2,3,4,4'-四羟基二苯甲酮 | 31127-54-5

• 物质功能分类: 生物 - 细胞培养 - 添加剂
• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 中文名称: 2,3,4,4'-四羟基二苯甲酮
• 中文别名: 2,3,4,4'-四羟基苯酮；4-羟苯基)(2,3,4-三羟苯基)甲酮；2,3,4,4’-四羟基二苯甲酮；2,3,4,4-四羟基苯酮；(4-羟苯基)(2,3,4-三羟苯基)甲酮；BP-2；4THBP
• 英文名称: 2,3,4,4'-tetrahydroxybenzophenone
• 英文别名: (4-hydroxyphenyl)-(2,3,4-trihydroxyphenyl)methanone；(4-hydroxyphenyl)(2,3,4-trihydroxyphenyl)methanone；2,3,4,4'-tetrahydroxy-benzophenone；2,3,4,4'-Tetrahydroxy-benzophenon；2,3,4,4-tetrahydroxy benzophenone
• CAS: 31127-54-5
• 化学式: C₁₃H₁₀O₅
• mdl: MFCD00083097
• 分子量: 246.219
• InChiKey: ZRDYULMDEGRWRC-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  199-204°C
• 沸点：
  519.0±50.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.526±0.06 g/cm3(Predicted)
• 稳定性/保质期：
  如果按照规格使用和储存，则不会分解，也未有已知危险反应。

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.4
• 重原子数：
  18
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  98
• 氢给体数：
  4
• 氢受体数：
  5

安全信息

• 危险类别码：
  R36/37/38
• 海关编码：
  2914501900
• 安全说明：
  S26,S36/37/39
• 危险性防范说明：
  P261,P305+P351+P338
• 危险性描述：
  H315,H319,H335
• 储存条件：
  请将贮藏器密封，并存放在阴凉、干燥处。同时，确保工作环境有良好的通风或排气设施。

SDS

2,3,4,4'-四羟基二苯甲酮 修改号码：5

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模块 1. 化学品
产品名称： 2,3,4,4'-Tetrahydroxybenzophenone
修改号码： 5

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模块 2. 危险性概述
GHS分类
物理性危害 未分类
健康危害
皮肤腐蚀/刺激 第2级
严重损伤/刺激眼睛 2A类
环境危害 未分类
GHS标签元素
图标或危害标志
信号词 警告
危险描述 造成皮肤刺激
造成严重眼刺激
防范说明
[预防] 处理后要彻底清洗双手。
穿戴防护手套/护目镜/防护面具。
[急救措施] 眼睛接触：用水小心清洗几分钟。如果方便，易操作，摘除隐形眼镜。继续冲洗。
眼睛接触：求医/就诊
皮肤接触：用大量肥皂和水轻轻洗。
若皮肤刺激：求医/就诊。
脱掉被污染的衣物，清洗后方可重新使用。

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模块 3. 成分/组成信息
单一物质/混和物 单一物质
化学名(中文名)： 2,3,4,4'-四羟基二苯甲酮
百分比： >98.0%(T)
CAS编码： 31127-54-5
分子式： C13H10O5
2,3,4,4'-四羟基二苯甲酮 修改号码：5

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模块 4. 急救措施
吸入： 将受害者移到新鲜空气处，保持呼吸通畅，休息。若感不适请求医/就诊。
皮肤接触： 立即去除/脱掉所有被污染的衣物。用大量肥皂和水轻轻洗。
若皮肤刺激或发生皮疹：求医/就诊。
眼睛接触： 用水小心清洗几分钟。如果方便，易操作，摘除隐形眼镜。继续清洗。
如果眼睛刺激：求医/就诊。
食入： 若感不适，求医/就诊。漱口。
紧急救助者的防护： 救援者需要穿戴个人防护用品，比如橡胶手套和气密性护目镜。

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模块 5. 消防措施
合适的灭火剂： 干粉，泡沫，雾状水，二氧化碳
特定方法： 从上风处灭火，根据周围环境选择合适的灭火方法。
非相关人员应该撤离至安全地方。
周围一旦着火：如果安全，移去可移动容器。
消防员的特殊防护用具： 灭火时，一定要穿戴个人防护用品。

