1-ethylcyclopentyl 2-bromoacetate

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: 1-ethylcyclopentyl 2-bromoacetate
• 英文别名: (1-Ethyl)cyclopentyl bromoacetate；(1-ethylcyclopentyl) 2-bromoacetate
• 化学式: C₉H₁₅BrO₂
• 分子量: 235.121
• InChiKey: ILIDXWFIWYSBFJ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.9
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.89
• 拓扑面积：
  26.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1-ethylcyclopentyl 2-bromoacetate 在 caesium carbonate 作用下， 以 二氯甲烷 、 水 、 N,N-二甲基甲酰胺 、 乙腈 为溶剂， 生成 5-(4-(2-(1-ethylcyclopentyloxy)-2-oxoethoxy)-3,5-dimethylphenyl)-5H-dibenzo[b,d]thiophenium 1,1-difluoro-2-(methacryloyloxy)ethanesulfonate
  参考文献：
  名称：

  Acid generators and photoresists comprising same

  摘要：

  提供了一种特别适用于光刻胶组分的酸发生剂化合物。首选的酸发生剂包括含有共价连接的酸敏感基团的环状硫铵化合物。

  公开号：

  US08945814B2
• 作为产物：
  描述：

  1-乙基环丙醇 、 溴乙酰溴 在 吡啶 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 以84%的产率得到1-ethylcyclopentyl 2-bromoacetate
  参考文献：
  名称：

  Acid generators and photoresists comprising same

  摘要：

  提供了一种特别适用于光刻胶组分的酸发生剂化合物。首选的酸发生剂包括含有共价连接的酸敏感基团的环状硫铵化合物。

  公开号：

  US08945814B2
• 作为试剂：
  描述：

  4-乙炔苯酚 、 、 potassium carbonate 、 乙酸乙酯 在 1-ethylcyclopentyl 2-bromoacetate 、 碘化钠 水 、 正己烷 、 丙二醇甲醚醋酸酯 作用下， 以 二甲基亚砜 、 ice water 、 水 、 溶剂黄146 为溶剂， 反应 4.0h， 以to obtain 102.1 g of a PGMEA solution (34.6 mass %) of Resin (P-9)的产率得到丙二醇甲醚醋酸酯
  参考文献：
  名称：

  ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM USING THE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD

  摘要：

  一种感光树脂组合物，其包括（P）一种具有以下式（1）所表示的重复单元的树脂，使用该组合物的光阻膜以及一种图案形成方法。

  公开号：

  US20120301817A1

文献信息

• Pattern forming method, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and resist film
  申请人：FUJIFILM CORPORATION

  公开号：US10248019B2

  公开（公告）日：2019-04-02

  A pattern forming, method, includes: (i) forming a film from an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition that contains (A) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation and decomposing by an action of an acid to decrease a solubility of the compound (A) for an organic solvent; (ii) exposing the film; and (iii) performing development by using a developer containing an organic solvent.

  一种形成图案的方法包括：(i) 使用一种含有（A）一种能够在受到光或辐射照射时生成酸并通过酸的作用分解以降低该化合物（A）对有机溶剂的溶解度的光敏或辐射敏感树脂组合物形成薄膜；(ii) 曝光薄膜；和(iii) 使用含有有机溶剂的显影剂进行显影。
• MONOMERS, POLYMERS AND LITHOGRAPHIC COMPOSITIONS COMPRISING SAME
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials LLC

  公开号：US20190202955A1

  公开（公告）日：2019-07-04

  New monomer and polymer materials that comprise one or more Te atoms. In one aspect, tellurium-containing monomers and polymers are provided that are useful for Extreme Ultraviolet Lithography.

  提供了一种包含一个或多个碲原子的新单体和聚合物材料。在一个方面，提供了含碲的单体和聚合物，这些材料对于极紫外光刻技术非常有用。
• PHOTORESISTS COMPRISING MULTIPLE ACID GENERATOR COMPOUNDS
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials LLC

  公开号：US20140080062A1

  公开（公告）日：2014-03-20

  The present invention relates to new photoresist compositions that comprise (a) a polymer comprising an acid generator bonded thereto; and (b) an acid generator compound that is not bonded to the polymer and that comprises one or more acid-labile groups.

  本发明涉及一种新的光刻胶组合物，其包括（a）聚合物，其中与之结合的是酸发生剂；以及（b）未与聚合物结合且包含一个或多个酸敏感基团的酸发生剂化合物。
• ACID GENERATOR COMPOUNDS AND PHOTORESISTS COMPRISING SAME
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials LLC

  公开号：US20140080060A1

  公开（公告）日：2014-03-20

  Acid generator compounds are provided that are particularly useful as a photoresist composition component. In one preferred aspect, cyclic sulfonium salt and photoresist compositions that comprise such compounds are provided. In another preferred aspect, acid generator compounds are provided that comprise one or more covalently linked acid-labile moieties, particularly ester-containing acid-labile moieties.

  提供了一种酸生成化合物，特别适用于作为光阻组分。在一个首选方面，提供了环状硫鎓盐和包含这种化合物的光阻组合物。在另一个首选方面，提供了酸生成化合物，其中包含一个或多个共价连接的酸不稳定基团，特别是含酯基的酸不稳定基团。
• Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film using the composition and pattern forming method
  申请人：Inasaki Takeshi

  公开号：US08735048B2

  公开（公告）日：2014-05-27

  An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprising (P) a resin having a repeating unit represented by the following formula (1), a resist film using the composition, and a pattern forming method.

  一种感光树脂组合物，它是一种紫外线或辐射敏感的树脂组合物，包括(P)具有以下公式（1）所表示的重复单元的树脂，使用该组合物的光阻膜，以及形成图案的方法。