1-(2-tetrahydrofuranyl)cyclopentanol

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: 1-(2-tetrahydrofuranyl)cyclopentanol
• 英文别名: 1-(oxolan-2-yl)cyclopentan-1-ol
• 化学式: C₉H₁₆O₂
• 分子量: 156.225
• InChiKey: YRFBNNUJAYITGP-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1
• 重原子数：
  11
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  29.5
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1-(2-tetrahydrofuranyl)cyclopentanol 、 丙烯酰氯 在 4-二甲氨基吡啶 、 三乙胺 作用下， 以 甲苯 为溶剂， 反应 1.0h， 以80%的产率得到1-(2-tetrahydrofuranyl)cyclopentyl acrylate
  参考文献：
  名称：

  Novel ester compounds, polymers, resist compositions and patterning process

  摘要：

  具有式（1）的新型酯化合物，其中A1是具有双键的可聚合官能团，A2是呋喃基，四氢呋喃基或氧杂-去氢萘二基，R1和R2分别是一价碳氢基团，或者R1和R2可以结合形成带有碳原子的脂肪族碳氢环，R3是氢或可以含有杂原子的一价碳氢基团，可以聚合成聚合物。包含这些聚合物的抗蚀剂组合物对高能辐射敏感，具有改善的敏感性、分辨率和蚀刻抗性，并且适用于使用电子束或深紫外线进行微图案制作。

  公开号：

  US20040068124A1
• 作为产物：
  描述：

  1,4-二溴丁烷 、 2-四氢糠酸乙酯 在 magnesium 、 水 、 氯化铵 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 反应 2.0h， 生成 1-(2-tetrahydrofuranyl)cyclopentanol
  参考文献：
  名称：

  Novel ester compounds, polymers, resist compositions and patterning process

  摘要：

  具有式（1）的新型酯化合物，其中A1是具有双键的可聚合官能团，A2是呋喃基，四氢呋喃基或氧杂-去氢萘二基，R1和R2分别是一价碳氢基团，或者R1和R2可以结合形成带有碳原子的脂肪族碳氢环，R3是氢或可以含有杂原子的一价碳氢基团，可以聚合成聚合物。包含这些聚合物的抗蚀剂组合物对高能辐射敏感，具有改善的敏感性、分辨率和蚀刻抗性，并且适用于使用电子束或深紫外线进行微图案制作。

  公开号：

  US20040068124A1

文献信息

• Ester compounds, polymers, resist compositions and patterning process
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US07132215B2

  公开（公告）日：2006-11-07

  Novel ester compounds having formula (1) wherein A1 is a polymerizable functional group having a double bond, A2 is furandiyl, tetrahydrofurandiyl or oxanorbornanediyl, R1 and R2 each are a monovalent hydrocarbon group, or R1 and R2 may bond together to form an aliphatic hydrocarbon ring with the carbon atom, and R3 is hydrogen or a monovalent hydrocarbon group which may contain a hetero atom are polymerizable into polymers. Resist compositions comprising the polymers are sensitive to high-energy radiation, have an improved sensitivity, resolution, and etching resistance, and lend themselves to micropatterning with electron beams or deep-UV rays.

  具有式（1）的新型酯化合物，其中A1是具有双键的可聚合官能团，A2是呋喃基，四氢呋喃基或氧杂莽环基，R1和R2各自是一价的碳氢基团，或者R1和R2可以结合形成带有碳原子的脂肪族碳氢环，R3是氢或者可能含有杂原子的一价碳氢基团，可以聚合成聚合物。含有这些聚合物的抗蚀剂组合物对高能辐射敏感，具有更好的敏感度、分辨率和蚀刻抵抗性，并适用于电子束或深紫外线微细图案化。
• US7132215B2
  申请人：——

  公开号：US7132215B2

  公开（公告）日：2006-11-07
• US7449479B2
  申请人：——

  公开号：US7449479B2

  公开（公告）日：2008-11-11
• Novel ester compounds, polymers, resist compositions and patterning process
  申请人：——

  公开号：US20040068124A1

  公开（公告）日：2004-04-08

  Novel ester compounds having formula (1) wherein A 1 is a polymerizable functional group having a double bond, A 2 is furandiyl, tetrahydrofurandiyl or oxanorbornanediyl, R 1 and R 2 each are a monovalent hydrocarbon group, or R 1 and R 2 may bond together to form an aliphatic hydrocarbon ring with the carbon atom, and R 3 is hydrogen or a monovalent hydrocarbon group which may contain a hetero atom are polymerizable into polymers. Resist compositions comprising the polymers are sensitive to high-energy radiation, have an improved sensitivity, resolution, and etching resistance, and lend themselves to micropatterning with electron beams or deep-UV rays. 1

  具有式（1）的新型酯化合物，其中A1是具有双键的可聚合官能团，A2是呋喃基，四氢呋喃基或氧杂-去氢萘二基，R1和R2分别是一价碳氢基团，或者R1和R2可以结合形成带有碳原子的脂肪族碳氢环，R3是氢或可以含有杂原子的一价碳氢基团，可以聚合成聚合物。包含这些聚合物的抗蚀剂组合物对高能辐射敏感，具有改善的敏感性、分辨率和蚀刻抗性，并且适用于使用电子束或深紫外线进行微图案制作。