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(2S,3R)-bicyclo[2.2.1]heptane-2,3-dicarboxylic acid

中文名称
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中文别名
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英文名称
(2S,3R)-bicyclo[2.2.1]heptane-2,3-dicarboxylic acid
英文别名
——
(2S,3R)-bicyclo[2.2.1]heptane-2,3-dicarboxylic acid化学式
CAS
——
化学式
C9H12O4
mdl
——
分子量
184.19
InChiKey
IVVOCRBADNIWDM-CYDAGYADSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    1
  • 重原子数:
    13
  • 可旋转键数:
    2
  • 环数:
    2.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.78
  • 拓扑面积:
    74.6
  • 氢给体数:
    2
  • 氢受体数:
    4

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    (2S,3R)-bicyclo[2.2.1]heptane-2,3-dicarboxylic acid 生成 [(2R,3S)-3-carboxybicyclo[2.2.1]heptane-2-carbonyl]oxy-[(2S,3R)-3-carboxybicyclo[2.2.1]heptane-2-carbonyl]oxytin
    参考文献:
    名称:
    FECHTEL, GUNTER
    摘要:
    DOI:
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文献信息

  • RESIST UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION, PRODUCTION METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME, AND ADDITIVE FOR RESIST UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION
    申请人:Nakajima Makoto
    公开号:US20100210765A1
    公开(公告)日:2010-08-19
    There is provided a composition for forming a resist underlayer film that the adhesion with a resist applied on the resist underlayer film is enhanced and the collapse of a resist pattern is suppressed. A resist underlayer film-forming composition for lithography comprising: a polymer having silicon atoms in the backbone; a compound of a polycyclic structure; and an organic solvent, wherein the compound of a polycyclic structure has at least two carboxyl groups as substituents; the two carboxyl groups are individually bonded to two carbon atoms adjacent to each other forming the polycyclic structure; and the two carboxyl groups both have an endo configuration or an exo configuration, or have a cis configuration.
    提供了一种用于形成抗蚀底层膜的组合物,其增强了与施加在抗蚀底层膜上的抗蚀剂的粘附性并抑制了抗蚀图案的崩溃。一种用于光刻的抗蚀底层膜形成组合物,包括:具有硅原子的聚合物骨架;多环结构的化合物;和有机溶剂,其中,多环结构的化合物具有至少两个羧基作为取代基;这两个羧基分别与相邻的两个碳原子形成多环结构的键合;这两个羧基都具有内向构型或外向构型,或具有顺式构型。
  • PROCESS FOR PRODUCING t-BUTYL ESTERS OF BRIDGED-RING POLYCARBOXYLIC ACIDS
    申请人:Daicel Chemical Industries, Ltd.
    公开号:EP1148043A1
    公开(公告)日:2001-10-24
    In a process of the present invention for producing a bridged cyclic polycarboxylic acid t-butyl ester, a bridged cyclic polycarboxylic halide of following Formula (1): (wherein ring Z is a bridged cyclic carbon ring; X is a halogen atom; and m denotes an integer of 2 or more, where ring Z may have a substituent) is allowed to react with t-butyl alcohol or its alkali metal salt to thereby yield an ester of following Formula (2): (wherein tBu is a t-butyl group; and ring Z and m have the same meanings as defined above.) This process can commercially efficiently produce a bridged cyclic polycarboxylic acid t-butyl ester. The compound of Formula (1) can be prepared by allowing a bridged cyclic polycarboxylic acid of following Formula (3): (wherein ring Z is a bridged cyclic carbon ring; and m denotes an integer of 2 or more, where ring Z may have a substituent) to react with a halogenating agent.
    在本发明生产桥式环状多羧酸叔丁酯的工艺中,如下式(1)的桥式环状多羧酸卤化物: (其中,环 Z 是桥接环状碳环;X 是卤素原子;m 表示 2 或 2 以上的整数,其中环 Z 可具有取代基)与叔丁醇或其碱金属盐反应,生成下式(2)的酯: (其中 tBu 为叔丁基;环 Z 和 m 的含义与上文定义相同)。这种工艺可以商业化地高效生产桥式环状多羧酸叔丁酯。式(1)的化合物可以通过让下式(3)的桥连环状多羧酸来制备: (其中环 Z 是桥接环状碳环;m 表示 2 或 2 以上的整数,其中环 Z 可具有取代基)与卤化剂反应。
  • Process for extruding polypropylene
    申请人:Milliken & Company
    公开号:US10711115B2
    公开(公告)日:2020-07-14
    A process for extruding polypropylene comprising extruding a composition comprising a polypropylene and a second acid scavenger and less than about 10 ppm of a nucleating agent.
    一种挤压聚丙烯的工艺,包括挤压一种组合物,该组合物包括聚丙烯和第二种酸清除剂以及小于约 10 ppm 的成核剂。
  • FECHTEL, GUNTER
    作者:FECHTEL, GUNTER
    DOI:——
    日期:——
  • NUCLEATING AGENT ADDITIVE COMPOSITIONS AND METHODS
    申请人:Milliken & Company
    公开号:EP1991612B1
    公开(公告)日:2009-12-23
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