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模块 6. 泄漏应急处理
个人防护措施，防护用具， 使用个人防护用品。远离溢出物/泄露处并处在上风处。
紧急措施： 泄露区应该用安全带等圈起来，控制非相关人员进入。
环保措施： 防止进入下水道。
控制和清洗的方法和材料： 清扫收集粉尘，封入密闭容器。注意切勿分散。附着物或收集物应该立即根据合适的
法律法规处置。

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模块 7. 操作处置与储存
处理
技术措施： 在通风良好处进行处理。穿戴合适的防护用具。防止粉尘扩散。处理后彻底清洗双手
和脸。
注意事项： 如果粉尘或浮质产生，使用局部排气。
操作处置注意事项： 避免接触皮肤、眼睛和衣物。
贮存
储存条件： 保持容器密闭。存放于凉爽、阴暗处。
远离不相容的材料比如氧化剂存放。
包装材料： 依据法律。

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模块 8. 接触控制和个体防护
工程控制： 尽可能安装封闭体系或局部排风系统，操作人员切勿直接接触。同时安装淋浴器和洗
眼器。
个人防护用品
呼吸系统防护： 防尘面具。依据当地和政府法规。
手部防护： 防护手套。
眼睛防护： 安全防护镜。如果情况需要，佩戴面具。
皮肤和身体防护： 防护服。如果情况需要，穿戴防护靴。

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模块 9. 理化特性
固体
外形（20°C）：
外观： 晶体-粉末
颜色： 浅黄色-黄绿色
气味： 无资料
pH: 无数据资料
2,3,4,4'-四羟基二苯甲酮 修改号码：5

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模块 9. 理化特性
熔点：
221°C
沸点/沸程 无资料
闪点： 无资料
爆炸特性
爆炸下限： 无资料
爆炸上限： 无资料
密度： 无资料
溶解度：
[水] 极微溶于
[其他溶剂]
溶于： 甲醇, 四氢呋喃, 异丙醇
极微溶于： 甲苯

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模块 10. 稳定性和反应性
化学稳定性： 一般情况下稳定。
危险反应的可能性： 未报道特殊反应性。
须避免接触的物质 氧化剂
危险的分解产物: 一氧化碳, 二氧化碳

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模块 11. 毒理学信息
急性毒性： 无资料
对皮肤腐蚀或刺激： 无资料
对眼睛严重损害或刺激： 无资料
生殖细胞变异原性： 无资料
致癌性：
IARC = 无资料
NTP = 无资料
生殖毒性： 无资料

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模块 12. 生态学信息
生态毒性：
鱼类： 无资料
甲壳类： 无资料
藻类： 无资料
残留性 / 降解性： 4 - 7 % (by BOD), 34 - 41 % (by TOC), 100 % (by HPLC)
潜在生物累积 （BCF): 无资料
土壤中移动性
log水分配系数： 无资料
土壤吸收系数 （Koc）： 无资料
亨利定律 无资料
constant(PaM3/mol):

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模块 13. 废弃处置
如果可能，回收处理。请咨询当地管理部门。建议在可燃溶剂中溶解混合，在装有后燃和洗涤装置的化学焚烧炉中
焚烧。废弃处置时请遵守国家、地区和当地的所有法规。

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模块 14. 运输信息
联合国分类： 与联合国分类标准不一致
UN编号： 未列明
2,3,4,4'-四羟基二苯甲酮 修改号码：5

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模块 15. 法规信息
《危险化学品安全管理条例》（2002年1月26日国务院发布，2011年2月16日修订）: 针对危险化学品的安全使用、
生产、储存、运输、装卸等方面均作了相应的规定。

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模块16 - 其他信息
N/A

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1,2-naphthoquinone diazide-5-sulfonyl chloride 、 2,3,4,4'-四羟基二苯甲酮 在 盐酸 、 三乙胺 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 生成 2,3,4,4'-tetrahydroxybenzophenone 1,2-naphthoquinonediazide-5-sulfonate ester
  参考文献：
  名称：

  Method for producing 1,2-naphthoquinonediazide photosensitive agent

  摘要：

  一种生产高纯度的1,2-萘醌二氮化酯感光剂的方法，其中含有低水平的杂质，通过在除酰胺以外的有机溶剂中，将多羟基酚类化合物和1,2-萘醌二氮化酯磺酸氯化物在有机胺的存在下缩合；随后向所得反应混合物中加入酰胺溶剂；并通过过滤分离产生的有机胺酸盐。

