4-(2,2-dimethyl-1,3-dioxolan-4-yl)-1,6-heptadien-4-ol

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: 4-(2,2-dimethyl-1,3-dioxolan-4-yl)-1,6-heptadien-4-ol
• 英文别名: 4-(2,2-Dimethyl-1,3-dioxolan-4-yl)hepta-1,6-dien-4-ol
• 化学式: C₁₂H₂₀O₃
• 分子量: 212.289
• InChiKey: YDNHSEUDSBWLJA-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.9
• 重原子数：
  15
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.67
• 拓扑面积：
  38.7
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  丙酮缩甘油 、 alkaline earth salt of/the/ methylsulfuric acid 在 palladium diacetate 、 三丁基膦 、 diethylzinc 、 sodium acetate 、 pyridinium chlorochromate 作用下， 以 正己烷 、 二氯甲烷 、 甲苯 为溶剂， 反应 22.0h， 生成 4-(2,2-dimethyl-1,3-dioxolan-4-yl)-1,6-heptadien-4-ol
  参考文献：
  名称：

  使用烯丙醇的钯催化脂族醛的亲核烯丙基烷基化

  摘要：

  在Pd（OAc）2-（P- n- Bu）3的催化下，Et 2 Zn促进各种烯丙醇在室温下经历脂肪族醛和酮的亲核烯丙基化反应，并在60-90和90内提供均烯丙基醇。分离产率分别为60％。该反应是不可逆的并且是动力学控制的，并且讨论了用不对称取代的烯丙醇进行烯丙基化时观察到的独特的区域选择性和立体选择性。

  DOI：

  10.1016/j.tet.2005.02.005

文献信息

• Photosensitive polymer and photoresist composition having the same
  申请人：Choi Sang-jun

  公开号：US20070172760A1

  公开（公告）日：2007-07-26

  A photosensitive polymer for a photoresist and a photoresist composition having the same are provided. The photosensitive polymer for a photoresist includes the repeating unit represented by the formula below: wherein R 1 is a C 1 -C 20 hydrocarbon group or a C 1 -C 20 hetero hydrocarbon group including at least one hetero atom selected from the group consisting of nitrogen, fluorine and sulfur.
• US7604918B2
  申请人：——

  公开号：US7604918B2

  公开（公告）日：2009-10-20