六甲醇基三聚氰胺 | 531-18-0

• 物质功能分类: 有机原料 - 杂环化合物
• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氮化合物
• 中文名称: 六甲醇基三聚氰胺
• 中文别名: 三聚氰胺六甲醇
• 英文名称: hexa(hydroxymethyl)melamine
• 英文别名: hexamethylol melamine；2,4,6-Tris--1,3,5-triazin；Hexamethylolmelamine；[[4,6-bis[bis(hydroxymethyl)amino]-1,3,5-triazin-2-yl]-(hydroxymethyl)amino]methanol
• CAS: 531-18-0
• 化学式: C₉H₁₈N₆O₆
• 分子量: 306.279
• InChiKey: YGCOKJWKWLYHTG-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  150℃
• 沸点：
  446.9°C (rough estimate)
• 密度：
  1.3601 (rough estimate)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -2.2
• 重原子数：
  21
• 可旋转键数：
  9
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.67
• 拓扑面积：
  170
• 氢给体数：
  6
• 氢受体数：
  12

安全信息

• 海关编码：
  2933699090
• 储存条件：
  2-8°C

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  六甲醇基三聚氰胺 在 氨 作用下， 以 甲醇 为溶剂， 50.0~60.0 ℃ 、152.0 kPa 条件下， 反应 2.0h， 生成 2-N,2-N,4-N,4-N,6-N,6-N-hexakis(aminomethyl)-1,3,5-triazine-2,4,6-triamine
  参考文献：
  名称：

  [EN] MULTI-FUNCTIONAL ACRYLATES
  [FR] ACRYLATES MULTIFONCTIONNELS

  摘要：

  本文披露了酚类和三聚氰胺化合物的衍生物，以及制备这些衍生物的方法和使用它们的方法。这些化合物包括具有多功能丙烯酸酯基团、聚乙二醇和氨基团的酚类和三聚氰胺化合物。这些化合物可以固化形成树脂，可用于各种应用，如涂料、水凝胶、聚丙烯酸酯超吸水聚合物（SAP）、粘合剂、复合材料、密封剂、填料、阻燃剂、交联剂等。

  公开号：

  WO2014126625A1
• 作为产物：
  描述：

  聚合甲醛 、 三聚氰胺 在 sodium hydroxide 作用下， 以 水 为溶剂， 生成 六甲醇基三聚氰胺
  参考文献：
  名称：

  多站点相转移催化剂催化的绿色区域选择性氮杂叠氮催化

  摘要：

  使用α，α'，α” -N-己基（三乙基氯化铵）-三聚氰胺作为水中的多位相转移催化剂，可以轻松地从环氧化物中合成1,2-叠氮醇。通过这种环保且高度原子经济的方法，可以高收率，极佳的区域选择性和较短的反应时间获得各种1,2-叠氮基醇。还研究了这种六位PTC在氰化物，乙酸盐和氯离子的环氧化合物开环中的应用。反应完成后可以回收催化剂，并且可以循环使用而不影响催化性能。

  DOI：

  10.1002/jccs.200900088

文献信息

• COMPOUND OR ITS TAUTOMER, METAL COMPLEX COMPOUND, COLORED PHOTOSENSITIVE CURING COMPOSITION, COLOR FILTER, AND PRODUCTION
  申请人：MIZUKAWA Yuki

  公开号：US20120238752A1

  公开（公告）日：2012-09-20

  Provided is a colored photosensitive curing composition useful for color filters in primary colors, including blue, green, and red, having a high molar absorption coefficient and allowing a reduction in film thickness and superior color purity and fastness. A colored photosensitive curing composition, comprising, as its colorant, a dipyrromethene-based metal complex compound obtained from a metal or metal compound and a dipyrromethene-based compound represented by the following Formula (I): wherein in Formula (I), R 1 to R 6 each independently represent a hydrogen atom or a substituent group; and R 7 represents a hydrogen or halogen atom, or an alkyl, aryl or heterocyclic group.

  提供的是一种有用于原色彩色滤光片的彩色光敏固化组合物，包括蓝色、绿色和红色，具有高摩尔吸收系数，可减少薄膜厚度，具有优越的颜色纯度和牢固度。 一种彩色光敏固化组合物，包括作为其着色剂的从金属或金属化合物获得的基于二吡咯甲烷的金属配合物化合物和由以下式（I）表示的基于二吡咯甲烷的化合物，其中在式（I）中，R1至R6各自独立地表示氢原子或取代基；R7表示氢或卤素原子，或烷基、芳基或杂环基。
• BASIC COMPOUND, CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Hatakeyama Jun

  公开号：US20120141938A1

  公开（公告）日：2012-06-07

  A chemically amplified resist composition comprising a base polymer, an acid generator, and an amine quencher in the form of a β-alanine, γ-aminobutyric acid or 5-aminovaleric acid derivative having an acid labile group-substituted carboxyl group has a high contrast of alkaline dissolution rate before and after exposure and forms a pattern of good profile at a high resolution, minimal roughness and wide focus margin.

