6-Chloro-1,3-dihydroxy-10H-acridin-9-one

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 喹啉及其衍生物
• 英文名称: 6-Chloro-1,3-dihydroxy-10H-acridin-9-one
• 化学式: C₁₃H₈ClNO₃
• 分子量: 261.66
• InChiKey: QUCUVZYAANLRGR-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.4
• 重原子数：
  18
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  69.6
• 氢给体数：
  3
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  6-chloro-1,3-dihydroxy-10-methyl-10H-acridin-9-one 、 6-Chloro-1,3-dihydroxy-10H-acridin-9-one 、 potassium carbonate 、 碘甲烷 以 丙酮 为溶剂， 反应 3.0h， 以gave the title compound (37 g, 0.13 moles, 65%)的产率得到6-Chloro-1-hydroxy-3-methoxy-10-methyl-10H-acridin-9-one
  参考文献：
  名称：

  N8, n13 -disubstituted quino[4,3,2-kl]acridinium salts as therapeutic agents

  摘要：

  本发明涉及一些具有式（Q-）的N8，N13-二取代喹诺[4,3,2-kl]蒽盐，其抑制端粒酶，其中：p为0至4的整数；q为0至3的整数；r为0至4的整数；每个RA是—H或环取代基；每个RB是—H或环取代基；每个RC是—H或环取代基；RN8是一个氮取代基；RN13是一个氮取代基；而Q是一个阴离子。本发明还涉及包含这种化合物的制药组合物，以及这些化合物和组合物在体内外抑制端粒酶，调节细胞增殖以及治疗增生性疾病（如癌症）中的用途。

  公开号：

  US20040063739A1
• 作为产物：
  描述：

  2-amino-4-chlorobenzoate 、 正己醇 、 对甲苯磺酸 在 petroleum ether 、 二氯甲烷 作用下， 以 petroleum ether 、 水 为溶剂， 反应 2.0h， 以to give the title compound (58.8 g, 0.22 mmol, 83.4%)的产率得到6-Chloro-1,3-dihydroxy-10H-acridin-9-one
  参考文献：
  名称：

  N8, n13 -disubstituted quino[4,3,2-kl]acridinium salts as therapeutic agents

  摘要：

  本发明涉及一些具有式（Q-）的N8，N13-二取代喹诺[4,3,2-kl]蒽盐，其抑制端粒酶，其中：p为0至4的整数；q为0至3的整数；r为0至4的整数；每个RA是—H或环取代基；每个RB是—H或环取代基；每个RC是—H或环取代基；RN8是一个氮取代基；RN13是一个氮取代基；而Q是一个阴离子。本发明还涉及包含这种化合物的制药组合物，以及这些化合物和组合物在体内外抑制端粒酶，调节细胞增殖以及治疗增生性疾病（如癌症）中的用途。

  公开号：

  US20040063739A1

文献信息

• POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS
  申请人：NISHI Tsunehiro

  公开号：US20100062374A1

  公开（公告）日：2010-03-11

  A positive resist composition comprises (A) a resin component which becomes soluble in an alkaline developer under the action of an acid and (B) an acid generator. The resin (A) is a polymer comprising recurring units containing a non-leaving hydroxyl group represented by formula (1) wherein R 1 is H, methyl or trifluoromethyl, X is a single bond or methylene, m is 1 or 2, and the hydroxyl group attaches to a secondary carbon atom. The composition is improved in resolution when processed by lithography.

  一种正性光刻胶组合物包括（A）在酸的作用下在碱性显影剂中变得可溶的树脂组分和（B）酸发生剂。树脂（A）是一种聚合物，包含由式（1）表示的非离去羟基的重复单元，其中R1为H、甲基或三氟甲基，X为单键或亚甲基，m为1或2，并且羟基连接到次级碳原子。当通过光刻工艺处理时，该组合物在分辨率方面得到改善。
• Ester compounds and their preparation, polymers, resist compositions and patterning process
  申请人：Ohashi Masaki

  公开号：US20080008965A1

  公开（公告）日：2008-01-10

  Novel ester compounds having formulae (1) to (4) wherein A 1 is a polymerizable functional group having a carbon-carbon double bond, A 2 is oxygen, methylene or ethylene, R 1 is a monovalent hydrocarbon group, R 2 is H or a monovalent hydrocarbon group, any pair of R 1 and/or R 2 may form an aliphatic hydrocarbon ring, R 3 is a monovalent hydrocarbon group, and n is 0 to 6 are polymerizable into polymers. Resist compositions comprising the polymers as a base resin are thermally stable and sensitive to high-energy radiation, have excellent sensitivity and resolution, and lend themselves to micropatterning with electron beam or deep-UV.

