烯基＝环戊二烯基，五甲基戊二烯基，环庚二烯基，茚基，二甲基戊二烯基和三甲基戊二烯基，已经以高收率分离出结晶黄色化合物。环己-1,3-二烯的类似反应，得到钌（0）化合物（η 6 -苯）（η 4-环六-1,3-二烯）钌。可以通过质子化和随后的配体交换将“开放的”双（二烯基）钌配合物转化为半三明治配合物。这些化合物可用作有效的对映选择性氢化催化剂的前体。

  DOI：

  10.1021/om0007015

文献信息

• [EN] PROCESS FOR PREPARING DIENYL-RUTHENIUM COMPLEXES<br/>[FR] PROCÉDÉ POUR LA FABRICATION DE COMPLEXES DE DIÉNYL-RUTHÉNIUM
  申请人：UMICOR AG & CO KG

  公开号：WO2009146870A1

  公开（公告）日：2009-12-10

  The present invention relates to a single-stage process for preparing dienyl- ruthenium complexes of the formula Ru(+II)(dienyl)2, wherein an Ru(II) starting compound of the formula Ru(X)p(Y)q is reacted with a diene ligand in the presence of an inorganic and/or organic base in a single-stage process. Here, polar organic solvents, preferably mixtures of polar organic solvents with water, are used. The dienyl-ruthenium complexes prepared according to the invention are used as precursors for homogeneous catalysts, for producing functional coatings and for therapeutic applications.

  本发明涉及一种单阶段过程，用于制备公式为Ru(+II)(二烯基)2的二烯基钌络合物，其中，一种公式为Ru(X)p(Y)q的Ru(II)起始化合物与二烯配体在无机和/或有机碱的存在下通过单阶段过程进行反应。在此，使用极性有机溶剂，优选是与水混合的极性有机溶剂。根据本发明制备的二烯基钌络合物用作均相催化剂的前体，用于生产功能性涂料和用于治疗应用。
• A new synthetic method for the preparation of cyclo-olefin ruthenium complexes
  作者：Paolo Pertici、Giovanni Vitulli、Maurizio Paci、Lido Porri

  DOI：10.1039/dt9800001961

  日期：——

  analogous reaction with cyclo-octa-1,3-diene, cyclohepta-1,3-diene, and cyclopentadiene leads to the isolation of the corresponding dienyl complexes bis(1–5-η-cyclo-octadienyl)ruthenium, (3), bis(1–5-η-cycloheptadienyl)ruthenium, (4), and ruthenocene, (5). Complex (3) is best prepared by heating (2) in hydrocarbon solvents at ca. 100 °C.

  在金属锌的存在下，水合三氯化钌与环己-1,3-二烯和环辛-1,5-二烯反应，得到钌（0）化合物1–6-η-苯（1–4- η-环己基1,3-二烯）钌，（1）和（1-2：5-6-η-环辛基-1,5-二烯）（1-6-η-环辛基-1 （3，5-三烯）钌，（2）。与环辛-1,3-二烯，环庚-1,3-二烯和环戊二烯的类似反应导致相应的二烯基配合物双（1-5-η-环-辛二烯基）钌的分离，（3） ，双（1–5-η-环庚二烯基）钌（4）和钌茂茂（5）。配合物（3）的最佳制备方法是，在烃溶剂中于大约2℃下加热（2）。100℃。
• Atomic layer deposition of a ruthenium thin film using a precursor with enhanced reactivity
  作者：Jeong Min Hwang、Seung-Min Han、Hanuel Yang、Seungmin Yeo、Seung-Hun Lee、Chan Woo Park、Gun Hwan Kim、Bo Keun Park、Younghun Byun、Taeyong Eom、Taek-Mo Chung

  DOI：10.1039/d0tc05682k

  日期：——

  Ruthenium (Ru) thin films were grown via atomic layer deposition (ALD) using a novel Ru precursor with enhanced reactivity, namely Ru(η5-cycloheptadienyl)2 (Ru(chd)2) and O2. Self-limiting growth during the Ru ALD process was achieved by varying the Ru precursor and O2 feeding times. Metallic Ru films with a low resistivity (10–16 μΩ cm) grew at deposition temperatures between 200 and 300 °C, where

  钌（Ru）薄膜生长通过使用一种新的前体的Ru具有增强的反应性，即茹（η原子层沉积（ALD）5 -cycloheptadienyl）2（茹（CHD）2）和O 2。通过改变Ru前驱体和O 2的进料时间，可以实现Ru ALD过程中的自限生长。低电阻率（10–16μΩcm）的金属Ru膜在200至300°C的沉积温度下生长，在265°C时Ru ALD期间的每周期生长（GPC）为0.2至0.4 cy -1。使用新型前体，Ru的孵育时间大大缩短（在Pt和TiN上可忽略不计，在SiO 2上约22个循环））与使用高价Ru前驱体和O 2的Ru ALD相关的那些。Ru膜的特性受基材的影响。具体地，Pt衬底产生非晶膜，而在TiN和SiO 2衬底上生长结晶膜，其中在SiO 2衬底上导致高RuO x含量。