2-methoxy-1-(methoxymethoxy)-4-vinylbenzene

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯酚醚
• 英文名称: 2-methoxy-1-(methoxymethoxy)-4-vinylbenzene
• 英文别名: 4-Ethenyl-2-methoxy-1-(methoxymethoxy)benzene
• 化学式: C₁₁H₁₄O₃
• 分子量: 194.23
• InChiKey: CNRICVKVVDKLNM-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.5
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.27
• 拓扑面积：
  27.7
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-methoxy-1-(methoxymethoxy)-4-vinylbenzene 在 potassium phosphate 、 氯双(二甲基乙二肟)[4-(二甲基氨基)吡啶]钴(III) 、 三氟乙酸 、 10-甲基-9-均三甲苯基吖啶高氯酸盐 作用下， 以 甲醇 、 甲苯 为溶剂， 反应 38.0h， 生成 (E)-2-methoxy-4-(2-(pyrrolidin-2-yl)vinyl)phenol
  参考文献：
  名称：

  在没有牺牲氢受体的情况下未活化脂肪酸和末端烯烃的光诱导脱羧 Heck 型偶联

  摘要：

  1,2-二取代的烯烃，如乙烯基芳烃、乙烯基硅烷和乙烯基硼酸酯，是化学科学各个领域中最通用的结构单元。我们在此报告了一种无贵金属的方法，该方法使用烷基羧酸（最普遍的结构单元之一）作为原料，通过光诱导脱羧 Heck 型偶联获得此类烯烃。这种转变是在没有外部氧化剂的情况下通过有机光氧化还原催化剂和钴肟催化剂的协同组合实现的，H2 和 CO2 作为唯一的副产物。控制实验和 DFT 计算都支持基于自由基的机制，最终导致开发出脂肪族羧酸、丙烯酸酯和乙烯基芳烃的选择性三组分偶联。

  DOI：

  10.1021/jacs.8b11218
• 作为产物：
  描述：

  4-乙烯基-2-甲氧基苯酚 、 氯甲基甲基醚 在 N,N-二异丙基乙胺 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 反应 16.0h， 生成 2-methoxy-1-(methoxymethoxy)-4-vinylbenzene
  参考文献：
  名称：

  在没有牺牲氢受体的情况下未活化脂肪酸和末端烯烃的光诱导脱羧 Heck 型偶联

  摘要：

  1,2-二取代的烯烃，如乙烯基芳烃、乙烯基硅烷和乙烯基硼酸酯，是化学科学各个领域中最通用的结构单元。我们在此报告了一种无贵金属的方法，该方法使用烷基羧酸（最普遍的结构单元之一）作为原料，通过光诱导脱羧 Heck 型偶联获得此类烯烃。这种转变是在没有外部氧化剂的情况下通过有机光氧化还原催化剂和钴肟催化剂的协同组合实现的，H2 和 CO2 作为唯一的副产物。控制实验和 DFT 计算都支持基于自由基的机制，最终导致开发出脂肪族羧酸、丙烯酸酯和乙烯基芳烃的选择性三组分偶联。

  DOI：

  10.1021/jacs.8b11218

文献信息

• Photoresist composition
  申请人：Kamabuchi Akira

  公开号：US10377692B2

  公开（公告）日：2019-08-13

  A photoresist composition comprising a resin which comprises a structural unit derived from a compound having an acid-labile group and which is insoluble or poorly soluble in an alkali aqueous solution but becomes soluble in an alkali aqueous solution by the action of an acid, an acid generator and a compound represented by the formula (I′): wherein R51, R52, R53 and R54 independently each represent a C1-C8 alkyl group, and A11 represents a C3-C36 divalent saturated cyclic hydrocarbon group which can contain one or more heteroatoms and which have one or more substituents or a C6-C20 divalent aromatic hydrocarbon group which can contain one or more heteroatoms and which have one or more substituents.