  具有以下化学式（1）至（4）的新酯化合物，其中A1是具有碳-碳双键的可聚合官能团，A2是氧、亚甲基或乙烯基，R1是一价碳氢基团，R2是氢或一价碳氢基团，任意一对R1和/或R2可能形成脂肪烃环，R3是一价碳氢基团，n为0至6，可聚合成聚合物。作为基础树脂的聚合物组成物具有热稳定性，并对高能辐射敏感，具有出色的敏感度和分辨率，并适用于电子束或深紫外微图案化。
• Novel ester compounds, polymers, resist compositions and patterning process
  申请人：——

  公开号：US20040068124A1

  公开（公告）日：2004-04-08

  Novel ester compounds having formula (1) wherein A 1 is a polymerizable functional group having a double bond, A 2 is furandiyl, tetrahydrofurandiyl or oxanorbornanediyl, R 1 and R 2 each are a monovalent hydrocarbon group, or R 1 and R 2 may bond together to form an aliphatic hydrocarbon ring with the carbon atom, and R 3 is hydrogen or a monovalent hydrocarbon group which may contain a hetero atom are polymerizable into polymers. Resist compositions comprising the polymers are sensitive to high-energy radiation, have an improved sensitivity, resolution, and etching resistance, and lend themselves to micropatterning with electron beams or deep-UV rays. 1

  具有式（1）的新型酯化合物，其中A1是具有双键的可聚合官能团，A2是呋喃基，四氢呋喃基或氧杂-去氢萘二基，R1和R2分别是一价碳氢基团，或者R1和R2可以结合形成带有碳原子的脂肪族碳氢环，R3是氢或可以含有杂原子的一价碳氢基团，可以聚合成聚合物。包含这些聚合物的抗蚀剂组合物对高能辐射敏感，具有改善的敏感性、分辨率和蚀刻抗性，并且适用于使用电子束或深紫外线进行微图案制作。
• Ether, polymer, resist composition and patterning process
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US20020161150A1

  公开（公告）日：2002-10-31

  An ether compound of formula (1) is provided wherein R 1 is H or C 1-6 alkyl, R 2 is C 1-6 alkyl, R 3 is H, C 1-15 acyl or C 1-15 alkoxycarbonyl which may be substituted with halogen atoms, k is 0 or 1, m is from 0 to 3, and n is from 3 to 6. The ether compound is polymerized to form a polymer having improved reactivity, robustness and substrate adhesion. A resist composition comprising the polymer as a base resin is sensitive to high-energy radiation, has excellent sensitivity, resolution, and etching resistance, and lends itself to micropatterning with electron beams or deep-UV. 1

  提供了一种化学式为（1）的醚化合物，其中R1为H或C1-6烷基，R2为C1-6烷基，R3为H，C1-15酰基或C1-15烷氧羰基，可以用卤素原子取代，k为0或1，m为0到3，n为3到6。该醚化合物聚合形成具有改进反应性、坚固性和基底附着性的聚合物。以该聚合物为基础树脂的抗蚀剂组合物对高能辐射敏感，具有优异的敏感性、分辨率和蚀刻抵抗性，并适用于电子束或深紫外线微图案化。
• (Meth) acrylate derivative, polymer and photoresist composition having lactone structure, and method for forming pattern by using it
  申请人：——

  公开号：US20010026901A1

  公开（公告）日：2001-10-04

  There are here disclosed a photoresist material for lithography using a light of 220 nm or less which comprises at least a polymer represented by the following formula (2) and a photo-acid generator for generating an acid by exposure: 1 wherein R 1 , R 2 , R 3 and R 5 are each a hydrogen atom or a methyl group; R 4 is an acid-labile group, an alicyclic hydrocarbon group having 7 to 13 carbon atoms, which has an acid labile group, an alicyclic hydrocarbon group having 7 to 13 carbon atoms, which has a carboxyl group, or a hydrocarbon group having 3 to 13 carbon atoms, which has an epoxy group; R 6 is a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, or an alicyclic hydrocarbon group having 7 to 13 carbon atoms, which has a carboxyl group; x, y and z are optional values which meet x+y+z=1, 0

  本发明公开了一种用于使用220纳米或更短波长的光进行光刻的光阻材料，其包括至少一种由以下式（2）表示的聚合物和用于通过曝光产���酸的光酸发生剂： 其中，R1、R2、R3和R5分别为氢原子或甲基基团；R4为酸可裂解基团、具有7至13个碳原子的脂环烃基团，其具有酸可裂解基团、具有7至13个碳原子的脂环烃基团，其具有羧基，或具有3至13个碳原子的烃基团，其具有环氧基团；R6为氢原子、具有1至12个碳原子的烃基团，或具有7至13个碳原子的脂环烃基团，其具有羧基；x、y和z是可选的值，满足x+y+z=1，0≤x≤1，0≤y<1和0≤z<1；聚合物的重均分子量在2000至200000范围内，以及具有由式（3）表示的脂环内酯结构的（甲）丙烯酸酯单元的树脂： 其中，R8为氢原子或甲基基团，R9为具有脂环内酯结构的7至16个碳原子的烃基团。