MADM-4HBA | 1021604-70-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: MADM-4HBA
• 英文别名: AD1-HBA；(2-Methyl-2-adamantyl) 2-(4-formylphenoxy)acetate
• CAS: 1021604-70-5
• 化学式: C₂₀H₂₄O₄
• 分子量: 328.408
• InChiKey: FKEWQUQFXSXSTJ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.8
• 重原子数：
  24
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  5.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.6
• 拓扑面积：
  52.6
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  MADM-4HBA 、 间苯二酚 在 盐酸 作用下， 以 乙醇 、 水 为溶剂， 反应 7.0h， 生成 (2-Methyl-2-adamantyl) 2-[4-[4,6,10,12,16,18,22,24-octahydroxy-8,14,20-tris[4-[2-[(2-methyl-2-adamantyl)oxy]-2-oxoethoxy]phenyl]-2-pentacyclo[19.3.1.13,7.19,13.115,19]octacosa-1(25),3(28),4,6,9(27),10,12,15,17,19(26),21,23-dodecaenyl]phenoxy]acetate
  参考文献：
  名称：

  Pattern forming method, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition used therein, resist film, manufacturing method of electronic device using the same, and electronic device

  摘要：

  提供了一种图案形成方法，包括：(i)使用含有(A)分子量为500至5000的芳香环和非聚合酸分解化合物和(B)能够在接受活性射线或辐射照射后生成酸的化合物的活性射线敏感或辐射敏感组合物形成薄膜的步骤；(ii)曝光薄膜；以及(iii)使用含有有机溶剂的显影剂进行显影，以形成负图案。

  公开号：

  US09417523B2
• 作为产物：
  描述：

  2-methyl-2-adamantyl bromoacetate 、 对羟基苯甲醛 在 potassium carbonate 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 反应 24.0h， 生成 MADM-4HBA
  参考文献：
  名称：

  Pattern forming method, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition used therein, resist film, manufacturing method of electronic device using the same, and electronic device

  摘要：

  提供了一种图案形成方法，包括：(i)使用含有(A)分子量为500至5000的芳香环和非聚合酸分解化合物和(B)能够在接受活性射线或辐射照射后生成酸的化合物的活性射线敏感或辐射敏感组合物形成薄膜的步骤；(ii)曝光薄膜；以及(iii)使用含有有机溶剂的显影剂进行显影，以形成负图案。

  公开号：

  US09417523B2

文献信息

• RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION
  申请人：Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.

  公开号：EP2080750B1

  公开（公告）日：2020-07-29
• US8110334B2
  申请人：——

  公开号：US8110334B2

  公开（公告）日：2012-02-07
• US8846292B2
  申请人：——

  公开号：US8846292B2

  公开（公告）日：2014-09-30
• US9897913B2
  申请人：——

  公开号：US9897913B2

  公开（公告）日：2018-02-20
• Pattern forming method, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition used therein, resist film, manufacturing method of electronic device using the same, and electronic device
  申请人：FUJIFILM Corporation

  公开号：US09417523B2

  公开（公告）日：2016-08-16

  There is provided a pattern forming method comprising (i) a step of forming a film by using an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition containing (A) a non-polymeric acid-decomposable compound having an aromatic ring and a molecular weight of 500 to 5,000 and (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation; (ii) a step of exposing the film, and (iii) a step of performing development by using an organic solvent-containing developer to form a negative pattern.

  提供了一种图案形成方法，包括：(i)使用含有(A)分子量为500至5000的芳香环和非聚合酸分解化合物和(B)能够在接受活性射线或辐射照射后生成酸的化合物的活性射线敏感或辐射敏感组合物形成薄膜的步骤；(ii)曝光薄膜；以及(iii)使用含有有机溶剂的显影剂进行显影，以形成负图案。