tetrakis(2-methylphenyl)osmium(IV) | 101191-32-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: tetrakis(2-methylphenyl)osmium(IV)
• 英文别名: Os(2-MeC6H4)4
• CAS: 101191-32-6
• 化学式: C₂₈H₂₈Os
• 分子量: 554.73
• InChiKey: IHGOIOUTYJTCOQ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.68
• 重原子数：
  29.0
• 可旋转键数：
  4.0
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.14
• 拓扑面积：
  0.0
• 氢给体数：
  0.0
• 氢受体数：
  0.0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  tetrakis(2-methylphenyl)osmium(IV) 以 二氯甲烷 为溶剂， 生成 Os(C6H4CH3-2)4(1+)
  参考文献：
  名称：

  均相芳基Os（2-MeC 6 H 4）4的氧化还原化学：第一（V）有机金属[Os（2-MeC 6 H 4）4 ] [CF 3 SO 3 ]的合成和表征

  摘要：

  Os（2-MeC 6 H 4）4在CH 2 Cl 2中的氧化产生非常稳定的（V）四芳基盐，[Os（2-MeC 6 H 4）4 ] [Y]，（Y = BF 4 –，CF 3 SO 3 –）; 三氟甲磺酸盐已通过X射线晶体学表征。

  DOI：

  10.1039/c39880001349
• 作为产物：
  描述：

  Os(2-MeC6H4)4BF4 以 四氢呋喃 为溶剂， 生成 tetrakis(2-methylphenyl)osmium(IV)
  参考文献：
  名称：

  均相芳基Os（2-MeC 6 H 4）4的氧化还原化学：第一（V）有机金属[Os（2-MeC 6 H 4）4 ] [CF 3 SO 3 ]的合成和表征

  摘要：

  Os（2-MeC 6 H 4）4在CH 2 Cl 2中的氧化产生非常稳定的（V）四芳基盐，[Os（2-MeC 6 H 4）4 ] [Y]，（Y = BF 4 –，CF 3 SO 3 –）; 三氟甲磺酸盐已通过X射线晶体学表征。

  DOI：

  10.1039/c39880001349

文献信息

• Synthesis and molecular structures of monooxo aryl complexes of osmium(VI)
  作者：Man-Kit Lau、Joyce LC Chim、Wing-Tak Wong、Ian D Williams、Wa-Hung Leung

  DOI：10.1139/v00-192

  日期：2001.5.1

  Reaction of [OsO₄] with C₇H₇MgBr (C₇H₇ = 2-methylphenyl) followed by column chromatography afforded the reported osmium tetraaryl [Os(C₇H₇)₄] along with the oxo-osmium(VI) ([OsO(C₇H₇)₄]) (1) (13%) and the dioxo-osmium(VI) ([OsO₂(C₇H₇)₂]) (2) (25%) complexes. Treatment of [OsO₄] with C₈H₉MgBr (C₈H₉ = 2,5-dimethylphenyl) gave a mixture of [Os(C₈H₉)₄] (3) (34%) and [OsO(C₈H₉)₄] (4) (4%) while that with C₈H₉OMgBr (C₈H₉O = 4-methoxy-2-methylphenyl) afforded [OsO(C₈H₉O)₄] (5) in 20% yield. Oxidation of 3 with 3-chloroperoxybenzoic acid afforded 4 in good yield. The solid-state structures of 1 and 4 have been established by X-ray crystallography. Crystals of 1 are tetragonal with a = 13.080(1) and c = 6.6506(5) Å, V = 1137.9(1) ų, Z = 2, and space group of P4/n; while those of 4 are tetragonal with a = 13.593(2) and c = 7.377(2) Å, V = 1363.0(5) ų, Z = 4, and space group of P4/n. The geometry around osmium in both complexes is square pyramidal with the oxo ligand occupying apical position. The Os—O and Os—C distances in 1 are 1.652(2) and 2.084(1) Å, respectively, while those in 4 are 1.688(7) and 2.088(4) Å, respectively. The cyclic voltammograms of the monooxo aryl osmium(VI) compounds show reversible Os(VI/V) couple at around –1.4 V vs. ferrocene/ferrocenium couple.Key words: osmium(VI), oxo aryl complexes.

