chlorodiphenoxymethane | 4431-86-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯酚醚
• 英文名称: chlorodiphenoxymethane
• 英文别名: Diphenoxy-methylchlorid；Formylchlorid-diphenylacetal；Diphenyloxymethylchlorid；Chlor-diphenoxy-methan；Diphenoxychloromethane；[chloro(phenoxy)methoxy]benzene
• CAS: 4431-86-1
• 化学式: C₁₃H₁₁ClO₂
• 分子量: 234.682
• InChiKey: SGAKGIHVFSIZCD-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  335.27°C (rough estimate)
• 密度：
  1.1783 (rough estimate)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.4
• 重原子数：
  16
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.08
• 拓扑面积：
  18.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

安全信息

• 海关编码：
  2909309090

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  chlorodiphenoxymethane 在 苯基锂 作用下， 以 乙醚 、 苯 为溶剂， 生成 tetraphenoxyethene
  参考文献：
  名称：

  Wittig,G.; Boell,W., Chemische Berichte, 1962, vol. 95, p. 2526 - 2534

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  二苯氧基乙酰氯 生成 chlorodiphenoxymethane
  参考文献：
  名称：

  Scheibler et al., Journal fur praktische Chemie (Leipzig 1954), 1958, vol. <4> 7, p. 70,94

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Synthesis of Bis(aryloxy)chloromethanes via Radical-Induced Chlorinations of Formaldehyde Diaryl Acetals
  作者：Anton Cambanis、Englbert Bäuml、Herbert Mayr

  DOI：10.1055/s-1988-27765

  日期：——

  Bis(aryloxy)chloromethanes 2 and bis(aryloxy)dichloromethanes 3 are prepared via radical-induced chlorination of the formaldehyde diaryl acetals 1 with chlorine or sulfuryl chloride.

  双(芳氧基)氯甲烷 2 和双(芳氧基)二氯甲烷 3 是通过氯或硫酰氯对甲醛二芳基乙醛 1 进行自由基诱导氯化而制备的。
• Sulfonium salts and use thereof
  申请人：BASF Aktiengesellschaft

  公开号：US05220037A1

  公开（公告）日：1993-06-15

  Novel sulfonium salts useful as photoinitiators for cationic polymerization and for producing relief patterns and relief images have the general formula (I) ##STR1## where A.sup..crclbar. is a non-nucleophilic counterion, x is 1, 2 or 3, R is a hydrocarbon radical R' is arylene or substituted arylene, and R" is ##STR2## where R.sup.1, R.sup.2 and R.sup.3 are each alkyl or monohalogenated or polyhalogenated alkyl or R.sup.1 and R.sup.2 are each hydrogen or alkyl, and R.sup.3 is phenyl, alkenyl or cycloalkenyl, or R.sup.1 is hydrogen, and R.sup.2 and R.sup.3 form ethylenically unsaturated ring, or R.sup.1 and R.sup.2 are each hydrogen, alkyl, cycloalkyl or aryl, and R.sup.3 is alkoxy or R.sup.1 is hydrogen or alkyl and R.sup.2 and R.sup.3 are each alkoxy, aryloxy or substituted aryloxy.

  具有通式(I)的新型磺鎵鹽可用作陽離子聚合的光引發劑，並用於製備浮雕圖案和浮雕圖像，其中A.sup..crclbar.是非亲核的反离子，x为1、2或3，R为烃基，R'为芳烃或取代芳烃，R"为##STR2##其中R.sup.1、R.sup.2和R.sup.3均为烷基或单卤代或多卤代烷基，或R.sup.1和R.sup.2分别为氢或烷基，R.sup.3为苯基、烯丙基或环烯基，或R.sup.1为氢，R.sup.2和R.sup.3形成乙烯基不饱和环，或R.sup.1和R.sup.2分别为氢、烷基、环烷基或芳基，R.sup.3为烷氧基，或R.sup.1为氢或烷基，R.sup.2和R.sup.3分别为烷氧基、芳氧基或取代芳氧基。
• Radiation-sensitive copying composition
  申请人：Hoechst Aktiengesellschaft

  公开号：US04101323A1

  公开（公告）日：1978-07-18

  This invention relates to a radiation-sensitive copying composition comprising a compound (1) which splits-off an acid upon irradiation and a compound (2) having at least one group selected from the group consisting of a carboxylic ortho acid ester group and a carboxylic acid amide acetal group, which composition, upon irradiation, forms an exposure product having a higher solubility in a liquid developer than the non-irradiated composition.

  本发明涉及一种辐射敏感的复制组合物，包括一个在辐射下分裂出酸的化合物(1)和一个具有至少一个羧酸酯基团或羧酸酰胺缩醛基团的化合物(2)，在辐射下，该组合物形成一种曝光产物，其在液体显影剂中的溶解度高于未辐射的组合物。
• Neue Sulfoniumsalze und deren Verwendung
  申请人：BASF Aktiengesellschaft

  公开号：EP0410250A1

  公开（公告）日：1991-01-30

  Die Erfindung betrifft neue Sulfoniumsalze der allgemeinen Formel (I) worin Ae = nichtnucleophiles Gegenion, x = 1, 2 oder 3, R = Kohlenwasserstoffrest, R = Arylen, substituiertes Arylen, R" = worin R1, R2 und R3 für Alkyl, für ein- oder mehrfach halogensubstituiertes Alkyl oder R1 und R2 für Wasserstoff oder Alkyl stehen, und R3 für Phenyl, Alkenyl oder Cycloalkenyl steht, oder R1 für Wasserstoff steht, und R2 und R3 zu einem ethylenisch ungesättigten Ring geschlossen sind, oder R1 und R2 für Wasserstoff, Alkyl, Cycloalkyl oder Aryl stehen, und R3 für Alkoxy steht oder R1 für Wasserstoff oder Alkyl steht, R2 und R3 für Alkoxy, Aryloxy oder substituiertes Aryloxy stehen. Diese Sulfoniumsalze eignen sich als Photoinitiatoren für die kationische Polymerisation und zur Herstellung von Reliefmustern und Reliefbildern.

  本发明涉及通式（I）的新锍盐 其中 Ae = 非亲核反离子、 x = 1、2 或 3 R = 碳氢基 R = 芳基、取代芳基、 R" = 其中 R1、R2 和 R3 代表烷基、单卤素或多卤素取代的烷基或 R1 和 R2 代表氢或烷基，R3 代表苯基、烯基或环烯基，或 R1 是氢，R2 和 R3 闭合形成乙烯不饱和环，或 R1 和 R2 代表氢、烷基、环烷基或芳基，R3 代表烷氧基，或 R1 是氢或烷基，R2 和 R3 是烷氧基、芳氧基或取代的芳氧基。 这些锍盐可用作阳离子聚合的光引发剂，也可用于制作浮雕图案和浮雕图像。
• Loewe, Christiane; Huttner, Gottfried; Zsolnai, Laszlo, Zeitschrift fur Naturforschung, B: Chemical Sciences, 1988, vol. 43, # 1, p. 25 - 30
  作者：Loewe, Christiane、Huttner, Gottfried、Zsolnai, Laszlo、Berke, Heinz

  DOI：——

  日期：——