1-(2-Methylsulfanylpropan-2-yl)-4-propan-2-ylbenzene

• 分子结构分类: 有机化合物 - 脂质和类脂质分子 - 异戊烯醇脂质
• 英文名称: 1-(2-Methylsulfanylpropan-2-yl)-4-propan-2-ylbenzene
• 英文别名: 1-(2-methylsulfanylpropan-2-yl)-4-propan-2-ylbenzene
• 化学式: C₁₃H₂₀S
• 分子量: 208.36
• InChiKey: SPEDTSOXJIUHIK-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.1
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.54
• 拓扑面积：
  25.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

文献信息

• ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
  申请人：FUJIFILM Corporation

  公开号：EP2356517B1

  公开（公告）日：2017-01-25
• [EN] ACTINIC-RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, ACTINIC-RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE FILM, PATTERN FORMATION METHOD, AND ELECTRONIC DEVICE MANUFACTURING METHOD<br/>[FR] COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE AUX RAYONS ACTINIQUES OU SENSIBLE AU RAYONNEMENT, FILM SENSIBLE AUX RAYONS ACTINIQUES OU SENSIBLE AU RAYONNEMENT, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE<br/>[JA] 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法
  申请人：FUJIFILM CORP

  公开号：WO2021131655A1

  公开（公告）日：2021-07-01

  本発明は、特定の環構造を有する繰り返し単位（ａ１）を含有する樹脂（Ａ）と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物（Ｂ）と、活性光線又は放射線の照射により分解して酸捕捉性が低下する特定の化合物（Ｃ）と、を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、上記感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて形成された感活性光線性又は感放射線性樹脂膜、上記感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いるパターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法を提供する。