  [OsO4]与 MgBr（C7H7 = 2-甲基苯基）反应，经过柱层析得到报告的钌四芳基[Os( )4]，同时还得到氧化钌(VI)（[OsO( )4]）（1）（13%）和双氧化钌(VI)（[OsO2( )2]）（2）（25%）配合物。[OsO4]与 MgBr（C8H9 = 2,5-二甲基苯基）处理后得到[Os( )4]（3）（34%）和[OsO( )4]（4）（4%）的混合物，而与 OMgBr（ O = 4-甲氧基-2-甲基苯基）处理后得到产率为20%的[OsO( O)4]（5）。将3氧化为3-氯过氧苯甲酸后得到4的产率较高。1和4的固态结构已通过X射线晶体学确定。1的晶体为四方晶系，a = 13.080(1) Å，c = 6.6506(5) Å，V = 1137.9(1) Å3，Z = 2，空间群为P4/n；而4的晶体为四方晶系，a = 13.593(2) Å，c = 7.377(2) Å，V = 1363.0(5) Å3，Z = 4，空间群为P4/n。两个配合物中钌的几何构型为方锥形，氧配体占据顶点位置。1中的Os-O和Os-C距离分别为1.652(2) Å和2.084(1) Å，而4中分别为1.688(7) Å和2.088(4) Å。单氧芳基钌(VI)化合物的循环伏安图显示在约-1.4 V处可逆的Os(VI/V)对，参考电极为二茂铁/二茂铁阳离子对。关键词：钌(VI)，氧芳基配合物。
• Mechanistic studies of ligand-induced thermolytic reductive elimination of biaryl from tetraarylosmium(IV)
  作者：David T. Hardy、Geoffrey Wilkinson、G.Brent Young

  DOI：10.1016/0277-5387(95)00364-9

  日期：1996.4

  Abstract The reaction of new tetraarylosmium(IV) complexes Os(2,4-Me2C6H3)4 and Os(4-F-2-MeC6H3)4 with PMe3 and P(OMe)3 has been investigated, as have the reactions between Os(2-MeC6H4)4 and PMe3, P(OMe)3, P(OEt)3 and P(OBun)3. These lead to reductive CC elimination, forming hexahaptobiaryl species Os(η6-Ar2)Ar)2(PR3) as initial products (Ar = 2,4-Me2C6H3, 4-F-2-MeC6H3, R = Me ; Ar = 2-MeC6H4, R =

  摘要研究了新的四芳基m络合物Os（2,4-Me2C6H3）4和Os（4-F-2-MeC6H3）4与PMe3和P（OMe）3的反应，以及Os（4 2-MeC6H4）4和PMe3，P（OMe）3，P（OEt）3和P（OBun）3。这些导致还原性的CC消除，形成了六氢联芳基物种Os（η6-Ar2）Ar）2（PR3）作为初始产物（Ar = 2,4-Me2C6H3，4-F-2-MeC6H3，R = Me; Ar = 2-MeC6H4，R = Me，OMe，OEt和OBun）。这些重排的动力学分析表明了一种缔合机制，其中P-供体与分子内还原性CC消除的协调是同步的。
• The synthesis and X-ray crystal structures of homoleptic tetrahedral aryls of osmium(IV) and of cyclohexyls of ruthenium(IV), osmium(IV), and chromium(IV)
  作者：Pericles Stavropoulos、Paul D. Savage、Robert P. Tooze、Geoffrey Wilkinson、Bilquis Hussain、Majid Motevalli、Michael B. Hursthouse

  DOI：10.1039/dt9870000557

  日期：——

  the isolation of the homoleptic, tetrahedral osmium(IV) compounds OsR4(R = C6H4Me-o or C6H5). Thermally stable M (C6H11)4 compounds (M = Ru, Os, or Cr; C6H11= cyclohexyl) are obtained by the interaction of the Grignard reagent with Ru2(O2CMe)4Cl, Os2(O2CMe)4Cl2, and CrCl3(thf)3(thf = tetrahydrofuran) respectively. The structures of all five compounds have been determined by X-ray crystallography.