  公开号：

  US20010049433A1
• 作为产物：
  描述：

  对羟基苯甲酰氯 、 邻苯三酚 在 aluminum (III) chloride 作用下， 以 异戊醇 为溶剂， 反应 5.5h， 以77.2%的产率得到2,3,4,4'-四羟基二苯甲酮
  参考文献：
  名称：

  一种常压制备2,3,4,4′-四羟基二苯甲酮的方法

  摘要：

  本发明公开了一种常压制备2,3,4,4′‑四羟基二苯甲酮的方法，将酰化试剂和焦性没食子酸、催化剂和异戊醇在反应器中混合，通入惰性气体，在110‑130℃下反应4‑6h，TLC跟踪至反应终点，反应毕降温至50‑60℃，保温1‑2h，加入水，分层，有机层降温结晶，过滤烘干，得到产物；本发明相比现有技术，操作简单，反应设备要求低，副产物少，催化剂易分离，反应溶剂毒性小，结晶后易分离，精制效果好，能得到纯度较高的产物。

  公开号：

  CN106365961A

文献信息

• [EN] SULFONIUM SULFATES, THEIR PREPARATION AND USE<br/>[FR] SULFATES DE SULFONIUM, LEUR PRÉPARATION ET UTILISATION
  申请人：BASF SE

  公开号：WO2012113829A1

  公开（公告）日：2012-08-30

  The present invention relates to a heat-curable composition comprising (a) at least one compound which is capable of undergoing cationic polymerization; and (b) at least one sulfonium sulfate selected from compounds of the formulae Ia and Ib where Yn- is a monovalent or divalent anion selected from (1) where n, M, R1 to R10 are as defined in claim 1 and in the description. The present invention also relates to novel sulfonium sulfates of the formulae Ia and Ib, to a process for curing cationically polymerizable material and to the cured material obtained by said process.

  本发明涉及一种热固化组合物，包括（a）至少一种能够进行阳离子聚合的化合物；和（b）选择自式Ia和Ib的至少一种砜酸盐，其中Yn-是从（1）中选择的一价或二价阴离子，其中n、M、R1至R10如权利要求1和描述中所定义。本发明还涉及式Ia和Ib的新型砜酸盐，以及用于固化阳离子聚合材料的工艺和通过该工艺获得的固化材料。
• NOVOLAC RESIN AND RESIST FILM
  申请人：DIC Corporation

  公开号：US20180334523A1

  公开（公告）日：2018-11-22

  Provided are a novolac resin having developability, heat resistance, and dry etching resistance, and a photosensitive composition, a curable composition, and a resist film. A novolac resin including, as a repeating unit, a structural moiety represented by Structural Formula (1) or (2): (in the formula, Ar represents an arylene group, R 1 's each independently represent any one of a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, and a halogen atom, m's each independently represent an integer of 1 to 3, and X is any one of a hydrogen atom, a tertiary alkyl group, an alkoxyalkyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, a hetero atom-containing cyclic hydrocarbon group, and a trialkylsilyl group) in which at least one of X's present in the resin is any one of a tertiary alkyl group, an alkoxyalkyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, a hetero atom-containing cyclic hydrocarbon group, and a trialkylsilyl group.

  提供一种具有可开发性、耐热性和干法蚀刻抗性的新戊醛树脂，以及一种光敏组合物、可固化组合物和抗蚀膜。一种新戊醛树脂包括以下结构单元： （在公式中，Ar代表芳基，R 1 分别独立地代表氢原子、烷基、烷氧基和卤素原子中的任意一种，m分别独立地代表1至3的整数，X代表氢原子、三级烷基、烷氧基烷基、酰基、烷氧羰基、含杂原子的环烃基和三烷基硅基中的任意一种），树脂中至少有一个X是三级烷基、烷氧基烷基、酰基、烷氧羰基、含杂原子的环烃基和三烷基硅基中的任意一种。
• Evaluation of Polyhydroxybenzophenones as α-Glucosidase Inhibitors
  作者：Xuesen Hu、Yang Xiao、Jianlong Wu、Lin Ma

