1-(2-ethoxyphenyl)-1H-pyrazole

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 唑类
• 英文名称: 1-(2-ethoxyphenyl)-1H-pyrazole
• 英文别名: 1-(2-Ethoxyphenyl)pyrazole；1-(2-ethoxyphenyl)pyrazole
• 化学式: C₁₁H₁₂N₂O
• 分子量: 188.229
• InChiKey: AKLZYNAAYDSVAP-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.2
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.18
• 拓扑面积：
  27
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  吡唑 、 苯乙醚 在 四丁基醋酸铵 、 三氟乙酸 作用下， 以 2,2,2-三氟乙醇 为溶剂， 反应 4.0h， 以62%的产率得到1-(2-ethoxyphenyl)-1H-pyrazole
  参考文献：
  名称：

  三氟乙酸通过电化学对芳香族C–H键进行区域选择性邻氨基化

  摘要：

  三氟乙酸促进的烷氧基芳烃的邻氨基化已通过阳极氧化在一个未分裂的电池中进行。在没有任何其他金属或氧化剂的情况下，已经合成了一系列芳香族和杂芳香族胺衍生物，收率良好。我们的发现揭示了实现简单芳烃的完全邻位选择性胺化的可能性，这是用于简便且大规模有机合成的有效途径。

  DOI：

  10.1021/acs.orglett.9b01910

文献信息

• HETEROCYCLIC INHIBITORS OF MCT4
  申请人：Vettore, LLC

  公开号：US20190112275A1

  公开（公告）日：2019-04-18

  Disclosed herein are compounds and compositions useful in the treatment of MCT4 mediated diseases, such as proliferative and inflammatory diseases, having the structure of Formula I: Methods of inhibition MCT4 activity in a human or animal subject are also provided.
• USE OF A CHEMICAL MECHANICAL POLISHING (CMP) COMPOSITION FOR POLISHING OF COBALT COMPRISING SUBSTRATES
  申请人：BASF SE

  公开号：US20210102093A1

  公开（公告）日：2021-04-08

  A chemical mechanical polishing composition may be used for chemical mechanical polishing of a substrate including (i) cobalt and/or (ii) a cobalt alloy and (iii) TiN and/or TaN, wherein the CMP composition includes (A) inorganic particles (B) at least one organic compound including an amino-group and an acid group, the compound including n amino groups and at least n+1 acidic protons, a being a integer ≥1; (C) at least one oxidizer in an amount of from 0.2 to 2.5 wt.-% based on the total weight of the MP composition; and (D) an aqueous medium. The CMP composition may have a pH of more than 6 and less than 9.