  邻甲苯基溴化镁或AlPh 3（OEt 2）与四氧化的相互作用导致分离出均相的四面体（（IV）化合物OsR 4（R = C 6 H 4 Me- o或C 6 H 5）。通过格氏试剂与Ru 2（O 2 CMe）4 Cl，Os 2的相互作用获得热稳定的M（C 6 H 11）4化合物（M = Ru，Os或Cr； C 6 H 11 =环己基）（O2 CMe） 4 Cl 2和CrCl 3（thf） 3（thf =四氢呋喃）。所有五种化合物的结构均已通过X射线晶体学测定。
• Formation of a rhenium benzyne derivative by facile ligand-induced ortho-hydrogen abstraction in a homoleptic rhenium aryl; X-ray crystal structure of Re(η²-2-MeC₆H₃)(2-MeC₆H₄)₂(PMe₂Ph)₂
  作者：John Arnold、Geoffrey Wilkinson、Bilquis Hussain、Michael B. Hursthouse

  DOI：10.1039/c39880000704

  日期：——

  The rhenium benzyne complexes Re(η2-2-MeC6H3)(2-MeC6H4)2(PMe2R)2(R = Me or Ph) are formed at low temperature by reaction of Re(2-MeC6H4)4 with PMe2R; the PMe2Ph derivative has been characterized by X-ray crystallography.

  铼配合物苯炔的Re（η 2 -2-MEC 6 ħ 3）（2-MEC 6 ħ 4）2（PME 2 R）2（R = Me或PH）在低温下通过重新的反应形成（2- MEC 6 H 4）4和PMe 2 R; PMe 2 Ph衍生物已通过X射线晶体学表征。
• Pushing steric limits in osmium(<scp>iv</scp>) tetraaryl complexes
  作者：Joseph M. Parr、Clarissa Olivar、Thomas Saal、Ralf Haiges、Michael S. Inkpen

  DOI：10.1039/d2dt01706g

  日期：——

  Investigations into the reactivity, properties, and applications of osmium(IV) tetraaryl complexes have been hampered by their low yielding syntheses from volatile and toxic OsO4 (typically ≤34%). Here we show that known air-stable M(aryl)4 compounds (M = Os, Ru; aryl = 2-tolyl, 2,5-xylyl) can be prepared in ≤73% yields using new, less hazardous (Oct4N)2[MX6] precursors (M = Os, Ru; X = Cl, Br). This

  锇( IV )四芳基配合物的反应性、性质和应用的研究受到了由挥发性和有毒OsO 4 (通常≤34%)合成低产率的阻碍。在这里，我们展示了已知的空气稳定的 M(aryl) 4化合物（M = Os，Ru；芳基 = 2-甲苯基，2,5-二甲苯基）可以使用新的、危害较小的（Oct 4 N ) 2 [MX 6 ] 前体（M = Os、Ru；X = Cl、Br）。这种方法还有助于制备 Os(mesityl) 4 ( Os3) 首次合成了一种包含庞大的 2,6-二甲基取代芳基配体的复合物，尽管产率低 (5%)。为了更好地理解这些产率极限，我们通过合成两个具有不同 2-取代 σ-芳基配体的额外新配合物来追踪 Os(aryl) 4产率和配体空间体积之间的明确关系。这些化合物的单晶 X 射线结构表明，观察到的产率趋势反映了将芳基取代基容纳到与每个 M-芳基配位点直接相对的开放口袋中的难易程度。我们对Os3进行变温1