双环[2.2.2]辛-2-烯-7-醇 | 55320-40-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 中文名称: 双环[2.2.2]辛-2-烯-7-醇
• 英文名称: bicyclo<2.2.2>oct-5-en-2-ol
• 英文别名: Bicyclo<2.2.2>octen-(5)-ol-(2ξ)；Bicyclo[2.2.2]oct-5-en-2-ol
• CAS: 55320-40-6
• 化学式: C₈H₁₂O
• 分子量: 124.183
• InChiKey: KEXYAVHJBNJUCG-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.4
• 重原子数：
  9
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.75
• 拓扑面积：
  20.2
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  1

安全信息

• 海关编码：
  2906199090

上下游信息

• 上游原料

  中文名称	英文名称	CAS号	化学式	分子量
  ——	Bicyclo[2.2.2]oct-5-en-2-yl acetate	34020-37-6	C10H14O2	166.22

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  双环[2.2.2]辛-2-烯-7-醇 在 palladium on activated charcoal 氢气 作用下， 以 乙酸乙酯 为溶剂， 生成 exo-bicyclo<2.2.2.>octan-2-ol
  参考文献：
  名称：

  外-和内-双环[3,2,1]辛烷-6-甲苯-p-磺酸盐的溶剂分解行为

  摘要：

  的缓冲乙酰解外-双环[3,2,1]辛烷-6-甲苯p -磺酸盐（12; R = OTS）已经发现，得到外-2-二环[3,2,1]辛基，乙酸40％（16; R = OAc），乙酸2-双环[2,2,2]辛酯，44％（17; R = OAc），和exo -6-双环[3,2,1]乙酸辛酯，16 ％（12; R = OAc），而相应的内在-6异构体（13; R = OTs）给出（16; R = OAc），19％，（17; R = OAc），21％和（12 ； R = OAc），60％。根据迄今未观察到的双环[3,2,1]中的4,6-氢化物位移，讨论了这些结果以及通过类似处理三环[3,2,1,0 2,7 ]辛烷获得的结果的重要性。辛烷骨架。

  DOI：

  10.1039/j39680001716
• 作为产物：
  描述：

  3,4,4a,5,6,7,8,8a-octahydro-3,7-cyclo-cinnoline 在 二苯甲酮 氧气 、 三苯基膦 作用下， 以 乙醚 、 苯 为溶剂， 生成 双环[2.2.2]辛-2-烯-7-醇
  参考文献：
  名称：

  紫外激光光化学：从偶氮烷4,5-二氮杂三环[4.4.0.03,8] dec-4-ene挤出氮气。终生测定通过双氧捕集双环[2.2.2] Octa-2,5-二基。

  摘要：

  通过双氧捕集测定由4,5-二氮杂双环四烯（）的敏化激光光解产生的双环[2.2.2] octa-2,5 -diyl （）的三重态寿命。因此，它构成了第一个可以被捕获的局部双环三重态1，4-双自由基。尽管它的刚性，它拥有一个令人惊讶的短的寿命（3 τ约1纳秒）。

  DOI：

  10.1016/s0040-4039(00)82408-9

文献信息

• Syntheses with organoboranes. IX. Vinyl- and 1-alkenyldichloroboranes as ethylene and 1-alkene equivalents for the Diels–Alder reaction
  作者：Marek Zaidlewicz、Jacek R Binkul、Wojciech Sokół

  DOI：10.1016/s0022-328x(98)01175-9

  日期：1999.5

  Vinyl- and 1-alkenyldichloroboranes were used as dienophiles for the Diels–Alder reaction with representative aliphatic and cyclic 1,3-dienes. The organoborane adducts were transformed into the corresponding olefins either by protonolysis or by oxidation–mesylation–reduction. Direct protonolysis of the adducts gave in most cases mixtures of olefins whereas the reduction of mesylates with lithium triethylborohydride

  乙烯基和1-烯基二氯硼烷被用作与亲脂性和环状1,3-二烯代表的狄尔斯-阿尔德反应的亲二烯体。有机硼烷加合物通过质子分解或氧化-甲磺酰化-还原转化为相应的烯烃。在大多数情况下，加合物的直接质子分解得到烯烃的混合物，而用三乙基硼氢化锂还原甲磺酸酯则可得到高纯度的纯烯烃。
• Alkylhalovinylboranes: a new class of Diels–Alder dienophiles
  作者：Pablo L. Pisano、Silvina C. Pellegrinet

  DOI：10.1039/c8ra07089j

  日期：——

  The Diels–Alder reactions of alkylhalovinylboranes have been investigated theoretically and experimentally. Alkylhalovinylboranes presented higher reactivity than the corresponding dialkylvinylboranes. Although endo/exo selectivities were high for the reactions with cyclopentadiene, facial selectivities for the chiral analogues were low. Our results demonstrate that the replacement of an alkyl group

  烷基卤乙烯基硼烷的 Diels-Alder 反应已在理论上和实验上进行了研究。烷基卤代乙烯基硼烷比相应的二烷基乙烯基硼烷具有更高的反应性。尽管与环戊二烯反应的内/外选择性很高，但手性类似物的面部选择性却很低。我们的结果表明，硼原子上的烷基被卤素取代会显着增加亲二烯性。
• Heteroaryl fused azapolycyclic compounds
  申请人：Allen P. Martin