  一种化学放大型光刻胶组合物，包括基础聚合物、酸发生剂和胺淬灭剂，后者为β-丙氨酸、γ-氨基丁酸或5-氨基戊酸的衍生物，具有一个被酸不稳定基团所取代的羧基，这种组合物在曝光前后具有高对比度的碱性溶解速率，并且能够形成高分辨率、最小粗糙度和宽焦深度的良好图案轮廓。
• NOVOLAC RESIN AND RESIST FILM
  申请人：DIC Corporation

  公开号：US20180334523A1

  公开（公告）日：2018-11-22

  Provided are a novolac resin having developability, heat resistance, and dry etching resistance, and a photosensitive composition, a curable composition, and a resist film. A novolac resin including, as a repeating unit, a structural moiety represented by Structural Formula (1) or (2): (in the formula, Ar represents an arylene group, R 1 's each independently represent any one of a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, and a halogen atom, m's each independently represent an integer of 1 to 3, and X is any one of a hydrogen atom, a tertiary alkyl group, an alkoxyalkyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, a hetero atom-containing cyclic hydrocarbon group, and a trialkylsilyl group) in which at least one of X's present in the resin is any one of a tertiary alkyl group, an alkoxyalkyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, a hetero atom-containing cyclic hydrocarbon group, and a trialkylsilyl group.

  提供一种具有可开发性、耐热性和干法蚀刻抗性的新戊醛树脂，以及一种光敏组合物、可固化组合物和抗蚀膜。一种新戊醛树脂包括以下结构单元： （在公式中，Ar代表芳基，R 1 分别独立地代表氢原子、烷基、烷氧基和卤素原子中的任意一种，m分别独立地代表1至3的整数，X代表氢原子、三级烷基、烷氧基烷基、酰基、烷氧羰基、含杂原子的环烃基和三烷基硅基中的任意一种），树脂中至少有一个X是三级烷基、烷氧基烷基、酰基、烷氧羰基、含杂原子的环烃基和三烷基硅基中的任意一种。
• COMPOUND, RESIN, MATERIAL FOR FORMING UNDERLAYER FILM FOR LITHOGRAPHY, UNDERLAYER FILM FOR LITHOGRAPHY, PATTERN FORMING METHOD, AND METHOD FOR PURIFYING THE COMPOUND OR RESIN
  申请人：Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.

  公开号：US20170073288A1

  公开（公告）日：2017-03-16

  The compound according to the present invention is represented by a specific formula. The compound according to the present invention has a structure according to the specific formula, and therefore can be applied to a wet process and is excellent in heat resistance and etching resistance. In addition, the compound according to the present invention has such a specific structure, and therefore has a high heat resistance, a relatively high carbon concentration, a relatively low oxygen concentration and also a high solvent solubility. Therefore, the compound according to the present invention can be used to form an underlayer film whose degradation is suppressed at high-temperature baking and which is also excellent in etching resistance to oxygen plasma etching or the like. Furthermore, the compound is also excellent in adhesiveness with a resist layer and therefore can form an excellent resist pattern.

  根据本发明，该化合物由特定的公式表示。根据本发明，该化合物具有特定公式的结构，因此可应用于湿法工艺，具有优异的耐热性和耐蚀性。此外，根据本发明，该化合物具有特定结构，因此具有高耐热性、相对较高的碳浓度、相对较低的氧浓度以及高溶剂溶解性。因此，根据本发明的化合物可用于形成在高温烘烤时降解受抑制且在氧等离子体蚀刻中具有优异耐蚀性的底层膜。此外，该化合物在与光阻层的粘附性方面也表现出色，因此可形成优异的光阻图案。
• Resist lower-layer composition containing thermal acid generator, resist lower layer film-formed substrate, and patterning process
  申请人：Ohsawa Youichi

  公开号：US20100119970A1

  公开（公告）日：2010-05-13

  There is disclosed a resist lower-layer composition configured to be used by a multi-layer resist method used in lithography to form a layer lower than a photoresist layer acting as a resist upper layer film, wherein the resist lower-layer composition becomes insoluble or poorly-soluble in an alkaline developer after formation of the lower layer, and wherein the resist lower-layer composition comprises, at least, a thermal acid generator for generating an acid represented by the general formula (1) by heating at a temperature of 100° C. or higher. RCOO—CH 2 CF 2 SO 3 − H + (1) There can be provided a resist lower-layer composition in a multi-layer resist method (particularly, a two-layer resist method and a three-layer resist method), which composition is used to form a layer lower than a photoresist layer acting as a resist upper layer film, which composition becomes insoluble or poorly-soluble in an alkaline developer after formation of the lower layer, and which composition is capable of forming a resist lower layer film, intermediate-layered film, and the like having a higher anti-poisoning effect and exhibiting a lower load to the environment.

  揭示了一种抗性下层组合物，配置为在光刻中使用的多层抗性方法中使用，用于形成低于作为抗性上层膜的光刻胶层的一层，其中抗性下层组合物在形成下层后变得不溶解或难溶解于碱性显影剂中，且抗性下层组合物至少包括用于通过在100°C或更高温度下加热生成由通式（1）表示的酸的热酸发生剂。 可以提供一种抗性下层组合物，用于多层抗性方法（特别是双层抗性方法和三层抗性方法），该组合物用于形成低于作为抗性上层膜的光刻胶层的一层，该组合物在形成下层后变得不溶解或难溶解于碱性显影剂中，并且该组合物能够形成具有更高抗毒性效果并表现出对环境负荷较低的抗性下层膜、中间层膜等。