【課題】良好なCD均一性(CDU)を有するレジストパターンを製造することができる塩、酸発生剤及びレジスト組成物を提供する。【解決手段】式(I)で表される塩、該塩を含有する酸発生剤及びレジスト組成物。[式中、Q1及びQ2は、それぞれフッ素原子などを表す。R1及びR2は、それぞれ水素原子などを表す。zは0〜6の整数を表す。X1は、*−CO−O−などを表す。L1は、単結合又は置換基を有してもよい炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−、−S−、−SO2−又は−CO−に置き換わっていてもよい。L2はアルカンジイル基を表す。Wは脂環式炭化水素基を表す。R3は置換基を有してもよい炭化水素基を表す。Z+は有機カチオンを表す。]【選択図】なし
提供一种能够制造具有良好CD均一性(CDU)的光阻图案的盐、酸发生剂和光阻组合物。解决方法是提供式(I)所表示的盐、含有该盐的酸发生剂和光阻组合物。[其中,Q1和Q2分别表示
氟原子等。R1和R2分别表示氢原子等。z表示0-6的整数。X1表示* -CO-O-等。L1表示可以具有单键或取代基的碳氢基,其中包含的-
CH2-可以被-O-,-S-,-SO2-或-CO-所取代。
L2表示烷基。W表示脂
环烃基。R3表示可以具有取代基的碳氢基。Z+表示有机阳离子。][选图]无