α-Methylphenacyl perflurooctanoate | 81559-39-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: α-Methylphenacyl perflurooctanoate
• 英文别名: (1-Oxo-1-phenylpropan-2-yl) 2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-pentadecafluorooctanoate
• CAS: 81559-39-9
• 化学式: C₁₇H₉F₁₅O₃
• 分子量: 546.233
• InChiKey: ZMLAZMFDWLFAFY-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  7.1
• 重原子数：
  35
• 可旋转键数：
  10
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.53
• 拓扑面积：
  43.4
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  18

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  全氟辛酸 、 1-(2-溴苯基)丙烷-1-酮 在 三乙胺 作用下， 以 (2S)-N-methyl-1-phenylpropan-2-amine hydrate 、 N,N-二甲基甲酰胺 为溶剂， 生成 α-Methylphenacyl perflurooctanoate
  参考文献：
  名称：

  Photolabile blocked surfactants and compositions containing the same

  摘要：

  提供了一种被光敏保护或掩蔽基团阻止表面活性剂作用（在此称为“光敏阻断表面活性剂”）的表面活性剂，但在暴露于光致辐射后变得解除阻断的方法。通过将光敏阻断表面活性剂与聚合膜形成材料混合，可以制备在辐照下形成表面活性剂的涂层组合物。含有光敏阻断表面活性剂的组合物在作为各种基材的保护涂层或作为压敏胶带中的粘合剂时非常有用。尽管最初能够很好地附着在基材上，但是在将这些组合物暴露于合适辐射下以解除表面活性剂阻断，使其恢复表面活性后，这些组合物可以轻松地从基材上去除。

  公开号：

  US04478967A1

文献信息

• US4478967A
  申请人：——

  公开号：US4478967A

  公开（公告）日：1984-10-23
• US4599273A
  申请人：——

  公开号：US4599273A

  公开（公告）日：1986-07-08
• US4740600A
  申请人：——

  公开号：US4740600A

  公开（公告）日：1988-04-26
• US4980096A
  申请人：——

  公开号：US4980096A

  公开（公告）日：1990-12-25
• Photolabile blocked surfactants and compositions containing the same
  申请人：Minnesota Mining and Manufacturing Company

  公开号：US04478967A1

  公开（公告）日：1984-10-23

  Surfactants which are blocked against surfactant action (identified herein as "photolabile blocked surfactants") by a photolabile protective or masking group but which, on exposure to actinic radiation, become unblocked are provided. Coating compositions in which surfactant is formed on irradiation are provided by blending the photolabile blocked surfactant with polymeric film-forming materials. Compositions containing the photolabile blocked surfactants are useful when employed as protective coatings on various substrates or as the adhesive in a pressure sensitive adhesive tape. Although initially well adhering to a substrate, such compositions may be readily removed from the substrate following exposure of the same to suitable radiation which unblocks the surfactant to permit it to regain its surfactant activity.

  提供了一种被光敏保护或掩蔽基团阻止表面活性剂作用（在此称为“光敏阻断表面活性剂”）的表面活性剂，但在暴露于光致辐射后变得解除阻断的方法。通过将光敏阻断表面活性剂与聚合膜形成材料混合，可以制备在辐照下形成表面活性剂的涂层组合物。含有光敏阻断表面活性剂的组合物在作为各种基材的保护涂层或作为压敏胶带中的粘合剂时非常有用。尽管最初能够很好地附着在基材上，但是在将这些组合物暴露于合适辐射下以解除表面活性剂阻断，使其恢复表面活性后，这些组合物可以轻松地从基材上去除。