trichloro-3-(1H,1H-pentadecafluorooctyloxy)propylsilane | 755-08-8

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: trichloro-3-(1H,1H-pentadecafluorooctyloxy)propylsilane
• 英文别名: Trichlor-<3-(1H,1H-perfluor-octyloxy)-propyl>-silan；Trichlor-(3-<1H.1H-pentadecafluoroctyloxy>-propyl)-silan；C7F15CH2OCH2CH2CH2SiCl3；trichloro-[3-(2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-pentadecafluorooctoxy)propyl]silane
• CAS: 755-08-8
• 化学式: C₁₁H₈Cl₃F₁₅OSi
• 分子量: 575.604
• InChiKey: KXFULKHFTGCNEZ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  7.42
• 重原子数：
  31
• 可旋转键数：
  10
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  9.2
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  16

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  trichloro-3-(1H,1H-pentadecafluorooctyloxy)propylsilane 在 lithium aluminium tetrahydride 作用下， 生成 <3-(1H,1H-Pentadecafluor-butyloxy)-propyl>-silan
  参考文献：
  名称：

  Fluoroalkyl- and 3-(Fluoroalkoxy)propylpolysiloxanes

  摘要：

  DOI：

  10.1021/jo01066a076
• 作为产物：
  描述：

  2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-十五氟辛-1-醇 在 KARSTEDT催化剂 氢氧化钾 、 三氯硅烷 作用下， 以 二氯甲烷 、 二甲基亚砜 为溶剂， 反应 4.0h， 生成 trichloro-3-(1H,1H-pentadecafluorooctyloxy)propylsilane
  参考文献：
  名称：

  氟化烷基三氯硅烷自组装薄膜的动态接触角研究

  摘要：

  对 C7F15CH2OCH2CH2CH2SiCl3 自组装薄膜的动态接触角研究揭示了一系列有趣的行为。已经确定了基于溶液的加工条件，允许在石英上制备基本上单层的薄膜，其水接触角为 119/104 ± 2°，接触角滞后极低（十六烷 adv/rec = 74/70°，庚烷 adv /rec = 56/55°) 与烃类液体。这种化合物提供了一个氟化三氯硅烷的例子，它能够通过在室温下沉积来提供低滞后薄膜。还发现通过溶液中的水解和缩合反应形成的硅烷低聚物的吸附发生，比单层形成慢但与单层形成竞争。随着浸涂时间的增加，这一过程变得更加重要。硅晶片上的椭偏数据证实薄膜厚度随着浸渍时间的增加而增加，而 AFM 成像显示低聚物材料以颗粒的形式沉积。效果...

  DOI：

  10.1021/jp013820m

文献信息

• Antisoiling coatings for antireflective surfaces and methods of
  申请人：Minnesota Mining and Manufacturing Company

  公开号：US05851674A1

  公开（公告）日：1998-12-22

  An antisoiling coating for an antireflective surface, particularly the outer surface of an antireflective film stack, wherein the antisoiling coating includes a fluorinated siloxane, preferably prepared by applying a coating composition of a fluorinated silane of the following formula: R.sub.f --R.sup.1 --SiX.sub.3-x R.sup.2.sub.x wherein: R.sub.f is a perfluorinated group optionally containing one or more heteroatoms; R.sup.1 is a divalent alkylene group, arylene group, or mixture thereof, substituted with one or more heteroatoms or functional groups, containing about 2 to about 16 carbon atoms; R.sup.2 is a lower alkyl group; X is a halide, a lower alkoxy group, or an acyloxy group; and x is 0 or 1.

  一种用于防污染涂层的防反射表面，特别是防反射膜层的外表面，其中防污染涂层包括一种氟硅氧烷，优选通过应用以下公式的氟硅烷的涂层组合物来制备：R.sub.f --R.sup.1 --SiX.sub.3-x R.sup.2.sub.x其中：R.sub.f是可选包含一个或多个杂原子的全氟化基团；R.sup.1是含有约2到约16个碳原子的一个或多个杂原子或功能基团的二价烷基基团，芳基基团或两者的混合物；R.sup.2是较低的烷基基团；X是卤素，较低的烷氧基团或酰氧基团；x为0或1。