Bicyclopentan-1,2'-diol | 60374-04-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: Bicyclopentan-1,2'-diol
• 英文别名: 1-(2-Hydroxycyclopentyl)cyclopentan-1-ol；1-(2-hydroxycyclopentyl)cyclopentan-1-ol
• CAS: 60374-04-1
• 化学式: C₁₀H₁₈O₂
• 分子量: 170.252
• InChiKey: JUCMMTBUBKXKPL-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.1
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  40.5
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  Bicyclopentan-1,2'-diol 在 硼酸 作用下， 以 苯 为溶剂， 生成 Bicyclopentan-1,2'-diyl-hydrogenborat
  参考文献：
  名称：

  Plenat,F. et al., Bulletin de la Societe Chimique de France, 1975, # 9-10, p. 2227 - 2230

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  2-甲氧羰基环戊酮 在 sodium tetrahydroborate 、 magnesium 作用下， 以 四氢呋喃 、 水 为溶剂， 反应 5.0h， 生成 Bicyclopentan-1,2'-diol
  参考文献：
  名称：

  단량체, 고분자 화합물, 레지스트 재료 및 패턴 형성 방법

  摘要：

  “解决方案”以化学式(1)表示的单体。 （其中R代表氢原子，甲基或三氟甲基。 R，R表示1个碳氢基，R∼R表示氢原子或1个碳氢基。 R表示1个碳氢基或氟化碳氢基，A表示2个碳氢基，k是0或1的整数，n是0∼2的整数）[效果] 包含从本发明的单体中获得的包含重复单元的高分子化合物的光阻膜，在有机溶剂现象中的正负图像形成中，具有高的溶解性。”

  公开号：

  KR101723710B1

文献信息

• MONOMER, POLYMER, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US20140242519A1

  公开（公告）日：2014-08-28

  A polymer for resist use is obtainable from a monomer having formula (1) wherein R 1 is H, CH 3 or CF 3 , R 2 and R 3 are a monovalent hydrocarbon group, R 4 to R 9 are hydrogen or a monovalent hydrocarbon group, R 10 is a monovalent hydrocarbon group or fluorinated hydrocarbon group, A 1 is a divalent hydrocarbon group, k 1 is 0 or 1, and n 1A is 0, 1 or 2. A resist composition comprising the polymer displays a high dissolution contrast during organic solvent development.
• US9046772B2
  申请人：——

  公开号：US9046772B2

  公开（公告）日：2015-06-02
• 단량체, 고분자 화합물, 레지스트 재료 및 패턴 형성 방법
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤(519980708960)

  公开号：KR101723710B1

  公开（公告）日：2017-04-05

  [해결수단] 화학식 (1)로 표시되는 단량체. (R은 수소 원자, 메틸기 또는 트리플루오로메틸기를 나타낸다. R, R은 1가의 탄화수소기, R∼R는 수소 원자 또는 1가의 탄화수소기를 나타낸다. R은 1가의 탄화수소기 또는 불소화 탄화수소기, A은 2가의 탄화수소기, k은 0 또는 1의 정수, n는 0∼2의 정수) [효과] 본 발명의 단량체로부터 얻어지는 반복 단위를 포함하는 고분자 화합물을 포함하는 포토레지스트막은, 유기 용제 현상에 있어서의 포지티브 네거티브 반전의 화상 형성에 있어서, 미노광 부분의 용해성이 높다.

  “解决方案”以化学式(1)表示的单体。 （其中R代表氢原子，甲基或三氟甲基。 R，R表示1个碳氢基，R∼R表示氢原子或1个碳氢基。 R表示1个碳氢基或氟化碳氢基，A表示2个碳氢基，k是0或1的整数，n是0∼2的整数）[效果] 包含从本发明的单体中获得的包含重复单元的高分子化合物的光阻膜，在有机溶剂现象中的正负图像形成中，具有高的溶解性。”
• Plenat,F. et al., Bulletin de la Societe Chimique de France, 1975, # 9-10, p. 2227 - 2230
  作者：Plenat,F. et al.

  DOI：——

  日期：——