  一种光阻组合物，包括以下成分：由含有酸敏感基团的化合物衍生的结构单元构成的树脂，该树脂在碱性水溶液中不溶或溶解性差，但在酸的作用下变得可溶于碱性水溶液；酸发生剂；以及由下式（I'）表示的化合物：其中，R51、R52、R53和R54各自独立地表示C1-C8烷基；A11表示一个C3-C36的二价饱和环烃基，该基团可以含有一个或多个杂原子，并且可以具有一个或多个取代基，或者表示一个C6-C20的二价芳香族烃基，该基团可以含有一个或多个杂原子，并且可以具有一个或多个取代基。
• Synthesizing Complex Quaternary Carbons by the Sequence-Regulated Additions of <i>tert</i>-Alkyl Radicals to Two Different Olefins
  作者：Kyosuke Matsuda、Chihiro Tanaka、Daisuke Sato、Takashi Nishikata

  DOI：10.1021/acs.orglett.3c00812

  日期：2023.4.28

  We report the sequence-regulated radical additions of tert-alkyl radicals to two different olefins controlled by a Cu catalyst, which we term the “atom-transfer radical addition–substitution” reaction. The reactions of α-bromocarbonyl compounds, such as tert-alkyl radical sources, with methacrylates and styrenes occur in a sequence-regulated manner to give the corresponding three-component product

  我们报告了由 Cu 催化剂控制的叔烷基自由基对两种不同烯烃的序列调节自由基加成，我们将其称为“原子转移自由基加成-取代”反应。α-溴代羰基化合物（例如叔烷基自由基源）与甲基丙烯酸酯和苯乙烯的反应以顺序调节的方式发生，得到相应的具有跳过季碳中心的三组分产物。我们的方法为如何在受调节的脂肪链合成过程中控制叔烷基自由基的反应性提供了新的见解。
• Resin and resist composition
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US10766992B2

  公开（公告）日：2020-09-08

  A resin containing a structural unit derived from a compound represented by the formula (aa) wherein T, R1 and Z1 are defined in the specification.

  一种树脂，含有由式 (aa) 所示化合物衍生的结构单元 其中 T、R1 和 Z1 的定义见说明书。
• RESIN AND RESIST COMPOSITION
  申请人：Ichikawa Koji

  公开号：US20100323296A1

  公开（公告）日：2010-12-23

  A resin comprises a structural unit derived from a compound represented by the formula (aa) wherein T represents a C 4 to C 36 alicyclic hydrocarbon group, the hydrogen atom contained in the alicyclic hydrocarbon group may be replaced by a halogen atom, a hydroxyl group, a C 1 to C 12 alkyl group optionally substituted with a halogen atom or a hydroxyl group, a C 1 to C 12 alkoxyl group, a C 6 to C 12 aryl group, a C 7 to C 12 aralkyl group, a glycidyloxy group, a C 2 to C 4 acyl group, an alkoxycarbonyl group, an alkanoyloxyalkyl group or a cyano group, and the —CH 2 — contained in the alicyclic hydrocarbon group is replaced by at least one —SO 2 — and furthermore may be replaced by —CO—, —O—, —S—, —SO 2 — or —N(R c )—; R c represents a hydrogen atom or a C 1 to C 6 alkyl group; R 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, or a C 1 to C 6 alkyl group that may optionally has halogen atoms; and Z 1 represents an optionally substituted C 1 to C 17 saturated hydrocarbon group, and the —CH 2 — contained in the saturated hydrocarbon group may be replaced by —CO—, —O—, —S— or —N(R c )—.
• PHOTORESIST COMPOSITION
  申请人：KAMABUCHI Akira

  公开号：US20110059400A1

  公开（公告）日：2011-03-10

  The present invention provides a photoresist composition comprising a resin which comprises a structural unit derived from a compound having an acid-labile group and which is insoluble or poorly soluble in an alkali aqueous solution but becomes soluble in an alkali aqueous solution by the action of an acid, an acid generator and a compound represented by the formula (I′): wherein R 51 , R 52 , R 53 and R 54 independently each represent a C1-C8 alkyl group, and A 11 represents a C3-C36 divalent saturated cyclic hydrocarbon group which can contain one or more heteroatoms and which have one or more substituents or a C6-C20 divalent aromatic hydrocarbon group which can contain one or more heteroatoms and which have one or more substituents.