1-环己基环戊醇 | 16189-57-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 中文名称: 1-环己基环戊醇
• 英文名称: 1-cyclohexylcyclopentanol
• 英文别名: 1-Cyclohexylcyclopentan-1-ol
• CAS: 16189-57-4
• 化学式: C₁₁H₂₀O
• 分子量: 168.279
• InChiKey: TXCWZEGEHWADHU-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  20.2
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1-环己基环戊醇 在 对甲苯磺酸 、 臭氧 作用下， 以 二氯甲烷 、 苯 为溶剂， 反应 10.0h， 生成 5-cyclohexyl-5-oxopentanal
  参考文献：
  名称：

  通过一锅顺序缩醛化，Tishchenko反应和by离子和硫醇的协同催化内酯化作用，从5-氧代烷醛立体选择性合成δ-内酯。

  摘要：

  通过sa离子和硫醇的协同催化，一系列5-氧代烷醛以有效和立体选择性的方式转化为（取代的）δ-内酯。这一一锅法包括一系列缩醛化，Tishchenko反应和内酯化。与醇相比，有意使用硫醇有利于促进催化循环。提出了反应机理和立体化学，并得到了一些实验证据的支持。sa离子/硫醇共催化反应显示出远程控制的特征，适用于旋光性δ-内酯的不对称合成。这项研究还证明了两种昆虫信息素（2S，5R）-2-甲基己内酯和（R）-十六烷内酯的合成，

  DOI：

  10.1021/jo016058t
• 作为产物：
  描述：

  cyclohexylmagnesium iodide 、 环戊酮 以 乙醚 为溶剂， 反应 0.5h， 以81%的产率得到1-环己基环戊醇
  参考文献：
  名称：

  Rao, R. R.; Bhattacharya, S., Indian Journal of Chemistry - Section B Organic and Medicinal Chemistry, 1981, vol. 20, # 3, p. 207 - 209

  摘要：

  DOI：

文献信息

• ACID-LABILE ESTER MONOMER HAVING SPIROCYCLIC STRUCTURE, POLYMER, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Kinsho Takeshi

  公开号：US20100304295A1

  公开（公告）日：2010-12-02

  An acid-labile ester monomer of spirocyclic structure has formula (1) wherein Z is a monovalent group having a polymerizable double bond, X is a divalent group which forms a cyclopentane, cyclohexane or norbornane ring, R 2 is H or monovalent hydrocarbon, R 3 and R 4 are H or monovalent hydrocarbon, or R 3 and R 4 , taken together, stand for a divalent group which forms a cyclopentane or cyclohexane ring, and n is 1 or 2. A polymer obtained from the acid-labile ester monomer has so high reactivity in acid-catalyzed elimination reaction that the polymer may be used to formulate a resist composition having high resolution.

  一种酸敏感酯单体具有螺环结构，其化学式如下（1），其中Z是具有可聚合双键的一价基团，X是形成环戊烷、环己烷或诺邦烷环的二价基团，R2是H或一价碳氢基团，R3和R4是H或一价碳氢基团，或者R3和R4一起表示形成环戊烷或环己烷环的二价基团，n为1或2。从酸敏感酯单体获得的聚合物在酸催化消除反应中具有很高的反应性，因此可以用于制备具有高分辨率的抗蚀组合物。
• Ester compounds, polymers, resist compositions and patterning process
  申请人：Shin-Etsu Chemical, Co., Ltd.

  公开号：US06596463B2

  公开（公告）日：2003-07-22

  An ester compound of the following formula (1) is provided. R1 is H, methyl or CH2CO2R3, R2 is H, methyl or CO2R3, R3 is C1-C15 alkyl, k is 0 or 1, Z is a divalent C2-C20 hydrocarbon group which forms a single ring or bridged ring with the carbon atom and which may contain a hetero atom, m is 0 or 1, n is 0, 1, 2 or 3, and 2m+n=2 or 3. A resist composition comprising as the base resin a polymer resulting from the ester compound is sensitive to high-energy radiation, has excellent sensitivity, resolution, and etching resistance, and is suited for micropatterning using electron beams or deep-UV.

  提供了以下式（1）的酯化合物。R1为H、甲基或CH2CO2R3，R2为H、甲基或CO2R3，R3为C1-C15烷基，k为0或1，Z为双价C2-C20碳氢基团，与碳原子形成单环或桥环，可以含有杂原子，m为0或1，n为0、1、2或3，且2m+n=2或3。包含作为基础树脂的聚合物的抗蚀组合物对高能辐射敏感，具有优异的敏感性、分辨率和蚀刻抗性，适用于使用电子束或深紫外进行微图案化。
• Novel ester compounds, polymers, resist compositions and patterning process
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd

  公开号：US20010044071A1

  公开（公告）日：2001-11-22

  An ester compound of the following formula (1) is provided. 1 R 1 is H, methyl or CH 2 CO 2 R 3 , R 2 is H, methyl or CO 2 R 3 , R 3 is C 1 -C 15 alkyl, Z is a divalent C 2 -C 20 hydrocarbon group which forms a single ring or bridged ring with the carbon atom and which may contain a hetero atom, m is 0 or 1, n is 0, 1, 2 or 3, and 2m+n=2 or 3. A resist composition comprising as the base resin a polymer resulting from the ester compound is sensitive to high-energy radiation, has excellent sensitivity and resolution, and is suited for micropatterning using electron beams or deep-UV.

  提供了以下公式（1）的酯化合物。其中，1R1为H、甲基或CH2CO2R3，R2为H、甲基或CO2R3，R3为C1-C15烷基，Z为双价C2-C20碳氢基团，它与碳原子形成单环或桥环，可以含有杂原子，m为0或1，n为0、1、2或3，且2m+n=2或3。以该酯化合物为基础树脂的抗蚀组合物对高能辐射敏感，具有优异的敏感度和分辨率，适用于使用电子束或深紫外线进行微图案制备。
• Novel ester compounds polymers, resist compositions and patterning process
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US20030198891A1

  公开（公告）日：2003-10-23

  An ester compound of the following formula (1) is provided. 1 R 1 is H, methyl or CH 2 CO 2 R 3 , R 2 is H, methyl or CO 2 R 3 , R 3 is C 1 -C 15 alkyl, k is 0 or 1, Z is a divalent C 2 -C 20 hydrocarbon group which forms a single ring or bridged ring with the carbon atom and which may contain a hetero atom, m is 0 or 1, n is 0, 1, 2 or 3, and 2m+n=2 or 3. A resist composition comprising as the base resin a polymer resulting from the ester compound is sensitive to high-energy radiation, has excellent sensitivity, resolution, and etching resistance, and is suited for micropatterning using electron-beams or deep-UV.

  提供了下式（1）的酯类化合物。 1 R 1 是 H、甲基或 CH 2 CO 2 R 3 , R 2 是 H、甲基或 CO 2 R 3 , R 3 是 C 1 -C 15 烷基，k 为 0 或 1，Z 为二价 C 2 -C 20 烃基，它与碳原子形成单环或桥环，并可含有杂原子，m 是 0 或 1，n 是 0、1、2 或 3，2m+n=2 或 3。由酯化合物产生的聚合物作为基树脂的抗蚀剂组合物对高能辐射敏感，具有优异的灵敏度、分辨率和抗蚀刻性，适合使用电子束或深紫外线进行微图案化。
• CANONNE, P.;BELANGER, D.;LEMAY, G., TETRAHEDRON LETT., 1981, 22, N 50, 4995-4998
  作者：CANONNE, P.、BELANGER, D.、LEMAY, G.

  DOI：——

  日期：——