1,2,3,4-tetrakis(vinyloxy)butane

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: 1,2,3,4-tetrakis(vinyloxy)butane
• 英文别名: (2S,3R)-1,2,3,4-tetrakis(ethenoxy)butane
• 化学式: C₁₂H₁₈O₄
• 分子量: 226.273
• InChiKey: KUSJRFLMZKVACW-TXEJJXNPSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.8
• 重原子数：
  16
• 可旋转键数：
  11
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.33
• 拓扑面积：
  36.9
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  Erythritol 、 calcium carbide 在 caesium carbonate 作用下， 以 水 、 二甲基亚砜 为溶剂， 反应 3.0h， 生成 1,2,3,4-tetrakis(vinyloxy)butane
  参考文献：
  名称：

  天然酒精及其衍生物与电石直接乙烯基化

  摘要：

  已经开发了一种无过渡金属，温和且安全的规程，用于将各种糖醇，苯酚及其衍生物与电石直接乙烯基化。

  DOI：

  10.1039/c6gc03579e

文献信息

• [EN] ACTINIC RAY-CURABLE INK COMPOSITION AND PRODUCTION METHOD FOR INORGANIC FIRED BODY<br/>[FR] COMPOSITION D'ENCRE DURCISSABLE PAR RAYONNEMENT ACTINIQUE ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN CORPS CUIT INORGANIQUE<br/>[JA] 活性エネルギー線硬化型インク組成物、及び、無機焼成体の製造方法
  申请人：FUJIFILM CORP

  公开号：WO2021005877A1

  公开（公告）日：2021-01-14

  無機顔料、ガラスフリット、分散剤、ラジカル重合性モノマー及びラジカル重合開始剤を含み、ラジカル重合性モノマーの全量に対して６０質量％以上は単官能エチレン性不飽和モノマーであり、無機焼成体を製造するために用いられる活性エネルギー線硬化型インク組成物、及び、無機焼成体の製造方法。
• [EN] INK COMPOSITION FOR INK-JET RECORDING AND METHOD FOR RECORDING IMAGE<br/>[FR] COMPOSITION D'ENCRE POUR IMPRESSION PAR JET D'ENCRE ET PROCÉDÉ D'IMPRESSION D'IMAGE<br/>[JA] インクジェット記録用インク組成物及び画像記録方法
  申请人：FUJIFILM CORP

  公开号：WO2021095372A1

  公开（公告）日：2021-05-20

  フォトクロミック化合物、重合性化合物、及び重合開始剤を含み、重合性化合物の全質量に対して７０質量％以上が、分子量６００以下の重合性化合物であるインクジェット記録用インク組成物及び画像記録方法。
• [EN] INK SET, IMAGE RECORDING METHOD, IMAGE RECORDED PRODUCT, THREE-DIMENSIONAL PRODUCT, AND METHOD FOR PRODUCING SAME<br/>[FR] ENSEMBLE D'ENCRE, PROCÉDÉ D'ENREGISTREMENT D'IMAGE, PRODUIT D'ENREGISTREMENT D'IMAGE, ET PRODUIT EN TROIS DIMENSIONS AINSI QUE PROCÉDÉ DE FABRICATION CE CELUI-CI<br/>[JA] インクセット、画像記録方法、画像記録物、並びに、立体物及びその製造方法
  申请人：FUJIFILM CORP

  公开号：WO2021145062A1

  公开（公告）日：2021-07-22

  エチレン性不飽和化合物及び光重合開始剤を含有し、着色剤を含有しないか又は白色の着色剤を含有する第１インクと、エチレン性不飽和化合物、光重合開始剤、及び着色剤を含有する第２インクと、を備え、第１インクに含有されるエチレン性不飽和化合物の全量中に占める単官能モノマーの割合が９５．０質量％以上であり、第２インクに含有されるエチレン性不飽和化合物の全量中に占める単官能モノマーの割合が９５．０質量％以上であり、第１インクの２５℃における静的表面張力をＴ１とし第２インクの２５℃における静的表面張力をＴ２とした場合に、Ｔ２からＴ１を差し引いた値が１ｍＮ／ｍ以上であるインクセット、並びに、その応用。
• [EN] FLUORINE-CONTAINING ETHER COMPOUND, CURABLE COMPOSITION, CURED FILM, ELEMENT, AND DISPLAY DEVICE<br/>[FR] COMPOSÉ ÉTHER FLUORÉ, COMPOSITION DURCISSABLE, FILM DURCI, ÉLÉMENT, ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE<br/>[JA] 含フッ素エーテル化合物、硬化性組成物、硬化膜、素子、及び表示装置
  申请人：AGC INC

  公开号：WO2022004436A1

  公开（公告）日：2022-01-06

  式（１）で表される含フッ素エーテル化合物。Ａ１及びＡ２は硬化性官能基、ｒ１及びｒ２は１以上の整数、Ｙ１及びＹ２はフッ素原子を有しない連結基、Ｒｆ１はＹ１に結合する炭素原子にフッ素原子が結合したフルオロアルキレン基、Ｒｆ２はＹ２に結合する炭素原子にフッ素原子が結合したフルオロアルキレン基、Ｘはフルオロアルキレン基、ｍは１以上の整数を表し、ｍ個のＸのうち少なくとも１つが、フッ素原子を有する環構造を含む。 式（１）：Ａ１ ｒ１－Ｙ１－Ｒｆ１－（ＯＸ）ｍ－Ｏ－Ｒｆ２－Ｙ２－Ａ２ ｒ２
• [EN] CURABLE COMPOSITION, CURED FILM, CURED FILM PRODUCTION METHOD, ELEMENT, AND DISPLAY DEVICE<br/>[FR] COMPOSITION DURCISSABLE, FILM DURCI AINSI QUE PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CELUI-CI, ÉLÉMENT, ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE<br/>[JA] 硬化性組成物、硬化膜、硬化膜の製造方法、素子及び表示装置
  申请人：AGC INC

  公开号：WO2022004437A1

  公开（公告）日：2022-01-06

  重合性基ａ及びオキシフルオロアルキレン基を有する化合物Ａ、重合開始剤、並びに、重合性基ａとは異なる重合性基を有する化合物Ｂを含み、化合物Ａにおける重合性基ａは、ビニルフェニル基、ビニルフェニルオキシ基、ビニルベンジルオキシ基、ビニルオキシ基、ビニルオキシカルボニル基、ビニルアミノ基、ビニルアミノカルボニル基、ビニルチオ基、アリルオキシ基、アリルオキシカルボニル基、アリルアミノ基、アリルアミノカルボニル基、アリルチオ基、エポキシ基、及びエポキシシクロアルキル基からなる群より選択される少なくとも１種である、硬化性組成物及びその応用。