  公开号：US20050020830A1

  公开（公告）日：2005-01-27

  The present invention provides a compound having the structure of formula I: wherein R 1 is hydrogen, (C 1 -C 6 ) alkyl, unconjugated (C 3 -C 6 ) alkenyl, benzyl, YC(═O)(C 1 -C 6 ) alkyl or —CH 2 CH 2 —O—(C 1 -C 4 ) alkyl; X is CH 2 or CH 2 CH 2 ; Y is (C 2 -C 6 ) alkylene; Z is (CH 2 ) m , CF 2 , or C(═O), where m is 0, 1 or 2; R 2 and R 3 are selected independently from hydrogen, halogen, —(C 1 -C 6 ) alkyl optionally substituted with from 1 to 7 halogen atoms, and —O(C 1 -C 6 ) alkyl optionally substituted with from 1 to 7 halogen atoms, or R 2 and R 3 each together with the atom to which it is connected independently form C(═O), S→O, S(═O) 2 , or N→O; and is a 5- to 7-membered monocyclic heteroaryl group selected from pyridinyl, pyridone, pyridazinyl, imidazolyl, pyrimidinyl, pyrazolyl, triazolyl, pyrazinyl, furyl, thienyl, isoxazolyl, thiazolyl, oxazolyl, isothiazolyl, pyrrolyl, cinnolinyl, triazinyl, oxadiazolyl, thiadiazolyl and furazanyl groups.

  本发明提供了一种具有以下结构的化合物：其中R1为氢、(C1-C6)烷基、非共轭(C3-C6)烯基、苄基、YC(═O)(C1-C6)烷基或—CH2CH2—O—(C1-C4)烷基；X为CH2或CH2CH2；Y为(C2-C6)亚烯基；Z为(CH2)m、CF2或C(═O)，其中m为0、1或2；R2和R3分别选择自氢、卤素、—(C1-C6)烷基（可选地取代1至7个卤素原子）、和—O(C1-C6)烷基（可选地取代1至7个卤素原子），或者R2和R3每个与其连接的原子独立地形成C(═O)、S→O、S(═O)2或N→O；和为从吡啶基、吡啶酮基、吡啶嗪基、咪唑基、嘧啶基、吡唑基、三唑基、吡嗪基、呋喃基、噻吩基、异噁唑基、噁唑基、异硫咪唑基、吡咯基、喹啉基、三嗪基、噁二唑基、噻二唑基和呋喃基组成的5-至7-环单环杂芳基。
• Novel polymers for photoresist and photoresist compositions using the same
  申请人：Hyundai Electronics Industries Co., Ltd.

  公开号：US20030191259A1

  公开（公告）日：2003-10-09

  The present invention relates to photoresist monomers, polymers formed therefrom and photoresist compositions suitable for photolithography processes employing a DUV light source, such as KrF (249 nm) and ArF(193 nm); EUV; VUV; E-beam; ion-beam; and X-ray. Photoresist monomers of the present invention are represented by the following Chemical Formula 1: 1 wherein, m is 1 or 2. Polymers of the present invention comprise repeating units derived from the comonomer of Chemical Formula 1, preferably together with monomers of the following Chemical Formula 2: 2 wherein, R* is an acid-labile group, and l is 1 or 2.

  本发明涉及光阻单体、由其形成的聚合物和适用于使用DUV光源（如KrF（249 nm）和ArF（193 nm））、EUV、VUV、电子束、离子束和X射线的光刻工艺的光阻组合物。本发明的光阻单体由以下化学式1表示：其中，m为1或2。本发明的聚合物包括由化学式1的共聚单体衍生的重复单元，与以下化学式2的单体一起，其中R*是酸可降解基团，l为1或2。
• NOVEL POLYMERS FOR PHOTORESIST AND PHOTORESIST COMPOSITIONS USING THE SAME
  申请人：——

  公开号：US20020049287A1

  公开（公告）日：2002-04-25

  The present invention relates to photoresist monomers, polymers formed therefrom and photoresist compositions suitable for photolithography processes employing a DUV light source, such as KrF (249 nm) and ArF(193 nm); EUV; VUV; E-beam; ion-beam; and X-ray. Photoresist monomers of the present invention are represented by the following Chemical Formula 1: 1 wherein, m is 1 or 2. Polymers of the present invention comprise repeating units derived from the comonomer of Chemical Formula 1, preferably together with monomers of the following Chemical Formula 2: 2 wherein, R* is an acid-labile group, and l is 1 or 2.

  本发明涉及光阻单体、由其形成的聚合物以及适用于使用DUV光源（如KrF（249 nm）和ArF（193 nm））、EUV、VUV、电子束、离子束和X射线的光刻工艺的光阻组合物。本发明的光阻单体由以下化学式1表示：其中，m为1或2。本发明的聚合物包括由化学式1的共聚单体衍生的重复单元，与以下化学式2的单体一起构成，其中，R*是酸可降解基团，l为1或2。