1-(4-acetylphenyl)-3-phenyl-1H-pyrrole-2,5-dione

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: 1-(4-acetylphenyl)-3-phenyl-1H-pyrrole-2,5-dione
• 英文别名: 1-(4-Acetylphenyl)-3-phenylpyrrole-2,5-dione
• 化学式: C₁₈H₁₃NO₃
• 分子量: 291.306
• InChiKey: QAUVQQDTCOCWMZ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.4
• 重原子数：
  22
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.06
• 拓扑面积：
  54.4
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  N-(4-乙酰苯基)-2,5-马来酰亚胺 、 lithium benzoate 在 silver tetrafluoroborate 、 dichloro(pentamethylcyclopentadienyl)rhodium (III) dimer 、 copper(II) acetate monohydrate 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 反应 3.0h， 以51.5%的产率得到1-(4-acetylphenyl)-3-phenyl-1H-pyrrole-2,5-dione
  参考文献：
  名称：

  弱配位的羧酸盐定向的铑（III）催化的C–H活化：可切换的脱羧Heck型和与马来酰亚胺的[4 +1]环化反应

  摘要：

  据报道，弱配位的羧酸酯导向基团可通过马来酰亚胺辅助C–H活化，从而导致新的和可转换的脱氧Heck型和Rh（III）催化的[4 +1]环化产物。在这些反应中，溶剂在切换选择性方面起着至关重要的作用。非质子溶剂THF导致脱羧的Heck型产物，而质子溶剂TFE导致[4 +1]环化产物。该方法显示出较高的官能团耐受性。

  DOI：

  10.1021/acs.orglett.9b01412

文献信息

• Palladium-Catalyzed Carbonylative Cyclization of Terminal Alkynes and Anilines to 3-Substituted Maleimides
  作者：Jian-Xing Xu、Xiao-Feng Wu

  DOI：10.1002/adsc.201800672

  日期：2018.9.3

  Herein, we describe an interesting palladium‐catalyzed protocol for the carbonylative synthesis of 3‐substituted maleimides. By annulation of simple anilines with terminal alkynes under carbon monoxide pressure, the desired 3‐substituted maleimides can be obtained in 50–85% yields. Additionally, with the addition of phosphine ligand, maleic acid isoimide can be obtained from the same substrates as

  在这里，我们描述了一个有趣的钯催化方案，用于3-取代的马来酰亚胺的羰基合成。通过在一氧化碳压力下用末端炔烃对简单的苯胺进行环化处理，可以以50-85％的产率获得所需的3-取代的马来酰亚胺。另外，通过添加膦配体，也可以从相同的底物获得马来酸异酰亚胺。在存在K 2 S 2 O 8的情况下，可以将所获得的马来酸异酰亚胺完全转化为相应的马来酰亚胺。
• Photosensitive Novolac Resin, Positive Photosensitive Resin Composition Including Same, Photosensitive Resin Film Prepared by Using the Same, and Semiconductor Device Including the Photosensitive Resin Film
  申请人：LEE Jong-Hwa

  公开号：US20130171563A1

  公开（公告）日：2013-07-04

  Disclosed is a photosensitive novolac resin including a structural unit represented by the following Chemical Formula 1 and structural unit represented by the following Chemical Formula 2, wherein R 11 , R 12 , R 13 , and R 14 in Chemical Formulae 1 and 2 are the same as defined in the detailed description, a positive photosensitive resin composition including the same, a photosensitive resin film fabricated using the same, and a semiconductor device including the photosensitive resin composition.

  本发明公开了一种光敏性新乐酸树脂，其中包括由以下化学式1表示的结构单元和由以下化学式2表示的结构单元，其中化学式1和2中的R11，R12，R13和R14与详细描述中定义的相同，以及包括该树脂的正向光敏树脂组合物，使用该组合物制造的光敏树脂膜，以及包括该光敏树脂组合物的半导体器件。
• Novel Phenol Compounds and Positive Photosensitive Resin Composition Including the Same
  申请人：JEONG Ji-Young

  公开号：US20120156614A1

  公开（公告）日：2012-06-21

  Disclosed are a novel phenol compound comprising a compound represented by Chemical Formula 1, a compound represented by Chemical Formula 2, or a combination thereof, and a positive photosensitive resin composition including the same.
• US8785103B2
  申请人：——

  公开号：US8785103B2

  公开（公告）日：2014-07-22