2-methyl-2-adamantyl bromoacetate | 625122-37-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: 2-methyl-2-adamantyl bromoacetate
• 英文别名: (2-Methyl-2-adamantyl) 2-bromoacetate
• CAS: 625122-37-4
• 化学式: C₁₃H₁₉BrO₂
• 分子量: 287.197
• InChiKey: ZFKZEVZJQFAKIY-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  322.1±15.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.39±0.1 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.5
• 重原子数：
  16
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.92
• 拓扑面积：
  26.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-methyl-2-adamantyl bromoacetate 在 18-冠醚-6 、 sodium hydride 、 potassium carbonate 作用下， 以 四氢呋喃 、 乙腈 为溶剂， 反应 25.0h， 生成 9-(4-hydroxycarbonylmethoxyphenyl)-9-(4-(2-methyl-2-adamantyloxycarbonylmethyloxy)phenyl)fluorene
  参考文献：
  名称：

  具有单个保护基的新型光酸产生剂结合的分子玻璃抗蚀剂

  摘要：

  一种具有单个保护基的新型光酸产生剂（PAG）结合分子玻璃光刻胶已被开发为一种有前途的光刻胶材料，可用于微电子领域。从9,9-双（4-羟苯基）芴开始，分四个步骤制备了这种单组分分子抗蚀剂。单组分分子抗蚀剂具有良好的热性能，例如10％的失重温度为200°C，玻璃化转变温度为91°C。该抗蚀剂显示出60μC/ cm 2的良好灵敏度。电子束暴露（50 keV）。另一方面，使用电子束（100 keV）光刻技术，在4 wt％淬灭剂三辛胺存在下，半节距为50 nm的精细图案。LER值为8.2 nm（3σ，60 nm半间距图形）。©2013 Wiley Periodicals，Inc. J Polym Sci A部分：Polym Chem，2013年

  DOI：

  10.1002/pola.26575
• 作为产物：
  描述：

  2-甲基-2-金刚烷醇 、 溴乙酰溴 在 吡啶 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 反应 72.0h， 以62%的产率得到2-methyl-2-adamantyl bromoacetate
  参考文献：
  名称：

  RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION

  摘要：

  公开号：

  EP2080750B1

文献信息

• COMPOSITION FOR RESIST UNDERLAYER FILM FORMATION, UNDERLAYER FILM FOR LITHOGRAPHY, AND PATTERN FORMATION METHOD
  申请人：MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.

  公开号：US20200249573A1

  公开（公告）日：2020-08-06

  The present invention provides a composition for resist underlayer film formation comprising a tellurium-containing compound or a tellurium-containing resin.

  本发明提供了一种用于抗蚀底层膜形成的组合物，其包括含碲化合物或含碲树脂。
• OPTICAL COMPONENT FORMING COMPOSITION AND CURED PRODUCT THEREOF
  申请人：Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.

  公开号：US20200262787A1

  公开（公告）日：2020-08-20

  The present invention provides an optical component forming composition comprising a tellurium-containing compound or a tellurium-containing resin.

  本发明提供了一种包括含碲化合物或含碲树脂的光学元件成型组合物。
• TETRAKIS(ETHER-SUBSTITUTED FORMYLPHENYL) AND NEW POLYNUCLEAR POLYPHENOL DERIVED FROM THE SAME
  申请人：Yoshitomo Akira

  公开号：US20110172457A1

  公开（公告）日：2011-07-14

  Disclosed are tetrakis(ether-substituted formylphenyl) expressed by General Formula (1), as well as polynuclear polyphenol derived from such tetrakis(ether-substituted formylphenyl): (In the formula, R 1 represents an alkyl group with 1 to 8 carbon atoms or alkoxyl group with 1 to 8 carbon atoms, or aromatic hydrocarbon group or saturated hydrocarbon group with 1 to 8 carbon atoms having an aromatic hydrocarbon group, n represents 0 or an integer of 1 to 3, R 2 represents a divalent monocyclic or fused-ring aromatic hydrocarbon group with 6 to 15 carbon atoms or divalent aliphatic hydrocarbon group with 1 to 8 carbon atoms that may have a monocyclic or fused-ring aromatic hydrocarbon group with 6 to 15 carbon atoms, R 3 represents a hydrogen atom or alkyl group with 1 to 6 carbon atoms, A represents a tetravalent carbon atom group or tetravalent saturated hydrocarbon group with 2 or more carbon atoms, where, if A is a tetravalent saturated hydrocarbon group with 2 or more carbon atoms, the two carbon atoms in the A group are bonded with two phenyl groups, respectively.)

  通用公式（1）表示的四（醚取代甲酰基苯基）以及由此类四（醚取代甲酰基苯基）衍生的多核多酚已公开：（在公式中，R1代表具有1至8个碳原子的烷基基团或具有1至8个碳原子的烷氧基团，或具有具有芳香烃基的1至8个碳原子的芳香烃基或饱和碳氢基团，n代表0或1至3的整数，R2代表具有6至15个碳原子的二价单环或融合环芳香烃基团或具有1至8个碳原子的二价脂肪碳氢基团，该基团可能具有具有6至15个碳原子的单环或融合环芳香烃基团，R3代表氢原子或具有1至6个碳原子的烷基基团，A代表四价碳原子基团或具有2个或更多碳原子的四价饱和碳氢基团，如果A是具有2个或更多碳原子的四价饱和碳氢基团，则A基团中的两个碳原子分别与两个苯基团结合。）
• CYCLIC COMPOUND, PHOTORESIST BASE MATERIAL AND PHOTORESIST COMPOSITION
  申请人：Shibata Mitsuru

  公开号：US20100190107A1

  公开（公告）日：2010-07-29

  A cyclic compound shown by the following formula (I):

  一个由以下公式（I）所示的环状化合物：
• Photoresist composition for deep ultraviolet lithography comprising a mixture of photoactive compounds
  申请人：——

  公开号：US20030235782A1

  公开（公告）日：2003-12-25

  The present invention relates to a novel photoresist composition that can be developed with an aqueous alkaline solution, and is capable of being imaged at exposure wavelengths in the deep ultraviolet. The invention also relates to a process for imaging the novel photoresist as well as novel photoacid generators.

  本发明涉及一种新型光刻胶组合物，可以用水性碱性溶液进行显影，并且能够在深紫外曝光波长下成像。该发明还涉及一种成像新型光刻胶的方法以及新型光酸发生剂。