  DOI：10.1002/ardp.201000147

  日期：2011.2

  This experiment was designed to synthesize 18 kinds of polyhydroxybenzophenones by using Friedel‐Crafts reaction, and to measure the inhibitory activity on α‐glucosidase with p‐nitrophenyl‐β‐D‐galactopyranoside (PNPG) as a substrate. Here, acarbose (IC50 = 1674.75 µmol L−1) was used as the reference inhibitor. The results demonstrated that most of the target compounds had remarkable inhibitory activities

  本实验旨在利用Friedel-Crafts反应合成18种多羟基二苯甲酮，以对硝基苯基-β-D-吡喃半乳糖苷（PNPG）为底物，测定对α-葡萄糖苷酶的抑制活性。在这里，阿卡波糖 (IC50 = 1674.75 µmol L - 1) 用作参考抑制剂。结果表明，大多数目标化合物对α-葡萄糖苷酶具有显着的抑制活性。在所有这些化合物中，2,4,4', 6-butahydroxydiphenylketone (11) 被发现是最有效的 α-葡萄糖苷酶抑制剂，IC50 值为 10.62 µmol L - 1。此外，我们通过动力学分析发现这些化合物是竞争性抑制剂。结果表明，此类化合物可用于开发新的糖尿病治疗候选药物。
• Optically active compound and photosensitive resin composition
  申请人：——

  公开号：US20030211421A1

  公开（公告）日：2003-11-13

  A photoactive compound is used in combination with a photosensitizer, represented by the following formula (1): A −[( J ) m −( X-Pro )] n (1) wherein A represents a hydrophobic unit comprising at least one kind of hydrophobic groups selected from a hydrocarbon group and a heterocyclic group, J represents a connecting group, X-Pro represents a hydrophilic group protected by a protective group Pro which is removable by light exposure, m represents 0 or 1, and n represents an integer of not less than 1. The protective group Pro may be removable by light exposure in association with the photosensitizer (especially, a photo acid generator), or may be a hydrophobic protective group. The hydrophilic group may be a hydroxyl group or a carboxyl group. The photoactive compound has high sensitivity to a light source of short wavelength beams, for resist application, therefore, the photoactive compound is advantageously used for forming a pattern with high resolution.

  一种光活性化合物与光敏剂结合使用，由以下公式（1）表示： A −[( J ) m −( X-Pro )] n (1) 其中，A代表至少包括一种从烃基和杂环基中选择的疏水基的疏水单元，J代表连接基团，X-Pro代表由光照可去除的保护基团Pro保护的亲水基团，m代表0或1，n代表不少于1的整数。 保护基团Pro可以与光敏剂（特别是光酸发生剂）一起通过光照可去除，也可以是疏水保护基团。亲水基团可以是羟基或羧基。光活性化合物对短波长光源具有很高的敏感性，用于光刻应用，因此，该光活性化合物有利于形成具有高分辨率的图案。
• [EN] LATENT ACIDS AND THEIR USE<br/>[FR] ACIDES LATENTS ET LEUR UTILISATION
  申请人：BASF SE

  公开号：WO2016124493A1

  公开（公告）日：2016-08-11

  Compounds of the formula (I) and (IA) wherein X is -O(CO)-; R1 is C1-C12haloalkyl or C6-C10haloaryl; R2 is located in position 7 of the coumarinyl ring and is OR8; R2a, R2b and R2C independently of each other are hydrogen; R3 is C1-C8haloalkyl or C1-C8haloalkyl; R4 is hydrogen; and R8 is C1-C6alkyI; are suitable as photosensitive acid donors in the preparation of photoresist compositions such as used for example in the preparation of spacers, insulating layers, interlayer dielectric films, insulation layers, planarization layers, protecting layers, overcoat layers, banks for electroluminescence displays and liquid crystal displays (LCD).

  化合物的化学式（I）和（IA），其中X为-O(CO)-；R1为C1-C12卤代烷基或C6-C10卤代芳基；R2位于香豆素环的第7位，为OR8；R2a、R2b和R2C彼此独立地为氢；R3为C1-C8卤代烷基或C1-C8卤代烷基；R4为氢；R8为C1-C6烷基，适用于作为感光酸给体，用于制备光刻胶组合物，例如用于制备间隔层、绝缘层、层间介质膜、绝缘层、平坦化层、保护层、覆盖层、电致发光显示器和液晶显示器（LCD）的制备。